铈离子注入Zr-4合金的高温氧化行为

研究铈离子注入对Zr4合金氧化性能的影响，对Zr—4合金表面注入了不同剂量的铈离子，并在500℃条件下进行了空气氧化实验。氧化曲线表明，铈离子注入能明显改善Zr—4合金的氧化性能，且注量越高，氧化性能改善的程度也越大。运用俄歇电子（AES)、X光电子（XPS)和小角掠射X光衍射技术(GAXRD)等测试方法分别分析了注入样品表层元素的深度分布、氧化膜成分及相结构，同时探讨了铈离子注入改善Zr—4合金氧化性能的机制。     

离子注入Cr、Y、Nb对γ-TiAl金属间化合物高温氧化性能的影响

采用MEVVA离子源将Cr、Y、Nb离子分别注入γ -TiAl金属间化合物 ,注入能量 50—6 0keV ,注入剂量为 1× 10 17cm- 2 ,研究γ -TiAl在 10 0 0℃空气中的循环氧化行为。结果表明 ,Cr离子和Y离子注入对γ -TiAl的高温氧化性能均没有明显影响 ;Nb离子注入γ -TiAl,在氧化初期 ,抗氧化性能得到显著提高 ,但随着氧化过程的继续 (超过 10 0h) ,这种改善作用逐渐降低。实验发现 ,通过离子注入和基体合金化向γ -TiAl中加入相同元素 ,由于工艺过程的差异 ,对其高温氧化性能的影响不同。在长时间高温氧化 (10 0 0℃ )条件下 ,离子注入表面改性无法达到提高γ -TiAl抗氧化性能的目的     

N+离子注入对锆-4合金耐腐蚀性能的影响

为了研究N+离子注入对锆-4合金耐腐蚀性能的影响,本文使用直线加速器产生的N+离子注入锆-4合金样品,通过对离子注入后样品电化学曲线的测量,分析不同剂量下N+离子注入对锆-4合金钝化电流密度的影响,同时使用透射电子显微镜分析注入层的微观结构.结果表明,随着注入剂量的提高(0-1×1016cm-2),样品钝化电流密度下降,耐腐蚀性能提高,其原因主要归结于样品表层由多晶结构到非晶结构的转变过程.     

GH903合金的离子注入表面改性研究

用离子注入、氧化和慢正电子束分析研究了ＧＨ９０３合金的氧化性能的改善与微观作用机理。注入的Ｃｒ＋．Ｙ＋的能量均为６０ｋｅＶ，注入的剂量分别由１ｘ１０１７．ｃｍ－２（Ｃｒ＋）、１ｘ１０１５Ｃｍ－２（Ｙ＋）和［１ｘ１０１５．ｃｍ－２（Ｙ＋）＋１ｘ１０１７·ｃｍ－２（Ｃｒ＋）］。结束显示，注入样品与未样品相比。氧化增重分别减少４．８％（注Ｃｒ＋）、２４．２％（注Ｙ＋）和３２．３％（注Ｙ＋＋Ｃｒ＋）。这表明合金氧化性能改善的作用机理主要是注入离子对样品浅表层内缺陷的填充与退火。同时，注入元素的化学性能和使样品表面更致密也起了重要作用。     

钼离子注入对锆-4合金耐腐蚀性的影响

观察钼离子注入对锆-4合金在硫酸水溶液中耐腐蚀性的影响。使用MEVVA(Metalvaporvacuumarc)源对锆-4合金表面注入1×1016—1×1017cm-2剂量的钼离子,用X射线光电子能谱(XPS)分析其表面元素价态;用三次极化扫描评价其在1mol·L–1硫酸水溶液中的耐腐蚀性;并对三次极化后的样品进行扫描电镜(SEM)观察。实验表明,当钼离子注入剂量小于5×1016cm-2时,注入样品的耐腐蚀性显著增强。当钼离子注入剂量为1×1017cm-2时,注入样品的耐腐蚀性反而比未注入时差。讨论了钼离子注入锆-4合金后耐腐蚀性改变的原因。     

高能离子背散射研究钇离子注入H13钢的抗氧化特性

用５．８ＭｅＶ ＾４Ｈｅ离子和３ＭｅＶ质子背散射研究了强束流钇注入的Ｈ１３钢的高温特性，由直接测定氧化层中氧原子面密度得知经钇离子注入后在８００℃氧化４５ｍｉｎ条件下抗氧化能力提高了２５倍，观察到了元素铬在注钇氧化层中的富集以及氧离子在氧化过程中的扩散与未注入时有明显的区别。     

