业界新闻

夏普公司日前公布了645nm和780nm的双波长激光器。该元件将CD用波长为780nm的激光和DVD用波长为650nm的激光融为一体,特别适用在同时使用CD-R等CD光盘和DVD光盘的设备上使用。该产品的外部尺寸为宽8.2mm、厚3mm,内部分别采用MBE技术和MOCVD技术在一个芯片中实现654nm和780nm两种激光波长。该激光器DVD用激光的最大输出功率为7mW,CD为5mW,可以在摄氏70度的高温下使用。过去都是在DVD激光头上分别配置650nm激光芯片和780nm激光芯片来实现双波长的。但是由于需要处理来自不同位置的两种波长的激光,激光头的光学部分的构造既复杂、零件数目也多。近来半导体激光公司纷纷开发“双波长激光器”,以精简DVD激     

消除逆光耀斑

耀斑是指太阳直射镜头所产生的一些耀眼的斑点、光迹。一般说来，当你使用广角镜头进行逆光拍摄的时候，特别容易出现。中长焦镜头出现的概率要低一点。此外，选择高端的镜头，它们会有更先进的镀膜技术，耀斑抑制会比廉价的低素质镜头要好。     

均一粒径硅溶胶的可控合成及其在化学机械精抛光中的应用

随着大规模集成电路制程日益复杂,对化学机械精抛光材料的要求也越来越高。目前,用于高端芯片平整化所需化学机械精抛光液的合成仍存在一些技术难点。本文通过对传统的溶胶凝胶法进行改进,在不添加稳定剂的条件下规模合成粒径小（10～50nm）、均一且稳定性好的硅溶胶。该硅溶胶作为磨料用于硅片的化学机械精抛光（CMP）,研究了双氧水浓度对硅片表面去除速率（MRR）和表面粗糙度（Ra）的影响。当双氧水质量分数为5%时,硅片表面粗糙度为0.1nm,可实现单晶硅片的精密加工。     

专利介绍

<正> 防除植物害虫的新方法日本三井东压公司专利《利用光质防除植物害虫的方法》(特开昭58—149227)介绍:通过阻止一定波长范围的光透过,可防除农作物病虫害,并不使植物徒长。所使用的农用覆盖膜材料可阻止350nm以下波长的光通过。     

我国超净高纯试剂市场需求及产业化前景

一微电子技术发展现状及趋势随着集成电路集成度的不断提高,电路的线宽越来越细。从第一个晶体管问世算起,半导体技术的发展已有多半个世纪了,现在它仍保持着强劲的发展态势,继续遵循Moore定律,即芯片集成度18个月翻一番.每三年器件尺寸缩小0.7倍的速度在发展。特别是二十世纪九十年代末以来,集成电路制作技术的竞     

调色工艺在电视制作中的应用

一、调色工艺的发展 调色工艺是电视后期制作中重要的一环，一个节目或一部短片通常由几百上千个镜头组成，由于场景环境、照明条件、设备情况等外因，各镜头之间很难保持一致，要通过后期调色处理，使色调与明暗相互衔接协调起来；而且调色还可以使画面产生特殊的艺术效果，比如同一幅画面，通过调色处理可以得到不同的色彩、明暗和气氛的效果。随着计算机运算能力的不断提高，调色在节目制作中的运用越来越广泛，也由此产生了许多实拍达不到的艺术效果，     

用橡胶印章做芯片

贝尔实验室开发出一种高技术的橡胶印章 ,可以像制造芯片一样印制电路 ,而没有传统芯片生产技术的种种限制。这一技术基于传统的芯片制造技术 ,但是可以在一些特别的材料上印制电路 ,比如玻璃和塑料。这一新技术可用于可卷曲屏幕、仅能传输某频率光信号的光纤设备的制造。这一技术的初始操作和传统方式一样 ,使用紫外线在硅片上蚀刻出模板 ,然后用液态的硅树脂注入硅平面 ,在低温下使之凝固。随后 ,橡胶就可以剥落 ,并涂上一层特殊的墨水 ,就可以在其它表面上印制了。尽管这一技术现在还不能实用 ,但是它的确有可能替代传统的芯片生产方式。…     

