用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源

本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几乎整个阴极表面且多轨迹旋转，使阴极烧蚀均匀，提高了镀膜沉积速率，薄膜质量也相应提高。研制的另一种环形阴极旋转电弧蒸发源，可基本消除液滴，使阴极利用率更高。     

第二十讲 真空离子镀膜

<正>13真空阴极电弧离子镀13.l概述真空阴极电弧离子镀简称真空电弧镀(Vacuum arc plating)。如采用两个或两个以上真空电弧蒸发源(简称电弧源)时,则称为多弧离子镀或多弧镀。它是把真空弧光放电用于蒸发源的一种真空离子镀膜技术,它与空心阴极放电的热(接2019年第4期第80页)     

离子沉积电弧蒸发电源装置

ＺＸＧ型离子沉积电弧蒸发电源装置，专门用于多弧离子镀膜机的电弧蒸发。本文 基于阴极放电的机理，对此装置的功率规范，电流调控特性作了具体分析与论证，并给 出了试验数据．     

国外高真空卷绕镀膜设备发展现状

从设备总体，卷绕系统，真空系统，蒸发源系统和电气控制系统等方面介绍国外主要的高真空卷绕镀膜设备制造公司ＬＳ、ＧＶＥ、ＧＶＴ和ＵＬＶＡＣ的包装装饰用设备发展现状。     

脉冲真空电弧镀的实验研究

本文介绍了利用脉冲真空电弧进行镀膜的初步研究结果。主要研究了在不同电气参数、结构参数……条件下，在炭钢基材上镀铝合金膜和不锈钢膜及影响成膜性能的因素。研究结果表明，这种镀膜方法，可以镀各种金属和合金膜；具有设备简单，镀膜速率高等特点，但仍需进一步消除膜中的大颗粒，改善膜的表面光洁度。     

过滤式真空电弧离子镀膜技术及应用

介绍了一种新的镀膜技术—过滤式真空电弧离子镀膜技术。针对典型的过滤式真空电弧镀膜装置，描述了其结构组成，分析了它的工作原理。分析结果表明，该技术与传统真空电弧离子镀膜技术相比，可有效地消除宏观颗粒对镀层的污染，可广泛应用于制作各种微电子膜透明导电薄膜（ＩＴＯ）以及类金刚石（ＤＬＣ）薄膜。     

真空阴极电弧离子源磁场分析与设计

真空阴极电弧离子源是多弧离子镀膜设备的核心部件,直接影响镀膜系统的整体性能。真空阴极电弧离子源在工作时,大液滴发射是阻碍电弧离子镀技术广泛深入应用的瓶颈问题。合理设计并利用磁场可以很好地控制弧斑运动,大幅度地减少液滴、减小液滴尺寸、提高膜层质量和使用寿命。对真空阴极电弧离子源的附加磁场进行了理论分析和仿真计算,为附加磁场的优化设计提供了重要的指导依据。     

真空电弧放电稳定性

本文研究了真空阴极电弧放电过程中阴极电弧源工作稳定及其影响因素,研究了真空电弧斑的产生及运动规律。     

国外高真空卷绕镀膜设备发展现状

从设备总体、卷绕系统、真空系统、蒸发源系统和电气控制系统等方面综合介绍国外主要的高真空卷绕镀膜设备制造公司LS、GVE、GVT和ULVAC的包装装饰用设备发展现状。     

大型宽幅高真空连续卷绕镀膜设备的研制

本文详细介绍了ZZL-2200/2.5大型高真空连续卷绕镀膜设备的工作原理、结构组成、性能特点和创新设计要点及推广应用前景.分析并指出影响镀膜质量、生产效益的主要因素和解决途径.重点论述了双冷却镀膜辊悬空平展镀膜技术的技术原理和结构特性,及其在解决CPP流延塑料薄膜基材表面镀制铝膜时出现亮暗条纹线难题中的显著效果.并提出独特的蒸发机构冷却和自流式蒸发舟没置的特殊设计对提高大型宽幅高真空连续卷绕镀膜设备生产效率的重要性.     

