铝电解质中钠的测定

提出用歉介的聚四氟乙烯烧杯代替铂皿,在低温近沸的盐酸溶液中分解试样,然后于原子吸收光谱仪上测其吸光度。     

铝的瓷质氧化

铝的瓷质氧化是精饰铝和铝合金表面的一种新方法。以瓷质氧化精饰的零件外观呈浅灰色,类似于搪瓷。瓷质氧化膜具有耐磨,防腐蚀性能好,与基体附着力良好等特性。瓷质氧化是普通氧化的变型。普通氧化是在稀硫酸中进行。瓷质氧化采用铬酸溶液,其槽浴配方如下:     

氢氧化钠电解液中铝合金的微弧氧化

叙述了在NaOH电解液中进行铝合金表面微弧氧化处理。经微弧氧化制备的铝氧化膜，厚度可达80μm，显微硬度可达HV1200。通过X射线衍射（XRD）分析和扫描电镜（SEM）分析观察可知，铝合金氧化膜层相结构为α-Al2O3和γ-Al2O3，膜层与铝基体结合良好。通过热分析（TG、DSC）可知，此工艺制备的氧化膜有很好的热稳定性。     

高电阻电热闹中金中铝的测定

高电阻电热合金中的铝含量可达７％，经典的测定方法是重量法，该法准确度很高，但是操作繁冗费时，本文采用的碱分离－ＥＤＴＡ容量法来测量测定高含量铝，具有简便快束准确的特点，很适合工厂实验应用与推广。     

铝件的瓷质氧化处理

铝件的瓷质氧化处理能使其外表具有搪瓷般的光泽,保持其原有的表面光洁度和加工精度,并具有良好的硬度、抗蚀性等。本文着重介绍氧化处理的工艺。图1。     

发射光谱分析中脱氧剂铝对测定的影响与修正

探讨了脱氧剂铝在发射光谱分析中对其它元素分析的影响,实验发现,铝对锰、硫、磷、硅分析结果的影响不大,但对碳的影响较大,通过实验给出了铝对碳干扰修正的范围及数值。     

用原子吸收分光光度法测定钢中微量铝

利用原子吸收分光光度计测定钢中的微量铝，使钢中微量铝的测定比以前更简便、快速，且灵敏度高，因而适宜推广使用。     

硅铝铁合金中硅铝的测定

介绍了硅铝铁合金中硅铝的测定方法.试验结果表明,该方法准确度高,重现性好,易于掌握.     

铝的微弧氧化机理与膜层结构的对应关系

叙述了分析了微弧氧化陶瓷膜的生长规律,电流变化规律。根据建立的膜层结构与对应电压的关系模型,研究了微弧氧化陶瓷膜的生成机理。     

干灰化法制样-ICP-AES测定食品中铝含量

本文采用干灰化法消解制备样品,建立利用电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES)测定食品中Al的方法。在能够满足食品中Al含量测定的前提下,选用Al元素的次级灵敏线避开基体光谱的干扰。对比研究发现,干灰化法处理样品比湿法处理样品有更高的回收率。方法的检出限为0.027μg/mL,对3种样品中铝测定的相对标准偏差为3.2%~3.9%(n=8),该法用于面粉中Al的测定,获得满意的结果。     

铝电解槽中熔体高度测量系统

铝电解槽中熔体高度(铝液高度和电解质高度)是电解铝生产中非常重要的技术指标，传统的测量方法不能满足生产的需要。介绍了一种新方法测量铝液高度和电解质高度。这种方法是基于在铝液中和电解质中导热环境不同，热电偶感温节点处于不同的介质中有不同的升温速率，根据升温速率确定结点位置，计算出高度。设计了以多点热电偶为基础的测高传感器，以ADμC812单片机为核心的测量仪表。还介绍了测量仪表的工作程序和上位机的数据接收程序。