电子束曝光机工作台吊装结构动态特性的研究

正在研制的激光定位吊装结构工作台系统是电子束曝光机的主要组成部分。本文概述了工作台吊装结构的特点,用有限元法建立了吊装结构的三维实体力学模型,在理论上对其进行了动态特性分析与计算,并用锤击法进行了测试。分析与实验表明,工作台吊装结构抗冲击能力很强,能够满足电子束曝光机高精度和高速度的要求。     

电子束直接曝光机简介

电子束直接曝光机简介郑国强（甘肃平凉市电子部第４５研究所，７４４０００）１引言电子束曝光技术是集光、机、电、计算机和超高真空技术为一体的综合性技术，它可以把亚微米工艺的集成电路和器件图形直接光刻在Ｓｉ和ＧａＡｓ等圆片上。电子束直接曝光设备在军事微电子...     

DY—5型亚微米电子束曝光机

本文介绍了ＤＹ－５型微米电子束曝光机的主要技术性能；最细特征线宽０．４μｍ，图形位置精度及拼接精度优于±０．１５μｍ；扫描场尺寸１×１ｍｍ＾２和２×２ｍｍ＾２；最高扫描速度１ＭＨｚ，可加工１００×１００ｍｍ＾２掩模版或Х７５硅圆片，给出了部分曝光试验结果。     

亚微米电子束曝光机数控电流源系统

本文介绍了亚微米电子束曝光机电流源系统。该系统在国内首次使用计算机实现了自动化调节,系统内关键部位使用了大量先进器件,多达20路独立可调的电流输出,稳定度均达到2×10~(-5)/1小时。其中对稳定度要求最高的物镜电源,由于首次将电压/频率转换器(VFC)用于连续可调的电源系统,形成了一个闭环反馈控制电路,使它达到5×10~(-6)/4小时的稳定度。该系统还具有很强的抗干扰能力,纹波<1×10~(-5)V_(P-P)。这些指标保证了0.1μm束斑的精度要求,它的研制成功为电子束曝光机的自动化调机奠定了基础。     

LaB6阴极在电子束曝光机中的应用研究

本文报告了LaB_6阴极在电子束曝光机中的应用特性,叙述了一些有重要意义的实验结果。     

DJ—2可变矩形电子束曝光机

电子束曝光机用于制造超大规模集成电路掩模版。它由电子光学柱、工件台、图形发生器、计算机及控制系统组成。可变矩形电子束曝光机,具有生产效率高,图形产生灵活等优点。束斑形状的变化是通过投影两个方光栏的象来实现的,用静电偏转的方法把第一方光栏的象相对于第二方光栏移动,两者重合组成的矩形象经缩小并投身到工件台上得到一个可变的矩形束斑。     

电子束曝光机自动套准系统的研究

本文描述了用于电子束曝光机的芯片自动套准系统，该系统包括：扫描控制器、图象采集子系统、相关位置计算单元和位置与角度修正子系统。利用该系统，完成一次双标记识别及修正的循环需时１１秒；角度最小修正值为０．０１４度，最终实现的套准精度达到３σ≤０．０７μｍ。     

电子束曝光机图形处理系统

本文针对现有电子束曝光机在图形处理过程中存在的一些问题，提出了以辅配微机来增强原机处理能力的方法。对曝光机的图形处理过程及异机通讯等问题作了较详细的介绍。     

电子束曝光机图形数据格式转换软件的算法研究

本文分类研究了电子束曝光机图形数据格式转换软件的主要算法，包括平面内两多边形的相交性测试，二维图形的几何变换，基于方向环法的二维多边形运算，二维图形的可变网格分割法等算法。     

对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析

本文通过对一台先进电子束曝光机制作掩模过程的分析,阐明设计图经计算机辅助设计系统数字化后,生成PG格式数据,再由PG格式数据转换成电子束格式数据的处理;论述了光栅扫描的原理及特点;介绍了图形发生器的作用及电子束在控制系统作用下在基片上描绘图形的过程。     

对一台光栅扫描电子束曝光机制作掩模版质量的分析

本文在成熟使用电子束曝光机制作各种掩模版的基础上,针对评价掩模版质量的三大因素:图形尺寸精度、图形套准精度、芯片合格率逐一详细分析,以研究探讨如何应用电子束曝光机制作高质量的掩模版。     

扫描电子束曝光机复合物镜的研究与设计

在综合研究已有的各种复合物镜(如移动物镜、变轴物镜和摆动物镜等)的基础上,本文对复合物镜的一般理论进行了探讨,推导了普遍化计算公式,并提出新的复合物镜(弯曲物镜)系统。采用解析函数近似表示系统场分布,对弯曲物镜系统象差进行了理论分析,并设计出一个实际系统。数值计算结果给出该系统在55mm2扫描场内,束孔径角5mrad和能散2.5eV下,最大彗差0.005m,横向色差0.001m。     

变形电子束曝光机成形偏转器的设计和性能

在变形电子束曝光机中,为使曝光均匀必须保证靶上束斑电流密度物边缘分辨率不随束斑形状和尺寸的变化而改变。实现这一目标的关键是正确设计成形偏转器。本文讨论采用高灵敏度平行板偏转器实现成形偏转时,为达到上述目标应进行的线性补偿和旋转补偿的设计计算方法。给出了用实验方法改变电子源象与偏转板几何中心的轴向距离所测得的线性补偿因子和旋转补偿因子的值。实验结果与计算值符合较好。     

电子束曝光机用单标记进行误差检测及修正

要对电子束扫描场畸变进行修正,首先要进行扫描场畸变的测量。我们采用单标记进行电子束扫描场畸变测量,有其独特的优点。本文介绍了我们的检测方法和通过曝版所观察到的修正效果。     

红外探测器封装微型杜瓦瓶结构与分析

本文介绍了用于多元红外探测器封装的微型杜瓦瓶的三种结构形式，并分析了其漏热、电学性能和工艺性，通过比较对今后我国红外探测器封装技术作出预测。     

任意曲线槽波导色散和损耗特性的高次有限元分析

本文用高次有限元法分析了任意形状槽波导的色散和损耗特性.该方法的有效性和可靠性由实验和其它计算结果所证实.文中对诸如矩形、三角形、抛物、椭圆和余弦等形状的槽波导进行了系统的研究.计算结果表明,不同形状槽波导具有相近的色散特性,但损耗相差很大,其中V形槽波导损耗最小,大约是矩形槽波导的一半.文中给出的曲线可供设计槽波导元件和电路时参考.     

基于有限元方法的三维微动平台设计

为了获得结构简单、紧凑的三维微动平台,采用并联结构设计平台的新构型。首先,基于直角柔性薄板结构,对微动平台进行了结构设计,所设计平台既可实现x、y方向的平动,又可实现绕z方向的转动,且具有较大的工作台面;然后,采用有限元方法对微动平台的位移、应力等静态特性,以及模态、频率响应、阶跃响应等动态特性进行分析;最后,通过实验对所设计平台的静、动态特性进行了测试。结果表明:在120V的驱动电压作用下,平台沿x、y方向的最大位移分别为24.08μm和23.24μm,绕z方向的转角为139μrad;平台沿x、y方向及绕z轴的固有频率分别为2.25kHz,2.28kHz和4.01kHz;在50N的阶跃力作用下,平台沿x、y方向的稳态位移分别为2.40μm、2.45μm,响应时间约为2ms。