真空管道自体溅射镀TiN膜研究

本文详细介绍了长真空管道内表面直流溅射镀TiN膜技术和成膜系统配置。采用真空管道自体真空镀膜方法解决细长管道内表面镀膜问题，特殊的阴极靶结构设计成功地解决了长管道内表面直流溅射镀膜的问题。本实验方法在真空管道内壁获得了均匀的、高品质的TiN膜层，并实现了细长真空管道大面积镀膜过程的稳定性、重复性和一致性。真空管道自体直流溅射镀膜实验中采用的工作原理以及设备简单，操作方便，成本低廉。     

真空电弧的特点及几种常用金属的真空电弧现象

真空电弧技术愈来愈广泛地应用于离子镀技术．但由于不同的阴极材料的固有性质不同，真空电弧现象也不同．为能更好地将真空电弧应用于离子涂复技术，本文较简洁地介绍了真空电弧特点及一些金属和合金的真空电弧现象．     

不锈钢及其镀膜复合材料气相氢渗透研究

叙述了全金属超高真空气相氢渗透装置和HR－1超低碳不锈钢镀膜复合材料的研制，以及氢通过不锈钢基体及其镀膜复合材料的气相氢渗透实验．实验表明，镀膜复合材料的氢渗透率比基体材料降低二个量级以上。     

离子镀膜用长寿命阴极电子枪

以硼化物为热电子发射体.在热阴极自持弧光放电状态工作的低电压大电流空心明极电子枪,在离子镀膜设备中用以熔化蒸发并电离膜材料。着重简述枪工作原理,对枪结构主要尺寸,气、电工作参数进行了设计.估算了枪效率。枪的结构简单,放电功率5～8kW.工作350h 后性能稳定。     

第二十讲 真空离子镀膜

正(接2020年第4期第96页)13.6负偏压对膜沉积过程的影响13.6.1直流偏压真空阴极电弧离子镀一般配置直流负偏压电源。它的正极接镀膜室壳(阳极接地),其阴极连接在基片(工件)上。其负电压从0～-1000V可调,构成对阴极电弧源(靶)和电弧放电等离子体负电位。正是带负偏压基片在等离子体中,     

真空卷绕镀膜技术及设备的现状与发展

综述了真空卷绕镀膜技术的现状和发展、真空卷绕镀膜技术的应用领域、现有真空卷绕镀膜设备的应用分类及结构分类、真空卷绕镀膜设备典型的结构组成及设备设计的一些关键要素.     

同轴旋转封闭场电弧离子镀的研究

同轴旋转封闭电弧离子镀设备兼有平面电弧离子镀和同轴磁控溅射的优点，它在同轴靶上建立电弧放电，并采用旋转封闭磁场将电弧斑约束在长腰形的磁环隙内作螺旋运动，随磁路系统旋转而在阴极靶表面上产生旋转的电弧放电。靶处在镀膜室中央，结构简单，膜层均匀、操作方便。工件架安装在阴、阳极之间，其只需自转、无需公转、工件装载量多。利用本设备在手表表壳上镀制氮化钛膜层，其工艺重复性好，膜层与基体结合牢固，且靶材利用率高     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空     

《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》出版发行

<正>由东北大学张以忱主编的真空工程技术丛书:《真空镀膜技术》和《真空镀膜设备》两书由冶金工业出版社出版发行。《真空镀膜技术》主要内容:薄膜基础理论、真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜、真空离子镀膜、真空卷绕镀膜技术、真空     

同轴旋转封闭场的电弧离子镀的研究

同轴旋转封闭电弧离子设备瘘有平面电弧离子弧和同轴磁溅控的优点，它在同轴靶上建立电弧放电，并采用肇转封闭磁场将电弧斑约束在长腰形的磁环隙内作螺旋运动，随磁路系统而在阴极靶表面上产生旋转的电弧放电，靶处在镀膜室中央，结构简单，膜层均匀，操作方便，工件架安装在阴阳极之间，其只需自转，无需公转，工件装载量多，利用本设备在手表表壳上镀制氮化钛膜层，其工艺重复性好，膜层与基本结合牢固，有靶材利用率高。