首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
相似文献
 共查询到10条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展 ,特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述。并指出 ,通过改进感光高分子的结构与组成 ,可以获得性质优良的抗蚀剂  相似文献   

2.
光产酸源的新进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
  相似文献   

3.
ArF激光光致抗蚀剂的研究进展   总被引:2,自引:0,他引:2  
本对近10年来有关ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述。从本可以看出,利用193nm成像技术可以刻画线幅很细(<0.13μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀剂高分辨率的要求。但若想将193nm成像技术在实践中推广应用,还有诸多问题需待研究解决。  相似文献   

4.
《广东化工》2021,48(8)
本文合成了一种以硫杂蒽酮为基核的光产酸剂,该光产酸剂对UVA段紫外光敏感,光解可以产生超强酸,且在365、385、395 nm LED光源下具有良好的光产酸效率,光产酸量子产率Φa为0.10~0.11。  相似文献   

5.
一种适用于193nm光刻胶的硫鎓盐光产酸剂的制备与性质   总被引:5,自引:4,他引:5  
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不合苯基时,在193nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂.  相似文献   

6.
以2-硝基噻吩,甲基磺酰氯及苯乙腈为原料合成了一种紫外光产酸剂(5-甲磺酸酯亚胺-5H-噻吩-2-亚基)-苯基-乙腈(MTPA),通过傅里叶红外光谱仪、核磁共振仪和紫外吸收光谱仪及热重分析对所合成的产物的结构和性能进行了表征,并利用实时红外(RT-IR)对该引发剂进行了光聚合反应动力学研究。考察了单体、产酸剂浓度对引发速率及单体转化率的影响。结果表明,在一定浓度范围内,随着引发剂浓度增大,聚合速率加快,最终的双键转化率也增高。  相似文献   

7.
本文介绍了1种在膜中定量测量光生酸剂产酸量的标准工作曲线的建立方法。选用罗丹明B作为指示剂,通过其紫外吸光度的改变来反映酸度的变化。用紫外分光光度计测量盐酸、三氟甲磺酸在不同浓度时罗丹明B的特征吸收的变化,选取酸浓度与罗丹明的特征吸收的变化量呈线性关系的线段部分作为标准曲线。光生酸剂曝光后罗丹明B的特征吸收变化对应到标准曲线中,通过计算就可以得出光生酸剂曝光产生的酸量。  相似文献   

8.
本文提供了低分子量酚类化合物与乙烯基烷基醚合成醚化率百分之百的高酸解活性醚化物(以下简称活性醚化物)的一般合成方法,并对其合成条件的优选进行了讨论.建立了原料酚类化合物与成像性能密切相关的参数,如羟当量,临界碱水不可溶羟当量,临界碱水可溶羟当量,表征原料酚类化合物阻溶、促溶能力比的M_P/A值,按照成像要求所设定的碱水易溶、碱水可溶、碱水微溶、碱水不溶(难溶)的AS_(TW)参数.测定或推算出活性醚化物的平均醚当量、与分子量相关的校正醚当量、活性醚化物的M_E/A_E值以及M_E/A_E值与M_P/A值的比值(即DL值)等多项参数.围绕上述参数的建立,提出了一些经验计算公式,根据所建立的参数值以及多年来从事光/热成像实验的实践,提出了光/热成像用活性醚化物分子设计的有关规则.  相似文献   

9.
污水厂污泥中含有的大量氮、磷、有机酸及病原体,会引发健康和环境风险,同时也限制了污泥的土地回用价值。而氮、磷是植物生长所必需的营养元素,有机酸也可用于污水脱氮除磷工艺,即从污水厂内部解决碳源不足的问题。若能将其回收,可以在一定程度上解决污泥的减量化、无害化和资源化,还可以通过将回收的成分进行循环利用,实现污泥的资源化,部分抵消污泥的处理费用。但要实现污泥中氮磷和有机酸的回收,就必须强化污泥中氮磷和有机酸的释放,使其具有最大释放量。  相似文献   

10.
光催化燃料电池(PFC)对有机污染物的高效能量回收方面受到越来越多的关注.本研究提出了一种由BiVO4为光阳极和Si-NW为阴极的新型单光照PFC系统.探讨了不同表面活性剂作为诱导剂对钒酸铋晶面生长的影响,通过水热合成法,制备了具有不同形貌的钒酸铋材料.采用XRD、SEM对所制备的BiVO4进行表征.在AM 1.5G的...  相似文献   

设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号