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相似文献
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1.
EDI在纯水技术中的应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
本文叙述了纯水技术中的一种新兴工艺——EDI系统的出现背景,介绍了EDI工艺的工作原理,并详细介绍了EDI系统的一些特点及相关的设计、维护保养等。  相似文献   

2.
半导体工业中超纯水制备工芤的特点和发展   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍近年来半导体工业中超纯水制备工艺的特点和发展,包括纯水回收系统EDI技术,膜接触器技术等。  相似文献   

3.
闻瑞梅  陈胜利 《电子学报》2001,29(8):1009-1012
本文介绍了溶解氧(DO)以及总有机碳(TOC)对超大规模集成电路(ULSI)用水的污染,并列出了高纯水中TOC的浓度与栅氧化缺陷密度的关系数据.研究了影响水中DO的因素以及用各种方法降低TOC的比较,本文设计了用脱氧膜接触器,降低高纯水中的溶解氧.结合用双级反渗透(RO)及电脱盐(EDI) 再加上185nm紫外光照射高纯水,使高纯水中的溶解氧和TOC分别降至0.6μg/L和0.7μg/L,并用键能理论解释了185nm紫外降低TOC的机理.  相似文献   

4.
《印制电路资讯》2008,(2):38-38
因应环保政策的实施,位于深圳市平湖镇的溢升线路板厂主动投资40多万元,采用世界先进水处理技术循环使用工业废水,该处理工程昨日顺利通过了龙岗区环保局的综合检查验收,该厂近50%的生产用水可循环使用,在业界产生良好的示范作用。为进一步贯彻国家节能减排的方针政策,溢升线路板厂着力推进清洁生产,主动投资40多万元兴建线路板综合清洁废水回用处理工程,采用先进的超滤(UF)工艺和反渗透(RO)工艺技术的有机组合(简称集成膜法IMS)技术,  相似文献   

5.
MOVPE生产用高纯水中硅的去除   总被引:2,自引:1,他引:1       下载免费PDF全文
本文介绍了硅对砷化镓材料生长及有机金属化合物气相淀积(MOVPE)工艺中的影响和电脱盐(EDI)技术以及用EDI降低高纯水中硅浓度的机理和方法,通过大量实验比较不同制水设备脱硅效果,得出用EDI技术严格控制pH(8~11)时脱硅效果最好,能使高纯水中Si的浓度<0.5μg/L,满足了MO源生产及MOVPE工艺用水中Si浓度<3μg/L的需要.  相似文献   

6.
闻瑞梅  范伟  邓守权 《电子学报》2006,34(8):1367-1371
本文研究了用电脱盐(Electrodeionization) EDI,去除高纯水中痕量氨(NH3和NH4+)的新方法.研究高纯水中弱离子化杂质氨的去除及其机理;研究了电流、进水电导率、进水流量和pH等对EDI去除水中氨(NH3和NH4+)的影响,进水氨浓度为208mg/L,经过一级EDI的处理,产品水中的总氨含量为0.072mg/L,对离子态铵也有很好去除效果,对进水中NH4Cl浓度为20mg/L~100mg/L,产品水中铵浓度<0.026mg/L.结果说明这方法是目前处理高纯水中痕量氨最好结果,远远低于太空用水<0.5mg/L的要求.还研究了水中氨在EDI中被去除时的物种形态.  相似文献   

7.
电子商业(EC)、EDI和E-mail等都是借助于先进的电子技术在世界贸易伙伴间传递信息、商务文件和帐务的业务手段。 E-mail将信息传送给对端用户的终端,供用户读取;EDI是应用至应用的通信,不需人为干预,它使商务过程自动化而不仅仅局限于商务通信;EC不仅具备EDI和E-mail的功能,还能综合诸如使用条形码的自动数据捕捉等先进技术,并配以电子广告牌、联机目录等支撑系统。  相似文献   

8.
半导体集成电路集成度对超纯水水质的要求如下表:超纯水制备主要流程:原水→水槽→快速搅拌→慢速搅拌→沉淀槽→多层过滤→水槽→加酸系统(PH值=5)→脱氧器→加热器→过滤器→RO(反渗透)→水槽→混合床→过滤器→纯水槽→紫外杀菌→非再生磨光器→微过滤→超滤→成品水.一系列的预处理措施,对于延长使用寿命,减少清洗次数都起到了不可忽视的作用,从而维持了RO的日产水量和脱盐率.脱盐率  相似文献   

9.
戴珂 《无线电工程》1992,22(5):55-61
本文对EDI在国内外的发展进行了详细的介绍,论证了我国实现EDI所应采用的标准,介绍了CCITTX.435的EDI标准,提出EDI环境的概念,给出了EDI系统模型,提出了EDI的开发方法。  相似文献   

10.
移动EDI体系结构设计是设计与实现移动支付系统的首要基础,总结了目前建立移动EDI系统的关键技术,分析了基于移动EDI技术的电子商务系统应用集成问题,描述了移动EDI通用数据转换构件系统的功能架构与评价指标,论述了基于XML的EDI系统的架构方案,提出了基于Web Service的EDI-XML转换构件的实现算法,该算法可以使移动EDI具有良好的结构化交互功能.  相似文献   