离子注入改善钢表面性能的研究

离子注入提供一种精确控制和改善钢表面性能的最灵便和最直接的方法。本文研究了离子注入对钢的表面硬度、光反射率和高温氧化性能的影响。     

离子束辅助沉积铌提高铀的抗腐蚀性能研究

利用离子注入技术在铀表面进行了离子束辅助沉积铌和离子注入铌形成表面改性层，并对改性层的厚度、注入元素的分布进行俄歇电子能谱（AES）分析和表面相及结构的X射线衍射谱（XRD）分析，用电化学极化法测试抗腐蚀性能。结果表明：离子束辅助沉积表面改性层比离子注入表面改性层明显增厚，铀的耐蚀性得到进一步改善。最后讨论了注铌改性层耐蚀性提高的原因。     

背散射分析钇离子注入H13钢的抗氧化特性

用背散射技术测量了不同注入剂量和大束流密度的Y~+注入H_(13)钢的浓度分布,并研究了注入样品的抗氧化特性。结果表明,Y的浓度分布和峰值浓度的变化与注入剂量和束流密度密切相关。Y峰值浓度大小对抗氧化特性有直接的影响。Y~+注入钢改变了钢的氧化模式。氧的扩散受到控制。高温(800℃)氧化10min即可形成抗氧化的氧化皮。Y~+的注入可使氧化速率下降8倍。     

真空电子束焊接对锆合金耐腐蚀性能的影响

用真空电子束焊接方法将Zr-4板对接焊后，焊缝的耐腐蚀性能很差，在400℃过热水蒸汽中腐蚀3—14天后，焊接熔化区的表面形成了白色的氧化膜。用电子探针研究了熔区中合金成分的变化和耐腐蚀性能间的关系，锆果表明：熔区中Sn、Fe和Cr合金元素的挥发损耗是造成耐腐蚀性能变差的主要原因，当采用合金成分高于Zr-4的锆合金板与Zr-4板对接焊后，可以补偿熔区中合金元素因挥发而造成的损耗，明显改善焊缝熔区的耐腐蚀性能；若在锆合金中添加0．4％—0．5％的Nb，使熔区中形成新的锆合金，特有益于改善焊缝的耐腐蚀性能．但焊接后的样品应在500—600℃进行退火处理，使添加Nb后形成的βZr分解为稳定的αZr βNb，以进一步改善焊缝的耐腐蚀性能。     

9Cr18和GCr15钢离子注氮的研究

GCr15和9Cr18是目前被选用的两种航天用轴承钢。GCr15是普通轴承钢,具有较高的硬度和耐磨性,但耐蚀性较差。9Cr18是不锈轴承钢,具有很好的耐蚀性,但硬度和耐磨性不如GCr15,加工性能也较差,且价格较高。因此,采取适当的表面强化处理,以进一步提高9Cr18钢的耐磨性及改善GCr15的耐蚀性在实用上是很有意义的。     

聚苯胺的离子注入掺杂研究

研究了聚苯胺的离子注入掺杂对导电性的影响。用红外和紫外谱法探讨了聚苯胺的氧化态，本征态和还原态经离子注入后，其结构可能发生的变化。结果表明，聚苯胺的三种态的离子注入均为还原过程。讨论了离子注入掺杂的导电机制。     

离子注入在红外与电荷耦合器件中的应用与研究

我所于1982年建立了以LC-2A型离子注入机为核心的离子注入实验室后,我们开展了离子注入在红外器件和电荷耦合器件中的应用研究及离子注入物理的研究。离子注入技术已成为我所半导体器件研制中的必不可少的工艺技术。离子注入物理的分析研究工作也获得某些结果。     

离子注入精密摩擦付的橡拟实验研究

精密摩擦付是每种具有转动或滑动动作的精密机械的关键零件。从使用的角度来看,它的质量直接决定着整机的技术指标。制造经久耐用的精密摩擦付对于提高整机性能有二重意义:其一,长寿命摩擦付自然延长整机的使用寿命,减少零件耗损与整机维修时间,有很大的经济意义;其二,对于特定的使用场合,机器一经启动,在相当长的时间内不可停机,长寿命精密摩擦付就更加显示出其重要性了。从制造的角度来看,精密摩擦付允许公差很小,只有     

中国科学院物理研究所的离子束分析及离子注入改性研究

介绍了中国科学院物理研究所离子束研究室的主要设备、分析方法、离子注入材料改性研究以及近年来在半导体材料、高Ｔｃ超导材料、环保等领域中的研究工作。