磁控电弧离子镀阴极斑点特性的高速摄影研究

利用高速摄影技术，对磁控电弧离子镀中阴极斑点大小、寿命及运动轨迹进行了观测，得到了极斑点电流密度、运动速度随磁场、电弧电流及背景气体压力改变而变化的关系曲线。     

多弧离子镀设备阴极电弧蒸发源工作稳定性的研究

多弧离子镀技术近年来发展极为迅速，已生产出多种类型的多弧离子镀设备并已投产使用。设备中阴极电弧蒸发源工作性能的好坏直接影响到产品质量。本文在大量实验的基础上对蒸发源的工作稳定性，进行了探讨、研究，分析其影响因素和原因，并提出一些解决办法。     

靶磁场强度对电弧离子镀沉积TiAlSiN硬质涂层内应力的影响

用电弧离子镀制备的TiAlSiN硬质涂层，具有硬度高、致密性好、结合力优良的优点，在刀具工业中有广泛的应用市场。TiAlSiN硬质涂层的内应力不仅会影响涂层的硬度和结合力，也会影响刀具的切削寿命。研究了用电弧制备TiAlSiN涂层过程中，TiSi靶的磁场强度变化对涂层内应力的影响。结果表明，当TiSi靶的磁场从MAG3调为MAG6时，磁场强度减弱，靶材离化率降低，TiAlSiN涂层的内应力从-5.84 GPa降低到-3.16 GPa，而涂层的结合力和硬度几乎没有降低，切削寿命提高了30%。研究为提高TiAlSiN涂层的性能，进而提升刀具的使用寿命提供了有价值的试验数据。     

交流电弧离子镀技术的研究

本文论述了交流电弧的伏安特性、再引弧现象和电弧稳定性三个方面的性能。介绍了交流电弧离子镀的原理和结构。本文指出，交流电弧离子镀技术在沉积ＴｉＡｌＮ等多元涂层方面有它非常突出的优势。     

磁控电弧离子镀阴极斑点特性的高速摄影研究

利用高速摄影技术，对磁控电弧离子镀中阴极斑点大小、寿命及运动轨迹进行了观测，获得了阴极斑点电流密度、运动速度随磁场、电弧电流及背景气体压力改变而变化的关系曲线。     

真空阴极弧离子镀阴极斑点的移动研究

建立了真空阴极弧离子镀圆形平面靶侧面引弧时,阴极斑点的受力模型,分析了影响电弧运动的因素,改进了圆形平面靶侧面形状,大大提高了石墨靶阴极斑点从侧面到靶平面的过渡速度。     

真空阴极弧离子镀阴极斑点的移动研究

建立了真空阴极弧离子镀圆形平面靶侧面引弧时 ,阴极斑点的受力模型 ,分析了影响电弧运动的因素 ,改进了圆形平面靶侧面形状 ,大大提高了石墨靶阴极斑点从侧面到靶平面的过渡速度     

磁过滤电弧离子镀技术

冷阴极反离子镀技术自从问世以来,由于具有高电离度和较高的离子能量,因而在镀制高硬度、高耐磨性薄膜方面得到了广泛的应用。如切削刀具、模具上的硬质薄膜、汽缸活塞环发动机内壁上的抗磨损薄膜,等等。同时由于电弧离子镀设备结构简单、镀膜过程容易控制,它在装饰镀方面也获得了广泛的应用,如仿金镀以及一些五金件的装饰镀。但是由于普通电弧离子镀膜过程中阴极会产生大量液滴（微粒）,并与金属离子一起沉积在基片上,因而限     

同轴旋转封闭场的电弧离子镀的研究

同轴旋转封闭电弧离子设备瘘有平面电弧离子弧和同轴磁溅控的优点，它在同轴靶上建立电弧放电，并采用肇转封闭磁场将电弧斑约束在长腰形的磁环隙内作螺旋运动，随磁路系统而在阴极靶表面上产生旋转的电弧放电，靶处在镀膜室中央，结构简单，膜层均匀，操作方便，工件架安装在阴阳极之间，其只需自转，无需公转，工件装载量多，利用本设备在手表表壳上镀制氮化钛膜层，其工艺重复性好，膜层与基本结合牢固，有靶材利用率高。     

偏压对阴极电弧离子镀AIN薄膜的影响

在不同基体负偏压作用下,用阴极电弧离子镀等离子体物理气相沉积（PVD）方法在单晶Si(100）基片上获得六方晶系的晶态AIN薄膜。用X射线衍射仪分析了沉积膜的物相组成和晶格位向随偏压的变化。在扫描电子显微镜（SEM）下观察沉积膜的显微组织形貌。结果表明,在较小偏压下,AIN膜呈（002）择优取向,表面致密均匀;在较大偏压下,AIN膜呈（100）择优取向,表面形貌则粗糙不平,AIN薄膜的择优取向及表面形貌受到不同偏压下不同离子轰击能量的影响。     

