无水氟化氢工艺流程比较

介绍用萤石法制取无水氟化氢,在精馏塔和脱气塔的设计和操作中,有常压和加压两种生产工艺流程。分析这两种工艺的优缺点,指出加压流程是目前行之有效的节能工艺流程。     

无水氟化氢回收方法初探

1前言由于含氟芳香化合物的特殊性,其应用范围日益广泛,主要包括防火剂、抗菌素、杀菌剂、除草剂、杀虫剂、液晶及聚合物等方面。全球每年使用的芳香氟化物数量约为400～4500吨,预计从目前至下个世纪初的市场需求量每年将以7％的速度递增［1］。作为合成含氟芳香化合物方法之一的芳胺在无水氟化氢（以下简称AHF）中重氮化,之后热解的路线成为工业上一个基本方法。该方法较传统的席曼法有两大优点：（1）不需要分离中间体重氮盐而直接热解;（2）不需要四氟硼酸盐。这样可大大降低生产成本。但该方法需要使用大量的AHF,而实际上只有…     

无水氟化氢生产中的原料预处理

我国目前在无水氟化氢生产中,所采用的是一段反应工艺,液固均匀混合问题很难解决,影响稳定生产。本文针对此问题进行了研究,测得了有关数据,提出一些解决措施。实践证明切实可行。     

减轻无水氟化氢反应转炉腐蚀的途径

本文简要叙述无水氟化氢生产的反应机理,探讨造成反应转炉腐蚀的各种因素,由此总结出几种减少反应转炉腐蚀的途径。     

无水氟化氢生产技术的研究进展

随着中国氟化工行业的高速发展,萤石资源愈加枯竭,合理回收利用磷矿中丰富的氟资源日渐重要。回收利用磷肥副产氟硅酸生产无水氟化氢,不仅有利于治理氟污染,而且有利于萤石资源的保护,更有利于氟资源的有效利用。文章重点介绍了利用磷酸生产中的副产品——氟硅酸生产无水氟化氢的技术。     

提高工业无水氟化氢质量的生产改进措施

本文从工业生产角度探讨了提高无水氟化氢产品质量的途径,对工艺操作和设备进行了一些改进并取得了较好的成果,同时对一些疑难问题进行了理论上的分析。     

浅谈影响无水氟化氢生产工序管理的因素

目前,我国的无水氟化氢（简称AHF）大部分生产仍存在着工艺落后、环境污染严重、设备简陋且腐蚀严重、计量控制手段差、产品消耗高、质量较差等问题,使该产品的技术经济指标远远落后于国际先进水平。要使我国的AHF生产赶上国际先进水平,即要依靠技术进步,又必须加强生产过程中的工序管理。工序管理是按系统的思想,把专业管理、数理统计工具有机结合起来,对因素特别是主导因素,实行重点管理,以达到最佳的生产状态。它是企业管理的重要基础工作。加强工序管理是对每一个生产工序进行调查、分析、控制和优化的动态过程。本文就原料…     

工业生产无水氟化氢的研究

全面分析了萤石——硫酸法生产无水氟化氢（AHF）中气体氟化氢的制取、粗品的蒸馏、气体中SO2和SiF4的脱除、液态氟化氢的精馏等生产工艺,重点研究了生产工艺中物料的前处理、物料的浓度与配比、水分和生产工序的管理等影响AHF产品品质和产率的因素,提出了相应的解决方法,并对AHF生产工艺的发展做出了展望。     

简述万吨级无水氟化氢引进项目

简述万吨级无水氟化氢引进项目的来源、装置的组成、现状及存在的问题;着重介绍该装置的工艺流程特点及装置的消化与吸收。它将为我国无水氟化氢生产普遍存在的工艺落后、消耗高、腐蚀严重、污染大等问题的解决起一定的指导作用。     

氟磺酸对无水氟化氢生产的影响

１　氟磺酸的性质 氟磺酸是一种稀薄具有刺激性的无色液体,它与潮湿空气接触形成浓烟,对人的皮肤作用与发烟硫酸相似。当加热到９００℃时还呈完全稳定态,在室温时不与Ｓ、Ｃ、Ｓｅ、Ｐｂ、Ｔｅ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｒ、Ｍｎ等反应,但能与Ｓｎ反应产生少许气体;也稍能侵蚀Ｈｇ,能很快地破坏橡皮、软木、火漆。在加热时强烈地侵蚀Ｓ、Ｐｈ、Ｓｎ、Ｈｇ它与丙酮反应产生暗红棕色液体,并放出大量的热。与苯及氯仿反应析出ＨＦ,与醚反应发出大量的热并起泡沫,生成乙基酯,与水会产生爆炸性的剧烈反应。纯的氟磺酸（ＨＳＯ３Ｆ…     

氟硅酸法制无水氟化氢铵新工艺

氟硅酸是湿法生产磷肥的副产品。以氟硅酸为原料,反应生成无水氟化氢铵。通过单因素实验得出反应的最佳工艺条件:n(氟硅酸)∶n(氨水)=1.0∶6.0,采用质量分数为20%的氨水;氨解反应后的氟化铵溶液经氢氟酸酸化、浓缩、结晶制得无水氟化氢铵产品。在此条件下制备的无水氟化氢铵产品质量分数达到98%,符合优等品行业标准要求。新工艺具有良好的经济效益和环保效益,且生产成本低廉。     

