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NEC研制成功的高分辨率显示管用重叠型大口径电子枪(简称SFL电子枪),由于改进了聚焦特性和会聚特性,实现了大容量且高分辨率的高品质显示。 SFL电子枪采用降低象差的非对称预聚焦透镜,抵销自会聚偏转磁场所引起的电子束光点畸变的和重叠型大口径主电子透镜。 相似文献
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在COTY系统中,采用XL透镜来改善会聚性能,减小会聚/聚焦之间的矛盾。XL透镜可以在不损失聚焦性能的前提下缩小束间距提高会聚特性。但是在XL透镜中边束像差比中束大得多,为了进一步降低像差,本文提出在XL电子枪中采用OLF透镜来扩大透镜的孔径,改善分辨率。本文给出了三维计算机程序,对主聚焦透镜进行三维计算,得到了球差系数和其它光学参量。这些数据证实了在新的方案中球差确实被降低,而且会聚特性也得以改善。 相似文献
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借助于三维电子计算机模拟的帮助,已设计出一种新型的,简化的OLF主透镜。这种主透镜具有一个大椭圆形孔及内装的、边沿凹曲的场形成电极。由于G_2和G_4采用相同的透镜电极零件,并且在预聚焦处采用新的静态会聚方式,一种改进的OLF一字型电子枪系统已开发出来,其聚焦和会聚性能更佳。 相似文献
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一、前言随着计算机的普及,计算机辅助设计用显示终端的需求正在迅速扩展.计算机辅助设计用的超高分辨率彩色CRT,一直是用原来的三角形排列电子枪.用这种电子枪的CRT,由于需要采用会聚校正电路,因而具有成本高的缺点.为了降低成本,考虑用自会聚的直列式电子枪.当初它开发用于小型显象管,其后用于大型显象管,再进一步用于提高低、中分辨率显示管的性能.但是很难满足计算机辅助设计终端要求的聚焦性能和会聚性能.本文报导能满足计算机辅助设计所要求的聚焦性能和会聚性能的直列式电子枪,并命名为XF型(扩展场)电子枪.下面将论述这种电子枪的设计思想、三电极部分、主透镜部分、新阴极材料以及性能评价结果. 相似文献
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引言众所周知,在一列式彩色CRT中使用了自会聚系统,其偏转线圈引起了很大的象散,这种象散大大减弱了屏边缘的分辨率。近来,做了一些尝试以校正这种象散,即在电子枪中使用一种具有双电位主透镜系统的聚焦电极的四极透镜。在四极透镜上加上一个与束偏转同步的动态电压,以补偿由于偏转系统引起的象散。这种动态电压也可以在整个屏上使电子束聚焦,即能够实现动态聚焦。 相似文献
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引言目前,一种与自会聚偏转线圈相配合的,采用细管颈(φ29.1mm)和一字型电子枪的彩色显象管,极为广泛地用于TV显示设备。这种普遍应用是因为它易于调整会聚、价格低,而且能节省功率。然而,这一设备的缺点是,其清晰度有限,因为这种电子枪的主透镜大约已缩小到A型粗管颈系统主透镜的一半。引起象散的偏转场还使图象边缘处的清晰度变坏。为了克服这些缺点,已研制出一种交叠场透镜电子枪(OLF枪)。 相似文献
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电子束管是电真空器件的一种,它通常由抽成真空的玻壳及封入其中的电子枪构成。作为管芯的电子枪是电子束管的心脏,无论是那种类型的电子束管都缺少不了电子枪。电子枪是由阴极发射透镜、预聚焦透镜、主聚焦透镜、偏转棱镜等一系列电子透镜依次组合装配而成的电子光学系统。轴对称静电式电子透镜,均是由馈以不同直流电压的圆筒型电极零件按不同间隙装架而成。除掉阴极、调制极外,各个 相似文献
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本文对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论。其超大椭圆孔的主透镜使有效直径比上一代电子枪提高了25%,电子束形成区实现最优化设计,不同电流下聚焦的稳定性提高,同时进入主透镜的电子束发散角在水平和垂直方向不同,实现与主透镜的最佳配合,充分发挥了主透镜中共同透镜为椭圆孔透镜的特点。聚焦对比实验也显示出日立公司新一代电子枪聚焦的优异性能。 相似文献
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在一字形电子枪组成的彩色显像管中,屏的边缘会出现明显的光点散焦而降低分辨率。这是由于像面和屏面的曲率半径不一致以及由偏转线圈所产生磁场的不均匀性而引起的,后者在自会聚彩色显像管中的影响更明显。解决上述问题的方法,是用产生受偏转信号频率调制并与之同步的抛物波电压,来控制由电子枪产生的四极场从而抵消偏转像散,同时对主透镜进行辅助动态聚焦。本文介绍出现偏转像散的原因,四极透镜 相似文献
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本文讨论了一种新开发的由椭圆孔及凹面电极构成的主透镜系统,已用于一字型彩色CRT的电子枪中。新的静电焦系统还采用了前置主透镜,改善了会聚的稳定性。 相似文献
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现已开发了一种用于校正屏周边红、兰散焦的新型电子枪,因其有施加的动态聚焦电压,该电子枪对红、兰电子束有正象散透镜作用。 相似文献
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本文介绍用一种选择型预聚焦透镜来减小球差。我们采用计算机分析计算来设计电子枪。这种磁聚焦电子枪在束电流为4毫安时能提供0. 2毫米的光点尺寸。 相似文献
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电子枪聚焦性能是由电极结构决定的。本文通过计算机模拟的方式对三种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的光点形貌进行了系统模拟。对各电子枪聚焦特性进行的分析和比较表明电子束形成区、主透镜结构对屏蔽中心、角部的着屏光点及不同电流下聚焦的稳定性都有较大的影响。 相似文献
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本文运用6Sigma工具定量分析了由于21FS彩管QPF电子枪的受聚焦电压影响SP光点位置相对移动,从而导致产品在用户处静会聚一致性差的重要原因。并通过设计优化电子枪偏孔设计特点,从理论和试验实践上解决了聚焦电压对21”静会聚的影响。 相似文献
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