计量光栅盘真空镀铬机理与工艺研究

在计量光栅盘的制作过程中,真空镀铬是影响计量光栅盘精度和成品率的主要工序之一。为了提高计量光栅盘的精度及成品率,对计量光栅盘真空镀铬原理及膜层形成机理进行了分析,给出了影响铬层致密性及牢固度的主要因素与铬层均匀性和蒸发距离之间的关系式,并针对其原因对相关工艺进行了改进,实验证明改进后的工艺对改善铬膜的致密性和牢固度及均匀性起到了一定的作用,使计量光栅盘的成品率提高了10%,同时也为进一步改善后续工艺提供了理论依据。     

基于光学树脂基片的码盘、光栅盘制作技术研究

码盘、光栅盘是光电位移精密测量仪器和光栅计量测试设备中的核心元件.目前,码盘、光栅的基片主要是K9玻璃、浮法玻璃、不锈钢及菲林胶片,但它们无法适应振动强、冲击大等恶劣环境的要求.为了解决上述矛盾,采用新型的材料-光学树脂作为基片进行码盘、光栅盘的制作,通过分析部分光学树脂特别是聚甲基丙烯酸甲酯(简称PMMA)、聚碳酸酯(简称PC)、聚苯乙烯(简称PS)的光学特性,在研究现有光刻复制工艺的基础上,采用新型的制作技术制作出PC树脂基片的光栅盘,在45倍显微镜下观察,线条陡直、无龟裂,试验结果表明该工艺可行,工艺参数正确,为进一步研制以树脂码盘、光栅盘为核心元件的测量仪器和光栅计量设备提供了试验基础.     

计量圆光栅的制作工艺及质量参数研究

计量圆光栅是光电编码器中的核心元件,它的精度直接影响光电编码器的精度,因此,制作出高精度的计量圆光栅是研制高精度光电编码器的前提。详细介绍了计量圆光栅的制作工艺和衡量计量圆光栅质量的参数,并通过实验对计量圆光栅的制作工艺和质量参数进行了对比,为设计高精度角度传感器提供了一定的理论参考。     

Cr12MoV钢真空油淬工艺研究

利用金相显微镜、扫描电镜、X射线衍射仪研究了Cr12MoV钢不同淬火工艺处理后的组织,并通过显微硬度计和磨损试验机测定了样品的显微硬度和耐磨性。结果表明,Cr12MoV钢真空油淬处理后,其组织主要由马氏体、碳化物和残余奥氏体组成。冷处理使残余奥氏体量下降,样品的硬度及耐磨性显著提高。     

离子镀（Ti,Cr）N涂层的组织结构与耐蚀性能的研究

研究了离子镀（Ｔｉ,Ｃｒ）Ｎ涂层的组织结构和耐蚀性,经ＸＲＤ分析表明,（Ｔｉ,Ｃｒ）Ｎ涂层中的Ｃｒ原子部分置换ＴｉＮ晶格中的Ｔｉ原子,且部分与Ｎ反应生成ＣｒＮ,Ｃｒ２Ｎ或以单质态存在。经耐蚀性分析得知,由于Ｃｒ的加入,提高了（Ｔｉ,Ｃｒ）Ｎ涂层的致密度,同时加剧了阴极极化程度,延长了腐蚀原电池的开动过程,从而增强了涂层的耐蚀性。     

活塞环表面Cr/CrN纳米多层膜的微观结构

为改善发动机活塞环的摩擦学性能,提高其使用寿命,采用多弧离子镀技术在活塞环表面制备了Cr/CrN纳米多层膜.采用x 射线衍射（XRD）、透射电子显微镜（TEM）、俄歇能谱仪（AES）、纳米硬度仪和CETR摩擦磨损试验机,系统分析了不同调制周期Cr/CrN纳米多层膜的微观结构、成分分布、纳米硬度和抗滑动磨损性能.结果表明：Cr/CrN多层膜由CrN、Cr2N和Cr相组成,在CrN（200）方向上出现择优取向.随调制周期的减小,多层膜的硬度和残余应力增大,当调制周期为80nm时,多层膜的硬度值最高达到21.5GPa;当调制周期为120nm时,H³/E²值达到最高,此时划痕临界载荷值最高.根据摩擦磨损试验结果可知,与电镀Cr和CrN涂层相比,Cr/CrN多层膜具有相对较好的抗滑动磨损性能,其磨损机制主要以磨粒磨损为主,有可能替代原活塞环Cr电镀层.