多层膜周期厚度的精确计算

布拉格修正公式可以用于计算基底是平面的软X射线多层膜周期厚度,但对于基底是曲面的多层膜,小角X射线衍射峰角度常常发生漂移,用该公式计算的周期厚度就与实际周期厚度不一致。分析了衍射峰角度位置漂移现象,对以布拉格公式为基础的多层膜周期厚度计算公式进行了修正,实验结果显示,利用修正公式获得的多层膜周期厚度比较接近多层膜实际周期厚度。     

厚膜多层布线介质的研制

新型厚膜多层线布及交叉介质材料达到了美国杜邦公司同类产品的技术水平。它既可以在空气中烧成,又可以在氮气中烧成。本文还探讨了若干关键的技术性问题。     

杂乱层厚的多层介质膜干涉滤光片

杂乱层厚的多层介质膜干涉滤光片张道中，李兆霖，程丙英（中国科学院物理所光物理实验室北京１００（）８０）利用光束在多层介质膜中的干涉效应，可以得到窄的透过带宽、一定透过率的干涉滤光片。这种干涉滤光片尽管理论上透过带宽十分窄，但由于存在镀膜材料的吸收和膜...     

双层介质膜厚度和折射率的测定

本文叙述了利用椭圆仪测量双层介质膜的厚度和折射率的原理和方法。     

多层介质光学膜系的二阶膜厚误差因子分析

本文推导了多层介质光膜系的二阶膜相对误差因子表达式，以λ０／４高反射多层介质膜系为例对一阶和二阶误差因子进行了数值分析，比较了两者在不同波长区域对膜系光谱性能的影响，发现不应仅考虑一阶误差因子，而应同时考虑一阶和二阶误差因子的作用，才能较好地描述膜厚误差对膜系光谱性能的影响。     

多层单分子膜厚度的测定

本工作介绍一种应用透射电子显微镜测定单分子膜厚度的简便方法,用这种方法可以测定出厚度在几纳米至几十纳米的单分子膜,为研究单分子膜的分子排列及其结构提供了有用的参考数据。     

厚膜电容器的新介质

本文介绍新研制成功的烧结温度为850～1000℃的一组厚膜介质。在研制过程中得到的介电常数值为25、50和100。正如研究这组新介质不同成分的混合料的性能那样,作者也研究了不同导体电极的电性能。这些介质的耐热、耐压和耐湿热性能良好。电容器可以用激光调整后,再涂面釉。通常所获得的Q值为100～200。     

利用模拟计算机制备任意厚度介质多层膜

除几种简单情况外,计算介质多层膜的光学特性是很少能实现的,只能借助计算机;特别是,当“计算”指定特殊用途的多层膜时,要得到最佳解就必须用一种逐次近似法,尤其是这种方法的自动计算过程应特殊指定。出于此目的,在法国卡昂新造了一台模拟装置。原理、制备、精度控制等另有描     

多层介质光学膜系的误差分析——膜层厚度变化的灵敏度因子

文中推导了对于给定膜系的特定膜层的厚度变化的灵敏度因子计算公式，并给出了用计算机对不同膜系的计算实例。分析了厚度灵敏度因子对膜系透射光谱的灵敏谱段、灵敏膜层等特性的影响规律，并由此给出了确定膜层厚度允差的方法。     

厚膜介质电致发光显示器件

厚膜介质电致发光显示器件是一种基于厚膜印刷技术和薄膜荧光粉技术相结合的新型固态显示技术。目前．采用这一技术的高清晰度彩色平板显示器件已研制成功。该技术在亮度、对比度、颜色、图像质量、寿命和成本方面一直在持续不断地进行改进。厚膜介质电致发光显示器件已从研发阶段过渡为商品化生产阶段。本文将介绍TDEL的发展历史和现状。     

PCB层间介质层厚度探讨

PCB生产实践中,有阻抗控制要求的印刷板,需在PCB制造中对板材的介电常数、导线的宽度和厚度、结构等加以控制,多层板中一旦特性阻抗控制不好,造成高速传输信号过程中和终端出现损耗损失、衰减失真、信号重叠、杂乱等现象,因此必须严格管控PCB层间介质层厚度。本文通过对PCB层间介质层厚度探讨,并针对此进行设计改善、控制。     

基于反射光谱的单层抗反射膜的非在位膜厚精确控制

提出一种基于反射光谱分析的非在位膜厚控制技术,首先利用椭圆偏振光谱仪确定波长300～1 700 nm范围内的薄膜折射率,由此确定对应于特定波长(如1 550 nm)的最佳抗反射(AR)镀膜沉积条件。然后计算最佳AR镀膜厚度所对应的反射谱,得到相应的CIE标准色谱坐标。通过对比实测镀膜颜色和计算得到的最佳颜色,可以实现小尺寸器件端面上AR镀膜厚度的优化控制。利用这一方法,由等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制备的SiNx单层AR镀膜,获得了4.4×10-4的反射率。     

智能介质膜厚度测试仪的研制

本文研制的智能测试仪能直接同金属表面所镀介质膜的厚度，文中介绍了测量原理和仪器结构。     

测定均匀介质膜之厚度、折射率及消光系数的新方法

对于生长在全吸收衬底上的有限厚度的均匀薄膜,用椭圆偏振光谱来测量膜厚d,折射率n(λ)及消光系数κ(λ)面临着困难。借助于对透明光学玻璃(或石英玻片)上薄膜透射率Τ-波长λ关系的测量,本文找到了与膜厚相关的一个方程,因而找到了测定d、n(λ)、κ(λ)的方法。基于这样一种认识:同一条件下,在透明光学玻璃(或石英玻片)上和单晶硅衬底     

标准多层介质膜

美国兰姆达光学和镀膜公司,除提供大家知道的恰克拉斯基YAG激光晶体外,还提供一系列专用精密光学元件,其中重点是“多层介质镀膜”,透射率范围为0.1％～70％,镀膜1～23层,这种多层介质镀膜已     

电致发光新契机——厚膜介质

自从1936年Destriau发现ZnS：Mn电致发光以来，电致发光显示(EL)技术不断发展，商品化的EL产品也层出不穷。其中有交流粉末型、直流粉末型、交流薄膜型和直流薄膜型。所有这些类型的发光器件都有着各自的优、缺点。因而限制了他们在市场中的应用程度。然而，现在EL产品市场出现了一个新变化：厚膜介质电致发光(TDEL)显示及光源应用。     

厚膜电位器膜层质量控制研究

本文分析了影响膜层外观质量的各种现象，探讨了产生这些现象的原因，提出了针对性的改进措施，经实践证明是切实有效的。