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特种气体是由两大类气体组成的。一类为单元高纯气体,另一类为混合气体。对于单元高纯气体,根据现已收集到的文献,汇总起来共有227种,可分成五个类别。 相似文献
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本刊1983年No.4刊载了“特种气体中单元高纯气体的品种及用途”一文,时隔三年,作者又收集到20多种纯气,现予补充。 相似文献
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新的半导体制造工艺要求高精度 ,具有可再现性的科学化的制造技术 ,因此对超高纯气的供应技术提出了更高要求 相似文献
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0概述一氧化碳、甲烷、二氧化碳是高纯气体产品中普遍控制的杂质,通常采用气相色谱法进行测定。使用热传导鉴定器、氦离子化鉴定器、质谱鉴定器、氧化锆鉴定器等均可给出良好的测定结果,但是,目前最常用、最经济的,应属火焰离子化鉴定器。GC—FID方法分析CO、... 相似文献
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1 前 言烃类在工业及日常生活中是到处可见的,它给人们的生活带来了一定的益处,同时也存在污染环境、易燃易爆等问题。如果在高纯气体中混有一定量的烃类物质,不仅会影响高纯气体的正常使用,严重时还会对生命安全构成威胁,因此有必要对高纯气体中的总烃进行测定,以控制产品的质量,减轻危害。2 “总烃”的含义在有机化学中,烃的定义是指仅由碳氢两种元素组成的化合物,烷、烯、炔、苯系化合物属于烃。而醇、醛、酸、酯、酮等由于含有杂原子,则不属于烃。事实上,目前的总烃测定仪对上述化合物均有较强的响应。那么,是否可以用… 相似文献
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P5100系列氦离子色谱仪测定高纯气体中微量永久性气体杂质的应用 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了P5100系列氦离子色谱仪测定高纯气体中微量永久性气体杂质的应用。P5100系列氦离子色谱仪采用三阀三柱设计,通过阀切换和选择性切割技术可一次进样同时分析H_2、O_2/Ar、N_2、CH4、CO、CO_2等永久性气体。同时可实现对上述种类气体的高纯气体中微量永久性杂质的有效分析。CO_2、H_2、O_2/Ar、N_2、CH_4、CO的最低检出限(×10~(-6))分别为0. 0291、0. 0183、0. 0192、0. 0187、0. 0195、0. 0273,满足高纯气体中微量杂质的分析要求。 相似文献
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如何不详细地了解气源杂质的分布曲线,而只是简单地规定所有气体纯度等级,就不能充分确保优质气体均一地输送到工艺过程中。例兴了等离子体刻蚀工艺。 相似文献
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Preparation of High-Purity Silicon for Solar Cells 总被引:2,自引:0,他引:2
This article addresses the problems in the preparation of high-purity silicon for solar cells. The growing application field of silicon solar cells requires a substantial reduction in the cost of semiconductor-grade silicon, which is currently produced by the classical trichlorosilane process. Here, we analyze alternative processes for the preparation of solar-grade silicon: the reduction of volatile silicon compounds, refining of metallurgical-grade silicon, reduction of silicon fluorides, and reduction of silicon dioxide. We believe that carbothermal reduction followed by the refining of melted silicon is the most attractive process from the viewpoint of manufacturing cost. 相似文献
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综述了高纯三氟甲烷的制备工艺,提出了通过精馏加吸附的纯化方法,将含有二氧化碳、三氟一氯甲烷、三氟一溴甲烷、五氟乙烷、二氟一氯甲烷、二氟二氯甲烷等杂质的粗三氟甲烷,提纯到99.999%以上。 相似文献
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V. A. Fedorov N. A. Potolokov T. K. Menshchikova M. N. Brekhovskikh 《Inorganic Materials》2018,54(10):1033-1038
This paper reports results of studies aimed at developing physicochemical principles of the preparation of high-purity arsenic (99.9999 (6N) and 99.99999 wt % (7N) purity) from standard (As2S3 and As4S4 sulfide ores) and unconventional raw materials (lewisite disposal (detoxification) products, nonferrous metals industry waste, and III–V semiconductor fabrication waste). We present data on the behavior of impurities in arsine ultrapurification processes and substantiate integrated approaches to the preparation of high-purity arsine and arsenic from various raw materials. 相似文献
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Mastryukov M. V. Brekhovskikh M. N. Demina L. I. Moiseeva L. V. Fedorov V. A. 《Inorganic Materials》2022,58(2):177-182
Inorganic Materials - Extrapure-grade (99.9985 wt % pure) SnCl2 has been prepared from commercially pure metallic tin and hydrogen chloride gas. Purifying the synthesized tin(II) chloride in a... 相似文献
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Fedorov V. A. Menshchikova T. K. Vargunin A. I. Nikonov K. S. Brekhovskikh M. N. Myslitskii O. E. 《Inorganic Materials》2021,57(11):1097-1108
Inorganic Materials - This paper presents results of analysis of the patent, scientific, and technical literature concerned with the physicochemical and technological foundations of the preparation... 相似文献
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对我国半导体生产过程中几种主要特种气体的现状进行了回顾,指出了我国超纯电子气体国产化过程中存在的问题。 相似文献