11.
分析了电子数据交换(EDI)与X.400文电处理系统(MHS)的密切关系,探讨了它们互连互通涉及的主要技术。  相似文献   

12.
EDI是不同贸易组织的计算机系统之间交换电子文件的一种先进方法。由于EDI本身的复杂性及牵涉多方面的利害关系,因而不能把EDI简单地看成是经通信网络进行数字传输的纯技术问题。它的复杂性基本上出自以下二点要求。 (1)对EDI有需求(例如用EDI减少文件发送的成本/时间;避免手工处理文件时发生的差错;提高工作效率等)。 (2)由EDI引出的一些问题(如投资、标准化、新的组织形式、对于用新技术手段处理贸  相似文献   

13.
一、电子税收方案比较1EDI方式本方案中纳税申报和税务数据后台传送处理以及税款的电子转账均基于EDI的方式。工作流程:1.企业用户利用纳税资料生成软件产生当月上报表,并启动EDI应用程序选择发送。2.税务局启动EDI接收模块接收所有报表。3.启动EDI发送模块将所有已稽核企业的结果信息发送出去。4.企业启动EDI应用程序接收结果信息。5.如果申报不成功,则根据提示做相应操作重新生成纳税资料,重新发送。如申报成功,企业填写转账单,并提交税务局,税务局再提交到企业的开户行EDI信箱。6.企业开广行从EDI信箱接收到转账单后,…  相似文献   

14.
简述了RO膜分离技术在电解铜箔生产废水回收处理中的应用,特别是对RO膜分离技术的系统组成、工艺特点、技术创新性作了一个较为详细的描述。  相似文献   

15.
对PCB废水总氮的处理,从源头削减、分质收集、分质预处理到末端处理提出了多种方法,着重分析了MAP+管式微滤膜处理氨氮废水、多级组合式RO处理硝态氮废水和A2O+MBR处理综合废水,提出PCB废水总氮达标的组合工艺,项目建成后达到预期效果。  相似文献   

16.
在GSM系统中,待机时间是终端性能指标之一,在市场竞争中,越来越显示出其重要性.对于TD-SCDMA系统而言,终端的省电问题也是一个不可回避的问题,不幸的是目前所有的TD-SCDMA系统终端的省电都不尽人意,要么没有考虑,要么处理得不理想.对于TD-SCDMA系统,根据自身的特点终端省电的处理有一定的方便之处,也有一定的难度.本文将讨论怎样利用协议栈提高终端的待机能力,提高省电性能.  相似文献   

17.
提出一套能够应用到3G手机终端的查询系统.后台利用先进的Hibernate+Spring+Oracle+MVC(JSF/Struts)+Web Service技术架构;客户端:应用美国Sun公司提供的J2ME技术架构提供服务.实现真正的3A模式的移动商务互操作应用系统.因此,该系统设计是一项值得大力推广的B2B互操作应用技术,将企业的业务通过Internet技术和无限通信技术无限地拓展到用户的手机终端,真正实现3A(Anywhere、AnyTime、Anyways)移动商务模式.  相似文献   

18.
EDI电子数据交换已经成为航运公司与海关、供应商、客户之间必不可少的技术手段.中远集运作为国际领先的集装箱航运公司每天处理数十万EDI数据,势必需要一套高效、灵活、稳定的EDI平台.原有的EDI平台由于开发时间较早,各子系统所采用的开发技术不同,难以应对客户、海关业务中的变化.在这样的背景下,公司提出了打造一个健全、可靠、安全、可扩展的公共EDI平台的构想.由于SOA面向服务设计理念的在企业信息化建设中的优势,企业下一代的EDI平台采用了SOA架构设计,利用其松散耦合的特点,打造出高效、可配置的模块和可重用的服务,使得开发效率提升数倍,缩短了交付周期,赢得了用户的满意.  相似文献   

19.
近年来,随着大规模集成电路研制工作的发展,对高纯水中离子、微粒、细菌和胶体都提出了苛刻要求,这些杂质对MOS器件参数和成品率影响极大。在制备高纯水中,除了严格管理和操作之外,还必须选择合理流程和装置。 为了进一步改善我室水质以满足静态4K RAM和动态16KMOSRAM电路研制工作的需要,八二年分别应用电子工业部第十设计院及江苏宜兴超滤设备作为高纯水的后处理。根据永川地区水质状况,选用宜宾D201多孔树脂、采用多级过滤、微滤,超滤和紫外线杀菌等技术作后处理系统。为我室MOS电路研制工作提供了高纯水。  相似文献   

20.
纯水水质之优劣,对荧光屏涂复质量是至关重要的,特别是在无杀菌无超滤设备的前提下尤为突出,前一二年我厂由于纯水制备工艺落后,使沉淀合格率低,荧光屏质量不够理想。八六年我厂引进国外部份关键先进设备与国产设备相配套,通过对纯水制备工艺进行改革,对设备改造等一系列的努力解决了纯水问题,使纯水质量显著提高,达到电子工业部一级纯水标准。荧光屏质量大幅度提高,沉淀合格率稳定在98%以上。我厂从NEC公司引进较先进的自动黑白荧光粉沉淀机及P_4—900K荧光粉,在沉淀工艺上虽然控制很严格。但沉淀合格率始终徘  相似文献   

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