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ArF激光光致抗蚀剂的研究进展 总被引:2,自引:0,他引:2
本对近10年来有关ArF激光(193nm)光致抗蚀剂的研究开发情况进行了调研,对193nm光致抗蚀剂组成物的各个组分进行了归纳综述。从本可以看出,利用193nm成像技术可以刻画线幅很细(<0.13μm)的图像,能适应信息技术的发展对于光致抗蚀剂高分辨率的要求。但若想将193nm成像技术在实践中推广应用,还有诸多问题需待研究解决。 相似文献
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一种适用于193nm光刻胶的硫鎓盐光产酸剂的制备与性质 总被引:5,自引:4,他引:5
制备了一种阳离子含有萘基,阴离子分别为对-甲苯磺酸、甲磺酸及三氟甲磺酸的硫鎓盐.它们有高的热解温度和在常用有机溶剂中较好的溶解性.测定了此类光产酸剂在水溶液及聚乙二醇固体膜层中的紫外吸收特性.结果表明,阴离子不合苯基时,在193nm处有很好的透明性.考察了其在低压汞灯照射下的光解性质,在254nm附近的吸收峰随光解进行迅速减弱.此类光产酸剂适用于氟化氩激光(193nm)等的化学增幅型光致抗蚀剂. 相似文献
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本文提供了低分子量酚类化合物与乙烯基烷基醚合成醚化率百分之百的高酸解活性醚化物(以下简称活性醚化物)的一般合成方法,并对其合成条件的优选进行了讨论.建立了原料酚类化合物与成像性能密切相关的参数,如羟当量,临界碱水不可溶羟当量,临界碱水可溶羟当量,表征原料酚类化合物阻溶、促溶能力比的M_P/A值,按照成像要求所设定的碱水易溶、碱水可溶、碱水微溶、碱水不溶(难溶)的AS_(TW)参数.测定或推算出活性醚化物的平均醚当量、与分子量相关的校正醚当量、活性醚化物的M_E/A_E值以及M_E/A_E值与M_P/A值的比值(即DL值)等多项参数.围绕上述参数的建立,提出了一些经验计算公式,根据所建立的参数值以及多年来从事光/热成像实验的实践,提出了光/热成像用活性醚化物分子设计的有关规则. 相似文献
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