无水氟化氢生产过程中“废气”治理提升实践

萤石法无水氟化氢生产过程中会产生一定量的污染物质,这些污染物包括含氟废气、含氟废水以及含氟固废。之前各生产企业都有各自相应的处理措施,但处理效果仍无法满足当前的环保法规要求。针对现阶段废气处理提标要求：氟化物（以F计）排放限值从≤9.0 mg/m³提升到≤6.0 mg/m³、工艺尾气二氧化硫排放限值从≤550 mg/m³提升到≤100 mg/m³、以及降低烘粉尾气VOC含量等。从分析污染物产生的成因出发,通过调整并集成现有的选择性催化还原（SCR）脱硝、VOC氧化技术方案,探究出达标排放的处理方法。根据废气成分特征,在节能减排的前提下,通过采用简单、成熟、可靠的处理工艺,既能满足不断提升的环保要求、实现清洁化生产,又能获得功效可靠、经济合理、管理便利的效果。     

常变改加变的几点体会

我厂合成氨变换工艺原为常压变换，2001年净化系统改造，采用了中国五环化学工程公司(原化工部第四设计院)的工艺设计，将常压变换改为2．0MPa“中低低”加压变换工艺，于2001年11月6日一次开车并网成功。在近两年的运行中，装置总体运行良好，工艺指标达到了设计值     

无水哌嗪精馏分离过程模拟与实验

基于ChemCAD软件,利用SHOR模块对工艺流程做初步计算,确定相关参数,并对无水哌嗪分离工艺流程进行模拟。在模拟过程中重点考察了回流比、塔板数、进料位置等参数的变化对模拟计算结果产生的影响。经过分析计算确定了最优分离参数,可以得到摩尔分数为99.55%的哌嗪及摩尔分数为99.29%的三乙烯二胺产品。间歇精馏实验表明,实验值与模拟值基本吻合。     

常压和加压浸渍法制备壳聚糖性能对比

研究了常压和加压条件下碱液浓度和反应时间对壳聚糖性能的影响。与传统工艺相比,在不改变壳聚糖化学结构、晶型结构的条件下,压力浸渍法反应时间由6 h降到1 h,耗碱量降低了65%。结果表明,压力浸渍法可得到更高脱乙酰度和更高分子量的壳聚糖产品。     

变压精馏分离1,1,1,3,3-五氟丙烷-氟化氢的工艺模拟

1,1,1,3,3-五氟丙烷-氟化氢混合物是一种二元最低共沸物。在计算机模拟和分析的基础上,研究了变压精馏分离五氟丙烷-氟化氢的工艺流程。选用Aspen P lus软件内置的热力学模型W ILS-HF描述五氟丙烷-氟化氢二元共沸体系的气液平衡。根据实验数据,回归该热力学模型中的交互作用参数,模型的计算结果与实际数据吻合较好。使用Aspen P lus对整个分离流程进行模拟计算,以系统能耗最低为目标,对重要的工艺参数进行了优化,模拟结果对工业过程的设计具有一定的指导意义。     

无水氟化氢中氟硅酸测定结果的不确定度评定

根据国家标准工业无水氟化氢中氟硅酸的测定方法,结合日常测量结果,对无水氟化氢中氟硅酸的测定结果不确定度进行了评估。根据《测量不确定度评定与表示》（JJF1059-1999）中有关规定,建立了不确定度评定的数学模型,讨论了影响评价结果不确定的几个主要误差来源,包括天平误差、分光光度计标准曲线误差、测量重复性等的影响。通过计算各不确定度分量,经合成得出扩展不确定度。并根据不确定度的评定结果,得出测量重复性是对不确定度影响最大的因素。     

The role of silanol groups on the reaction of SiO2 and anhydrous hydrogen fluoride gas

It is essential to etch SiO₂ for producing silica glass components, semiconductor devices, and so on. Although wet-etching with hydrogen fluoride (HF) solutions is usually employed for this purpose, it faces a drawback that microstructures stick during the drying of the solution. To overcome this problem, we have developed a dry-etching technique with gaseous HF at high temperatures. In the present study, an interesting phenomenon was found that silicon thermal oxides were much less etched than vitreous silica by gaseous HF. Such difference had not been found in wet- or humid HF gas etching. Because their bulk chemical formulae are the same (SiO₂), it was suggested that the surface species affected the reaction rate. In fact, preprocessing with water vapor plasma remarkably increased the etching rate on the thermal oxides layer, and vacuum heating almost completely suppressed the reaction on the vitreous silica and the plasma-treated thermal oxides. These results indicate that the surface silanol groups enhance the reaction between SiO₂ and gaseous HF. Based on the results, a model of chain reaction for SiO₂ and gaseous HF was proposed, where the surface silanol groups act as the reaction center.