光学滤波片薄膜镀制工艺中的监控技术模拟分析

在窄带滤波器件的研制过程中，模拟分析了采用极值法对膜层厚度进行光学监控及其偏差对滤波器件光学特性的影响，并给出了一个4腔DWDM滤波片的理想工艺曲线以及模拟计算所得到光学特性的分布曲线，计算结果有利于指导高品质薄膜器件的研制，并研制出符合工业应用标准要求3腔和4腔的100GHz,200GHz的DWDM滤波片以及CWDM滤波片。     

软X射线多层膜元件研究进展

对各国进行的软Ｘ射线多层膜研究所取得的最新成果给出了比较系统全面的评述，首次给出了文献报道的软Ｘ射线全波段的各种膜系实测正入射反射率的统计结果。     

常用间隔层材料软X射线多层膜的设计

为了研究常用间隔层材料的软X射线多层膜的材料设计,利用Lawrence-Livermore国家实验室提供的软X射线多层膜设计程序进行模拟计算,得到了软X射线波段内的具有高反射率的膜系。结果表明,Mo在相当大的波段范围内具有良好的光学特性;除了在12.44nm是首选膜系外(除4.36nm外),其它波长都有较高的反射率;U作为吸收层材料,在相当大的波段范围内,与其它间隔层材料配对的多层膜也具有较高的反射率。这对多层膜膜系的材料选择有一定的指导意义。     

改进的光纤光栅多层膜分析方法

将多层膜理论与传输矩阵方法相结合 ,提出了一种光纤光栅的分析方法。该方法将光纤光栅看作一多层膜系统 ,每层薄膜用 2个 2× 2的矩阵 (界面传输矩阵和膜层传输矩阵 )来表示。将每层的传输矩阵依次相乘 ,最后得到 1个 2× 2的矩阵 ,进而可以得到光纤光栅的特性。该方法避免了传统传输矩阵方法中对耦合模微分方程的求解 ,可以对各种光纤光栅作出灵活、精确的分析 ,且与传统的多层膜方法相比更简单、直接。用该模型模拟了多种光栅的光谱特性 ,分析讨论了计算参数设定对计算精度的影响以及计算误差。     

a—Si／Mo多层膜的制备及其结构研究

本文报导了利用射频溅射技术成功地获得具有一维周期结构的ａ－Ｓｉ／Ｍｏ多层膜。分析讨论了可控厚度多层膜的生长条件；利用Ｘ－ｒａｙ衍射、ＳＩＭＳ、ＳＥＭ、Ｒａｍａｎ等分析手段，对多层膜进行了结构分析；同时还研究了膜的热学性能，结果表明这种多层膜有很好的热稳定性。     

MMIC用多层磁膜电感研究

采用磁控溅射生长磁膜工艺,结合BCB(苯并环丁烯)平坦化技术,首次制作了"金属线圈/磁膜/金属线圈(M/F/M)"和"磁膜/金属线圈/磁膜/金属线圈(F/M/F/M)"两种结构的多层磁膜电感,整个工艺与标准MMIC工艺兼容.在2 GHz处,"金属线圈/磁膜/金属线圈"结构电感的电感量为7.5 nH,品质因数为7.17,...     

多层复合薄膜中成分变化的能谱研究

某种新型传感器材料采用在Ｓｉ单晶基体上制备多层膜结构，这些膜的成分特性将对传感器的功能有重要影响。为配合新型传感器的开发，我们利用ＪＥＭ－６３０１Ｆ场发射扫描电镜及ＥＤＳ附件研究多层膜的成分变化特性，目的是为材料设计和工艺优化提供依据。实验过程及结果...     

超大面积厚膜多层电路的研制

本文阐述了超大面积（150mm*100mm)厚膜多层板的制造技术及其应用。     

非理想参数下193nm光学薄膜的设计

193nm光学薄膜是100nm步进扫描光刻机系统中主要用到的光学薄膜。分析了膜料光学常数的不确定性、高折射率膜材料消光系数、水吸收以及膜层表面粗糙度对薄膜光学性能的影响。结果表明，要镀制出反射率大于98．5％的高反膜．必须将高折射率材料的消光系数k控制在0．0034以内，同时膜层表面的粗糙度σ控制在1nm以内。膜层性能同时还受其使用环境中水气含量及其水气中杂质含量的影响，要减少膜层水吸收的影响．就必须提高薄膜的致密度．采用离子成膜技术．或者改变膜层的使用环境。在考虑相关因素的前提下，设计了在光刻机曝光系统中主要用到的增透膜、高反膜．并分析了其实际性能与设计结果存在差别的原因。