基于葫芦脲为主体分子自组装构建囊泡

葫芦脲系列分子是一类大环化合物,目前已被广泛应用于超分子的构建。设计并合成了一种金刚烷衍生物分子,利用主-客体间的相互作用,制备以葫芦[7]脲为主体分子,金刚烷衍生物为客体分子的超两亲分子。以葫芦[7]脲为主体分子的超两亲分子在水中可以通过自组装形成很好的囊泡结构。同时,我们又可通过加入过量的竞争剂1-金刚烷胺盐酸盐将葫芦[7]脲疏水空腔中的金刚烷衍生物分子竞争出来,从而使其解组装。由基于葫芦[7]脲为主体分子通过自组装构建的囊泡作为新型纳米胶囊,可以成为一种新型的药物递送载体。     

葫芦[8]脲对活性蓝19染料的吸附研究

利用葫芦[8]脲实现了对水中活性蓝19染料的吸附,探讨了吸附时间,温度,p H等对吸附的影响,研究了吸附过程的吸附等温线、吸附动力学并通过TG探讨了吸附机理。实验发现温度升高不利于吸附,中性或碱性条件更有利于吸附反应的进行;葫芦[8]脲对活性蓝19的吸附符合Langmuir吸附等温方程和准二级吸附速率方程,吸附过程以化学吸附为主。TG分析表明葫芦[8]脲对活性蓝19的吸附源于主-客体包合作用。     

基于葫芦[7]脲准轮烷的合成及其pH响应研究

设计并合成含芘的双季铵盐荧光客体分子,客体分子包含两个基于葫芦[7]脲(CB[7])的识别基团。双季铵盐分子与葫芦[7]脲在溶剂中可以组装成不同的[2]准轮烷。荧光滴定结果表明客体分子与主体分子葫芦[7]脲形成1∶1络合。在中性/弱碱性溶液中,主体分子与客体分子的双季铵盐段结合,当调节体系p H至酸性时,主体分子滑到客体分子的脂肪链亚甲基段。通过体系p H的调节,这个穿梭过程是可逆的并伴随荧光强度的变化。     

金属Al和不锈钢在[bmim]BF4离子液体中的电化学

离子液体作为有潜力的绿色电化学介质,在电解、电镀、电催化、电分析化学等领域具有非常好的应用前景。本文采用循环伏安法和塔夫尔曲线法研究了金属Al和不锈钢在[bmim]BF4离子液体中的电化学行为,结果表明金属Al在[bmim]BF4离子液体中非常稳定,不锈钢在该离子液体中显示一定的活性。     

金属Al和不锈钢在[bmim]BF_4离子液体中的电化学

离子液体作为有潜力的绿色电化学介质,在电解、电镀、电催化、电分析化学等领域具有非常好的应用前景.本文采用循环伏安法和塔夫尔曲线法研究了金属Al和不锈钢在[bmim]BF4离子液体中的电化学行为,结果表明金属Al在[bmim]BF4离子液体中非常稳定,不锈钢在该离子液体中显示一定的活性.     

多功能电化学测试系统及其应用

多功能电化学测试系统,以电化学研究方法控制各种实验条件,本文介绍测定电解氯酸盐用阳极、阴极的电化学性能,并获得该电解反应过程的某些特性行为,测定结果快速、准确。     

亚氨基紫脲酸系列的电解还原(二)——反应动力学的研究

迄今为止,尚未发现有人研究过亚氨基紫脲酸系列电解还原反应的动力学。我们在研究该系列电解还原工艺条件的基础上,对该系列还原反应的动力学作了初步的研究探讨。近20～30年来,由于极谱法取得了有机化合物电化学行为的大量资料,并发展了电子转移后发生反应的电化学研究方法,特别是电子光谱、红外光谱、核磁共振波谱直接用于电解反应的研究,使得有机化合物的电合成近几年得到了较为顺利地发展,然     

混合溶剂体系中葫芦[6]脲溶解度的测定

以NaCl水溶液作为基础溶剂,选取EtOH、DMSO、DMF 3种有机溶剂与之混合作为溶剂,通过紫外分光光度法测定了葫芦[6]脲(CB[6])在不同比例含量混合溶剂中的溶解度。结果表明,随着有机溶剂的加入,CB[6]的溶解度不断减小。在DMF/NaCl水溶液混合体系中,CB[6]的溶解度降低是最大的,而且在体积比5:5,CB[6]的溶解度是几个混合体系中最小的。对于DMSO/NaCl水溶液混合体系,DMSO比例超过1/2时,对CB[6]溶解度影响增大。EtOH/NaCl水溶液混合体系对CB[6]溶解度影响是最小的,说明极性较小的有机溶剂对CB[6]溶解度的影响较小。     

葫芦[n]脲的合成及其在分离分析中的应用

葫芦[n]脲作为继冠醚、环糊精及杯芳烃之后的第四代超分子材料,具有完全对称的外部亲水与内部疏水的刚性空腔结构,两端开口由羰基环绕而成,具有极强的主客体结合能力,能够根据空腔的大小选择性地包合无机或有机分子,在分离分析领域中拥有良好的应用前景,得到研究者的广泛关注。本文简要总结了葫芦[n]脲的发展进程、性质、合成与分离方法及其在分离分析中的应用。     

KF对Na_3AlF_6-Al_2O_3熔盐电解阴极过程的影响

采用循环伏安法、交流阻抗法和方波伏安法等电化学测量技术,考察了KF对Na3AlF6-Al2O3熔盐电解体系的阴极过程的影响。研究结果表明:在Na3AlF6-Al2O3和Na3AlF6-Al2O3-KF电解质体系的循环伏安曲线中,还原峰随着扫描速率的增大而负移,氧化峰随着扫描速率的增大而正移,在扫描速率较低(25~100 mV·s-1)的情况下,反应过程不可逆,反应过程相对平缓稳定;随着扫描速率的提高,电极可逆性相对提高。由于电极附近铝离子的聚合现象,使得在无KF的熔盐体系下,交流阻抗的高频区出现了感抗现象;在含KF的体系下,反应是由电化学反应过程和扩散过程共同控制的,且随着KF含量的增加,Warburg阻抗系数减小,电化学反应过程控制逐步取代扩散过程控制;反应电流也随之增大,氧化速率加快,还原和氧化过程可逆性降低。同时KF的加入抑制了铝的沉积,合金化作用比较明显,通过对阴极前波进行高斯拟合,得到不同KF含量(0、3%、5%)体系下的铝离子的电子转移数分别为1.19、1.02、0.75。