载流子迁移测量的光电方法

本文评述了载流子迁移率测量的各种方法,着重介绍了光电测量的渡越时间（TOF）方法,并对几种新的含偶氮基,硝基及咔唑基的光电功能材料进行了测量,给出了迁移率的测量结果。     

渡越时间方法测量聚合物材料的载流子迁移率

介绍了渡越时间方法的测量原理,讨论了激发光源的波长、单脉冲能量、脉冲宽度以及测量电路的积分时间常数、聚合物材料的光生载流子率、样品的制备、探测器的选取等测试条件对聚合物材料载流子迁移率测量结果的影响。实验表明,利用渡越时间方法测量聚合物材料载流子迁移率,只有严格选取合适的测量条件,才可获得准确、可靠的测试结果。     

弱电导材料中载流子迁移率的测量方法研究

为了精确测定弱电导材料中载流子迁移率,采用渡越时间方法测量了8-羟基喹啉配合物（Alq3）的载流子迁移率,对渡越时间方法需要的实验条件进行了理论分析和实验验证,讨论了激发光源的波长、单脉冲能量以及测量电路的积分时间常数的选取对材料载流子迁移率测量结果的影响。结果表明,采用渡越时间方法测量弱电导半导体材料中载流子迁移率时,只有严格选取合适的测量条件,才可能获得准确、可靠的测试结果。此结论有助于对有机电致发光器件载流子迁移率进行精确测定。     

有机光电材料载流子迁移率测量方法

有机光电材料大致可分为小分子或低聚物和聚合物两类.载流子迁移率是衡量有机光电材料导电性能的重要参数,直接关系到材料对电荷的传输能力.因此,测量材料的载流子迁移率是研究有机光电材料的基本工作之一.通过对几种不同测试方法的总结与分析,报道了几种载流子迁移率测试技术,并指出各种测试方法的应用原理及适用的测试范围,对采用合理的...     

共轭聚合物中载流子迁移率的变温飞行时间检测

载流子迁移率是标定共轭聚合物光电器件性能的重要参数,在数值上其大小远小于传统半导体材料,所以常常用飞行时间方法来测量。利用自行搭建的变温飞行时间检测系统,能够准确地测量聚合物中载流子的迁移率。从原理和实践上,讨论了影响检测结果的限制因素和关键参数,其中包括光生载流子数量、薄膜样品厚度、激发光脉冲宽度、检测外电路的响应时间、载流子在电介质中的弛豫时间和对放大器探测器频率的限制等。只有选取恰当的实验参数才能够获得准确可靠的检测结果。     

SiGe层中载流子迁移率研究简况

近些年来的研究结果认为,用Si_(1-x)Ge_x伪晶作成的异质结晶体管是采用硅工艺制作的高速高频器件的最大竞争对手。它的发展速度很快,在很短的时间内就从实验室内的珍品发展成为以硅工艺为基础的速度最快的双极晶体管,不仅设计制成了n-p-n和p-n-p管,而且制成了Si_(1-x)Ge_x伪晶异质结晶体管(PHBT)的集成电路,并获得满意的结果。采用二维漂移扩散(DD)模拟和一维流体学模拟(HD)来分析这类晶体管的高频性能,证明它们的f_r为70GHz左右。     

载流子迁移率测量方法研究

给出了载流子迁移率的各种测量方法,渡越时间（TOP）法、霍尔效应法、电压衰减法、辐射诱发导电率（SIC）法、表面波传输法、外加电场极性反转法和电流-电压特性法,并给出了这些测量方法的使用范围。     

载流子迁移率测量方法总结

给出了载流子迁移率的各种测量方法,渡越时间（TOP）法、霍尔效应法、电压衰减法、辐射诱发导电率（SIC）法、表面波传输法、外加电场极性反转法和电流—电压特性法,并给出了这些测量方法的使用范围。     

提高MOSFET沟道载流子迁移率的新方法

用HF掺杂薄氧化物层的MOSFET和MOS电容具有优良的电学特性。在本文所研究的有效场范围内,这种器件的有效表面迁移率为一般器件的1.7-2.4倍,这表明用HF增强氧化能得到速度更快的MOS器件。     

偶氮类有机薄膜的光存储与光调制特性研究

本文利用光致双折射技术,研究了两种新型偶氮类光电功能材料的光存储与光调制特性.对比研究结果表明:含偶氮侧链聚合物具有更好的光存储功能,而偶氮小分子掺杂聚合物则更适用于光调制.文中还利用偶氮小分子掺杂聚合物薄膜,通过改变附加偏振光的偏振方向得到了一级自衍射的放大和衰减信号,从而在0°～90°范围内完成了偏振光调制光学全息技术.     

