磁力电解复合抛光中磁场作用的分析

通过对磁力电解复合抛光中垂直、平行、往复交替的磁场对带电粒子运动轨迹的分析,发现磁场并不能显著提高带电粒子的速度,而是改善电化学的条件;另外,通过比较平行电场的磁场和垂直与电场的磁场,发现在磁力电解复合抛光中有更好的效果。     

磁力电解复合抛光中电解液的选配

磁力电解复合抛光工艺在难加工材料的精加工中被广泛使用,电解液的选配是影响该工艺的一个重要因素。文中对磁力电解复合抛光工艺中电解液的选配进行了研究,对磁力电解复合抛光中电解液的基本要求进行了分析,对常见电解液的性能进行了归纳和比较,并根据抛光过程中电解液的使用,得出了磁力电解复合抛光中电解液的选配原则。     

电解磨料喷射复合抛光工艺的研究与应用

研究了电解磨料喷射复合抛光新工艺及抛光特点，并应用于模具抛光。     

巴氏合金模具的机械电解复合抛光研究

针对具有复杂曲面的巴氏合金模具的难抛光，低效率等问题，在数控机床上将电解加工和机械抛光相复合，对模具型腔进行高效抛光，获得了良好的表面质量，由于采用CAD／CAM技术，保证了加工精度，提高了加工效率，文中探讨了数控机床机械电解复抛光的机理，并分析了抛光结果。     

磁场分布对磁性复合流体抛光材料去除率的影响

针对光学玻璃抛光效率和抛光精度不断提高的需求,提出采用磁性复合流体(Magnetic compound fluid,MCF)抛光轮进行抛光加工的方法,并自行研制出相应的抛光试验装置。运用标量磁位法、矢量叠加原理,建立MCF抛光轮外部空间磁场分布的解析表达式,通过对比分析磁铁磁场强度的解析计算结果和实际测量结果,说明解析表达式能较好地反映抛光轮外部空间磁场的分布规律。以Preston方程为依据,分析磁场产生的磁化压力对被加工工件表面材料去除率的影响规律;在自行研制的试验装置上利用磁性复合流体对熔融石英玻璃进行120 min的往复抛光加工,当两个环形磁铁采用NS-SN和NS-NS磁极布置方式时,最大材料去除深度分别为13 m和8 m,而且采用NS-NS磁极布置方式时,在工件中部的材料去除量几乎为零,因此NS-SN磁极布置方式由于其产生的磁场强度较大,从而导致其材料去除率也较大,验证不同磁场分布对熔融石英玻璃材料去除率的影响。     

S136不锈钢电解机械复合抛光

为了解决S136不锈钢机械抛光和电化学抛光存在的效率低、质量差、污染大等问题而进行电解机械复合抛光的研究。根据S136不锈钢的化学特性,使用新型电解液,结合高频窄脉冲电源对其进行电解机械复合抛光实验,通过调整加工参数,使不锈钢工件的表面粗糙度降低到Ra0.08μm。与其它抛光方式相比,该方法具有污染小、成本低、效率高、加工质量好等优点。     

电解机械复合抛光试验及其过程分析

通过研究工艺试验中的表面粗糙度和去除量随时间变化的关系,以及切屑微粒的形貌的提取分析,证明电解机械复合抛光的效率高于纯机械抛光和纯电解抛光,而且在其他工艺条件相同时可以获得更低的极限表面粗糙度值,但是在获得同样表面粗糙度时,复合加工单位面积去除的材料更多。切屑和加工后表面形态显示电解作用主要在工件表面的凸起棱边上,这正是复合加工较机械加工的优势所在。     

往复电解机械复合抛光工艺的试验研究

介绍了电解机械复合抛光的新工艺及其试验装置.通过研究实验中的表面粗糙度和去除量随时间变化的关系,初步得出一系列工艺参数.磨料的机械切削作用不仅能去除工件电化学反应产生的金属钝化膜,同时也去除金属材料.研究工艺参数对高效获得光整表面的同时尽可能地减小工件尺寸变化量有很大意义.     

不锈钢电解—机械复合抛光新工艺的研究

在电解加工和机械研磨的基础上，把电解阳极溶解与合成纤维无纺布上所粘结磨料的研磨有机地结合起来，试验了一种新的不锈钢电解机械复合抛光法，并总结了较合理的工艺参数，不锈钢表面的短时间的抛光加工后，表面光洁度可接近镜面。     

新型复合表面抛光技术

随着生产技术的不断进步,为了提高抛光效果,出现了化学一机械抛光(Chemical-MechanicalPolishing,简称CMP)、电解一机械抛光、超声波一电解抛光、磁力一电解抛光等多种复合抛光技术.为适应现代工业对抛光技术进展的需要,对几种复合抛光方法的原理、特点以及应用范围进行了叙述和总结.     