阴极电弧沉积TiN薄膜研究

对真空阴极电弧沉积TiN装饰膜的沉积工艺和膜层性能的关系进行了研究。结果表明:适当选择N_2分压和负偏压对于改善基体表面离子轰击清洗效果、减少液滴分布、保证膜层颜色和提高膜层耐蚀性至关重要。另外,X射线织构分析表明:(220)织构随负偏压加大而增加,而(111)织构则随N_2分压增大而增加,这可由离子轰击诱导织构效应解释。     

Approximate Design of Alloy Composition of Cathode Target

An empirical formula for composition demixing analysis in cathodic arc ion plating using alloy target is established based on the concepts of average charged state and relative demixing parameter. The level of composition demixing effect is presented by demixing degree of one element. For binary constituent alloy target, the composition change trend in coating is discussed and the limit of demixing degree for each element is determined. The content of one element with higher average charged state gets larger in coating than in alloy target, at meantime, the content of one element with lower average charged state gets less. For each one of the two constituents, the less the atom percent in alloy target, the larger the difference of its contents between the coating and the target. For triple constituent alloy target, the content change of one element with moderate average charged state is discussed in detail. Its content in coating getting larger or less is determined by the combination result of the contents of the other two elements in alloy target. For a given content of the element with moderate average charged state in triple alloy target, the content deviation level of that element from coating to alloy target will be not larger than that using binary alloy target containing only that element and one of the two others. According to the wanted coating composition, the composition design of alloy target is easily deduced from the formula.     

影响低温等离子体多弧镀TiN装饰膜膜层色泽的因素

通过对真空弧光放电低温等离子体性质的阐述，着重分析了多弧离子镀ＴｉＮ装饰膜工艺中，影响膜层色泽的主要因素。实践表明，对这些工艺进行合理的控制，就能制备出色泽纯正、外观精美的仿金膜。     

电弧等离子体制备纳米ZnO的气敏特性

用Ｈ２＋Ａｒ电弧等离子体法制成纳米ＺｎＯ，ＺｎＯ－Ｆｅ，研究了其气敏特征及机理，结果表明：与其它制备方法相比，该方法制成的纳米ＺｎＯ气敏元件在没有贵金属掺杂的情况具有较高的灵敏度，工作温度为２００℃￣２５０℃，为常规元件的一半，纳米ＺｎＯ－Ｆｅ－Ｐｄ对液化石油气（ＬＰＧ）的选择性比纳米ＺｎＯ好，具有快速响应（〈１５ｓ）的恢复特性，能稳定地连续工作７０ｈ以上，可制作低功耗ＬＰＧ气敏元件。     

圆柱旋转双面矩形磁控溅射靶磁场的设计计算

本文提出一种新型的圆柱旋转双面矩形磁控溅射靶,它具有平面磁控溅射靶的优点.根据靶的结构与工作原理,给出了圆柱双面矩形磁控靶磁场强度计算数学模型及计算公式.依据该计算方法,对具体的靶进行了计算机编程计算,并根据计算结果绘制出了靶磁场分布曲线.计算结果表明圆柱双面矩形磁控靶的磁场分布比较均匀,磁场强度满足磁控溅射功能的需要,其靶的溅射刻蚀区可宽达40°角的范围.从而提高了膜层的沉积速率及膜层沉积范围,改善了同轴圆柱形磁控靶由于环状磁场所引起的膜层不够均匀及靶材利用率低的问题,可以在靶磁场两侧的大面积平面基片上沉积出膜厚均匀的涂层.     

氢等离子电弧法半连续制备单壁纳米碳管

用氢气到代拟气作为缓冲气体,适当改进电弧反应装置并掺加一种生长促进剂可以有效地提高单壁纳米碳管的产量和质量。氢电弧法制备出的单壁纳米碳管堆积成膜状或网状,电镜下可见产物主要由相互缠绕的单壁纳米碳管束构成,纯度较高;激光拉曼分析结果表明制得的单壁纳米碳管直径较大。单壁纳米碳管产物在形貌和结构上的上述特征与氢气和生长促进剂的作用密切相关。     

一种椭圆弧长的作图求解法及其误差分析

本文给出了一种椭圆弧长的作图求解方法,即由作图求得椭圆弧长的近似值。通过对100个椭圆弧长的求解结果表明,由此方法求得的椭圆弧长的误差甚小,从而在相当高的精度范围内,提供了一种工程中适用并且简单易行的求解椭圆弧长的方法。     

无线电引信模拟打靶质量检测系统研究

研究建立了无线电引信模拟打靶质量检测系统.该系统在计算机上模拟引信实际打靶过程中目标、背景及各种干扰仿真信号,通过多功能信号存放仪实时作用于引信,从而实现弹目交会过程中目标及环境对引信的作用仿真.同时,系统能实时记录引信各级工作点的瞬态响应波形及引信炸高,从而实现对引信质量的静态检测,并可实现故障诊断.