基于微型光机电系统扫描镜技术的激光散斑抑制方法

激光固有的时间和空间相干性,造成的散斑现象成为实现激光显示技术的瓶颈。针对激光显示的消散斑问题,提出了一种基于微型光机电系统(MOEMS)扫描镜技术的散斑抑制方法,并设计了一种简单的二维扫描镜结构,为开发非运动式、小体积、低功耗、高速低成本电调制的MOEMS,实现对激光散斑的抑制,标准化消相干器件的工艺的开发和规模化生产技术提供了参考。     

硅基微型系统的应用

简单综述了微机械技术的先进性，该技术包括表面和本体硅微机械，电沉积和键合技术。给出了许多躲开系统设计，生产和应用的实例，并对以下微型系统２分别进行了详细介绍：（１）小型化化学分析系统；（２）空间研究用的微型仪器；（３）小型流体控制系统；（４）扫描探针系统；（５）静电和超声波微电机；（６）躲开光－机械系统。     

集成电路工艺制作的微型马达的摩擦研究

目前已有了关于集成电路工艺制作的微型马达的摩擦与试验的报道~1.对马达工作的动态过程也作了讨论.从理论上讲,其结论~2是:摩擦效应不仅可以限制转动最高速度,而且当马达偏置在开环控制状态时,摩擦可以决定马达是以同步模式工作,还是以异步模式工作.在文献[2]中,仅作了定性的讨论.本文中,我们提出一个定量的摩擦模型来解释由实验获得的马达工作数据.模型中,首先假设摩擦力矩是恒量,并利用数值方法求解运动方程.我们把摩擦力矩当作一个修正因子处理以便与实验情况相符,但是恒定摩擦力矩模型不能解释实验中的一些现象.一个更为精确的摩擦模型必须把静态摩擦也考虑进去.这时的运动方程是:     

微型低压传感器的研究

本文叙述了使用硅集成电路工艺技术制作的电容式压力传感器.以常规LPCVD技术淀积的多品硅、经腐蚀掏空多晶硅层与硅衬底之间的中间氧化层形成空隙,随后将具有可变形的多品硅隔膜封成真空腔.该腔随外界压力改变引起多晶硅膜变形,用测量隔膜与硅衬底电极之间电容的变化来测量压力的变化。介绍了微型低压传感器的设计、制造工艺和测试结果.     

微型点焊机的制作

本点焊机的电路如图1所示,结构如图2所示．主要由变压电路,整流电路和充、放电电路组成。其中降压变压器为变压电路,输入的e1为220V的交流电,经过变压器降压,输出的e2为110V的交流电。     

光微型加工

当制作微系统(如将微型传感器或微执行元件等集成化的微机械)时,只用半导体集成电路制造技术是不够的,还需要有制作立体机械结构的技术以及将制作的微型传感器等器件立体配置固定的技术.这些机械结构体,因微细而容易损坏,容易受表面张力的影响,故适合用化学气相沉积或光激励蚀刻等的加工技术.为此目的需要(1)进行高速加工;(2)需有进行定位或观察加工状态的方法;(3)进行试样的移动和旋转等.因此,需要冷却基板,以形成原料气体的冷凝层,同时,还需要设计观察光学系统.本文介绍光微型加工技术.     

L梁微梳齿谐振器的有限元分析与工艺设计

建立了L梁微机械梳齿谐振器的仿真模型,利用ANSYS有限元仿真软件对其进行模态和谐响应仿真分析。通过模态分析,得到谐振频率等重要性能参数以及不同L梁结构参数对它们的影响:谐振频率随着L长梁梁长的增加而减小;随着L长梁梁宽,L短梁梁长、梁宽的增加而增加。并在谐响应仿真分析中得到微机械谐振器的幅频响应特性,设计了谐振器的工艺流程和相应的掩膜版图。     

深亚微米集成电路制造工艺设计与仿真系统TSUPREM发展与现状

结合集成电路制造工艺仿真系统TSUPREM的发展历史，回顾了集成电路工艺仿真技术的发展，并着重介绍了Avanti公司的深亚微米工艺仿真系统TSUPREM-4 1999.4。     

交直流隔离的分布式MEMS移相器设计

设计了一种五位分布式微电子机械系统（MEMS）移相器,通过分析对比传统分布式MEMS移相器加载直流偏置的两种方式,提出了一种新的直流偏置的加载方式,能解决传统方式带来的交直流干扰和引线繁杂问题,同时工艺容易实现。采用ADS软件对移相器进行级联仿真,优化了微波性能参数,仿真得出移相器在35 GHz时移相精确度小于3°,移相器的插入损耗小于0.5 dB,回波损耗大于23 dB。给出了五位分布式MEMS移相器的工艺流程,同时验证了所设计加载直流偏置方式工艺简单的优势。     

下世纪初微电子机械系统的发展

介绍了微电子机械系统的四种基本制作技术，即本体微机械加工、表面微机械加工、铸模工艺和晶片键合工艺。重点讨论了实现微系统突破的集成工艺技术。最后简单概述了传感器、执行器和微电子机械系统的发展现状     

无线通信领域MEMS器件的研究进展

无线通信技术的发展对系统小型化提出了要求,用IC技术制造的电路无源器件的性能无法满足要求,利用MEMS技术不仅能将器件小型化,与,电路集成实现单片化,并且器件性能也能达到要求。近年来,用MEMS技术制作电容、电感、开关以及谐振器等无源器件成为MEMS的又一个新的研究领域。文章简单介绍了无线通信领域MEMS器件的研究进展。     

光刻亚微米线条研究

本文根据惠更新-菲涅耳原理,研究了提高光刻分辨率,提高光刻套准精度和在制版困难的条件下光刻亚微米线条的几种方法;并用实验证实了结论。     

MEMS技术现状与发展前景

介绍了微电子机械系统（MEMS）技术的发展现状、加工工艺及产品市场。结合MEMS材料与加工技术,讨论了MEMS产品的封装技术及存在的问题,展望了MEMS技术的发展前景。     

基于MEMS加速度计的数字倾角测量仪的设计

设计由MEMS加速度计与soC型单片机C8051F040组合而成的一种新型数字倾角测量仪.通过对MEMS加速度计的输出信号进行调理和A/D采集,并且在获得数字信号后进行温度补偿.解算出倾角值并通过LCD1602显示.该倾角测量仪具有体积小、重量轻、精度高的特性.可广泛应用于建筑、机械、道路、桥梁和地质勘探等重力参考系下测量倾角的场合.     

基于MEMS加速度计的数字倾角测量仪的设计

设计由MEMS加速度计与SoC型单片机C8051F040组合而成的一种新型数字倾角测量仪,通过对MEMS加速度计的输出信号进行调理和A／D采集．并且在获得数字信号后进行温度补偿,解算出倾角值并通过LCD1602显示。该倾角测量仪具有体积小、重量轻、精度高的特性,可广泛应用于建筑、机械、道路、桥梁和地质勘探等重力参考系下测量倾角的场合。     

太赫兹MEMS滤波器性能影响因素

在太赫兹微电子机械系统(MEMS)滤波器的制作中,每一步工艺造成的误差都会对滤波器的性能造成影响,使滤波器达不到设计要求.为能够制作出满足指标的滤波器,对影响滤波器性能的尺寸、参数进行分析,且对这些参数进行仿真找到影响的规律;结合参数仿真与滤波器的测量进行整体分析,提出有效的解决方案,提高了太赫兹 MEMS滤波器的成品率和性能参数.