立、卧式磁性复合流体抛光对比实验研究

针对磁性复合流体(MCF)抛光的两种抛光头,进行MCF抛光特性对比实验研究。开展了黄铜H26的平面抛光实验,调查立式和卧式抛光头分别对工件材料去除率、表面形貌与粗糙度以及MCF水分损耗等抛光特性的影响。实验结果表明,卧式MCF抛光能够较快地降低表面粗糙度,获得较高的材料去除率,MCF水分损失相对较快;立式MCF抛光能够在相对较长时间内获得稳定的材料去除率和表面粗糙度,MCF水分损失也较为平稳。     

磁流体研磨装置中磁场加工区的设计

针对特定的加工要求 ,设计磁流体研磨装置中磁场加工区的重要参数 ,并分析验算设计的合理性     

光学非球面磁性复合流体抛光运动控制算法设计

为了实现高精度光学非球面元件超精密抛光加工的需要,设计了光学非球面磁性复合流体抛光运动控制算法。通过分析光学非球面磁性复合流体抛光加工原理,建立抛光头在加工过程中相对非球面表面的位态变换关系,采用D-H法建立抛光试验台运动学模型,求解抛光过程中抛光头位姿量,运用逆向运动学求解方法计算试验台运动量;开展工艺实验,对该运动控制算法进行验证。实验结果表明,所设计的抛光运动控制算法能够准确指导光学非球面元件抛光加工。     

非球面磁性复合流体抛光路径误差分析与仿真

针对光学系统中对非球面元件的精度要求,设计了直线光栅式的抛光轨迹,并用磁性复合流体以这一抛光轨迹抛光非球面。根据抛光轨迹和非球面方程计算出每个抛光点的坐标;根据抛光点坐标和抛光头的抛光姿态计算出对应的抛光头中心点的坐标;建立相邻两抛光点的弓高误差模型,仿真出弓高误差模型并分析弓高误差的变化规律;根据弓高误差变化规律,用等弓高误差变步长控制算法实现弓高误差的一致性,提高加工质量。     

磁流体辅助抛光工件表面粗糙度研究

给出了磁流体辅助抛光的机理,以及依据Preston方程建立的磁流体辅助抛光的数学模型。并通过实验详细研究了磁流体辅助抛光后工件的抛光区形状,以及抛光区内表面粗糙度情况。最终加工出了表面粗糙度为0.76 nm(rms值)的光学元件,其高频表面粗糙度达到0.471 nm(rms值),满足了对一定短波段光学研究的要求。结果表明:磁流体辅助抛光可以用于对光学元件进行超光滑加工;在磁流体辅助抛光过程中,较大粒度的磁流体抛光液有利于工件表面粗糙度快速降低,较小粒度的磁流体抛光液可以获得更加光滑的光学表面。     

钢珠对磁力抛光工艺影响规律的实验研究

磁力抛光机利用磁场的力量,引导磨具(磁针)做快速旋转运动而抛光工件。为了使磁力抛光机对45钢轴的抛光效果及效率更佳,从理论上分析了磁力抛光的工作原理、磁力抛光过程中磨具的运动方式和影响磁力抛光效率的因素,提出加入钢珠会提升抛光效果及效率,并对45钢轴进行磁力抛光实验。实验结果表明:加工频率、磁针长度均对抛光效果及效率有不同程度的影响;加入钢珠后,抛光效果及效率都有提升;最佳磁针与钢珠的质量混合比例为1∶3。     

一种磁悬浮平台的电磁场分析

利用ANSYS分析软件,对这种新型磁悬浮平台进行了电磁场分析,得出了磁力线分布图、磁通量密度矢量图及磁通量密度等值线。并进一步分析了磁悬浮平台载体间隙对磁力线分布的影响,载体受力与电流之间的关系以及载体受力与间隙大小之间的关系,所得结果与物理特性相符,对磁悬浮平台的控制起到关键作用。     

The measurement of magneto-optical Kerr effect of ultrathin films in a pulsed magnetic field

A Kerr rotation measurement system in a pulsed magnetic field (up to 11 T) was built to study magnetic properties of several ultrathin films. Our result shows that the Kerr rotation angle increases with the increasing wavelength of the incident light, while the difference between the spectras of Fe and CoFeAl is attributed to plasma resonance. We also studied the dynamic properties of the magnetic films: while ferromagnetic materials (Fe, CoFeAl, MnAs and CoMnAl) show quasi-static behavior in the time-scale of a few 100 μs, diamagnetic material GaAs shows time-dependent hysteresis.