High Carrier Mobility,Electrical Conductivity,and Optical Transmittance in Epitaxial SrVO3 Thin Films

The urgent need for more performant transparent conducting electrodes is stimulating intensive research on oxide thin films based on early transition metals (e.g., V, Nb, Mo, etc.), where it is expected that the partially occupied (i.e., nd¹, nd²…) conduction band will give rise to metallic conductivity. Growing thin films of these oxides typically requires an extremely low oxygen pressure. However, in growth methods involving hyperthermal kinetics (such as pulsed laser deposition), this may have severe detrimental effects on the electrical and optical properties of the film. Here, it is shown that the use of a nonreactive gas during a pulsed laser deposition process allows epitaxial SrVO₃ films to be obtained with low room temperature resistivity (ρ ≈ 31 μΩ cm), large carrier mobility (μ ≈ 8.3 cm² V^?1 s^?1), and large residual resistivity ratio (RRR ≈ 11.5), while improving optical transparency in the visible range. It is argued that the success of this growth strategy relies on the modulation of energetics of plasma species and a concomitant reduction of defects in the films. These findings may find applications in other oxide‐based thin film technologies (i.e., ferroelectric tunnel memories, etc.) where growth‐induced point effects may compromise functionality.     

掺氮6H-SiC单晶的电阻率、迁移率及自由载流子浓度

测试了国产和美国Cree公司生产的n型6H-SiC低温下的电学参数,包括电阻率、迁移率和自由载流子浓度,并用FCCS软件数据拟合分析得到两种SiC的杂质浓度和能级.实验结果表明:杂质浓度和补偿度对低温下SiC的电性能有很大影响,轻度补偿的掺氮6H-SiC是施主氮的两个能级共同起作用;而重度补偿的6H-SiC在低温时则是受主能级起作用,并且后者迁移率随温度变化曲线的峰值降低并右移.同时发现重度补偿的SiC在较低温度时由n型转变成了p型,并从理论上分析了产生这种现象的原因.     

掺氮6H-SiC单晶的电阻率、迁移率及自由载流子浓度

测试了国产和美国Cree公司生产的n型6H-SiC低温下的电学参数,包括电阻率、迁移率和自由载流子浓度,并用FCCS软件数据拟合分析得到两种SiC的杂质浓度和能级.实验结果表明:杂质浓度和补偿度对低温下SiC的电性能有很大影响,轻度补偿的掺氮6H-SiC是施主氮的两个能级共同起作用;而重度补偿的6H-SiC在低温时则是受主能级起作用,并且后者迁移率随温度变化曲线的峰值降低并右移.同时发现重度补偿的SiC在较低温度时由n型转变成了p型,并从理论上分析了产生这种现象的原因.     

宽温区MOSFET反型层载流子迁移率的模型和测定方法

首先介绍了宽温区 (2 7～ 30 0°C) MOSFET的阈值电压、泄漏电流和漏源电流的特点以及载流子迁移率的高温模型 ;进而给出了室温下 MOSFET反型层载流子迁移率的测定方法 ,最后提出了利用线性区 I- V特性方程测定宽温区 MOSFET反型层载流子迁移率的方法 ,并给出了测试结果     

Ce掺杂Bi2S3/Fe2O3异质结的制备及其光电性能

采用旋涂法与水热法在掺氟二氧化锡(FTO)上制备了Ce掺杂Bi2S3/Fe2O3(Ce-Bi2S3/Fe2O3)异质结,对样品的组成、形貌及其光电性能进行了研究分析.结果 显示,Ce-Bi2S3/Fe2O3的X射线衍射(XRD)图谱中各衍射峰位与Bi2S3/Fe2O3相似,无新的相产生,但在2θ为24.92°(130)与28.65°(211)的衍射峰强度有所降低,而在2θ为35.65°(110)时有所增强;在Ce-Bi2S3/Fe2O3的X射线能谱(EDS)中发现了Ce元素.光电性能测试结果表明,在模拟太阳光的照射下Ce-Bi2S/Fe2O3的光电压为0.347 V,比Bi2S3/Fe2O3 (0.281 V)提高了23.5％;光电流密度达到2.31 mA·cm-2,比Bi2S3/Fe2O3 (0.53 mA·cm-2)提高了约3.36倍;电化学阻抗谱(EIS)显示,在光照下Ce-Bi2S3/Fe2O3具有最低的界面阻抗,表明Ce-Bi2S3/Fe2O3中的载流子被更有效地分离和转移.     

Photoelectric properties of Zn3P2

Contacts on p-type Zn₃P₂ samples were made by vacuum evaporation of Au and In. The photo-voltage spectral response of Zn₃P₂ was measured on these contacts within the 0.5–1.4 μm range at temperatures 80 and 300 K. The effect of the lighting configuration on spectral plots is discussed and the origin of two peaks in the photoresponse is ascribed to both indirect and direct transitions in the energy band-structure of Zn₃P₂ with energies of about 1.34 and 1.63 eV at 80 K and 1.32 and 1.49 eV at 300 K, respectively. The effect of surface recombination on the photovoltage plots is also discussed.     

Carrier removal after H1+, H2+ or H3+ implants into GaAs

It is demonstrated that the carrier removal caused by implanting equivalent doses of H1+ H2+ and H3+ ions into GaAs is identical and approximately independent of the ion energy in the range 300?500 keV. Some recovery of carriers removed occurs at about 250°C.