钒氧酞菁薄膜瞬态光电压性能的研究

本文分别用1064nm,532nm和355nm激发波长的YAG脉冲激光对所制备的phase-Ⅱ结构钒氧酞菁膜Al\phase-Ⅱ VOPc\ITO夹心电池进行瞬态光电压响应研究。随着3种波长激发光脉冲强度的增加，瞬态光电压信号均增强。激发光波长1064nm、532nm处于酞菁膜Q－带吸收区肩部，光电压的极性与激发光入射方向无关，均为负信号；而激发光波长355nm处于酞菁膜B－带，光电压的极性与激发光入射方向有关，从ITO极方向激发产生正电压信号，从A1极激发产生负电压信号。激发光波长对夹心电池的光电压产生有明显的作用，光电压产生过程中应存在不同的机理。这与前文^[1]对同一夹心电池稳态光电压响应研究所推断的结论一致。     

集成高分子光子学器件平台

在高分子基板上制作成的单膜全氟高分子波导结构,具有非热敏感性、偏振无关的工作特点,同时,在1310nm、1550nm工作波长分别有<0.04和<0.05dB/cm的超低光损耗.本文研究了在器件制作过程中所产生的孔状结构对传输损耗的直接影响.实验证明,超低的传输损耗可以通过降低孔状结构的尺度至纳米范围来实现.这些波导结构可以成为新一代高性能集成高分子光子器件的技术平台.     

溶胶——凝胶法制备双组份高折射率石英玻璃

溶胶──凝胶法制备双组份高折射率石英玻璃１引言高折射率玻璃适于作显微镜头与光纤的光学元件。石英玻璃有很高的热稳定性、化学稳定性，并且在一个较宽的波长范围内有良好的透光性。因此，我们认为修杂玻璃要比多组分玻璃更能提高光学元件的性能。这是由于掺杂玻璃的熔...     

Aperture光圈

光圈是镜头上的通光孔径,是控制相机进光量的一个重要因素。什么是光圈？相机通过两个参数来控制照射到感光元件上的进光量。其中一个是快门速度,控制着传感器接受光线的时间;另一个就是光圈,控制着单位时间内照射到传感器的光量。光圈是镜头上一个可变大小的孔,通过自动或者手动的调节可以改变光孔直径,从而控制进光量。     

国外光刻胶及助剂的发展趋势

光刻是半导体产业常用的工艺．借助光刻胶可将印在光掩膜上的图形结构转移到硅片表面上。光掩膜制备也是一个光刻过程，不过其所用化学品不同。     

Aperture光圈

<正>光圈是镜头上的通光孔径,是控制相机进光量的一个重要因素。什么是光圈?相机通过两个参数来控制照射到感光元件上的进光量。其中一个是快门速度,控制着传感器接受光线的时间;另一个就是光圈,控制着单位时间内照射到传感器的光量。光圈是镜头上一个可变大小的孔,通过自动或者手动的调节可以改变光孔直径,从而控制进光量。     

Bragg光栅传感器在复合材料加工与检测中的应用

本文介绍了Bragg光栅传感器的结构和工作原理。将Bragg光栅传感器埋入增强体内,通过VARTM成型制作了复合材料。利用SM130光纤光栅解调器,通过收集光的波长的变化来对复合材料的加工工艺进行了在线监测;对埋入光纤光栅传感器的复合材料进行了拉伸试验,通过波长的变化来计算材料在拉伸过程中的受力变化,并与常规的拉伸试验进行了对比,两者所测得的力是基本一样的,所以证明了通过光纤光栅传感器可以进行复合材料的健康监测,并且可疑对大型复合材料的加工、使用实施在线监控。     

LED光源对PCB油墨革命性的影响

PCB油墨是指印制电路板(Printed Circuit Board,简称为PCB)所采用的油墨,光引发剂是PCB油墨的重要组分之一,目前常用引发剂最敏感的吸收波长在365nm左右,与高压汞灯(PCB油墨常用的固化光源)发出的最强波长一致;LED光源发出的光波长是395nm,基于光引发剂的吸收光谱与光源的发射光谱相匹配的原则,随着UVLED曝光机的出现,要求对传统PCB油墨中光引发剂的最大吸收波长做出相应的改变,光引发剂的改变将会给PCB油墨带来革命性的影响。     

多孔氧化铝膜的光学特性研究

采用二次阳极氧化法,制备了高度有序多孔氧化铝膜。研究了多孔氧化铝膜的光透过、光发射特性。结果表明,当波长低于290 nm时,透过性较差;在波长290~400 nm附近氧化铝膜的光透过率发生突变;当波长高于400 nm时,光透过性较好。光致发光测试表明多孔氧化铝膜在400~550 nm之间有一个较宽的蓝色发光带,发光峰在450~460 nm。发光谱的峰位与氧化电压有关,随着电压的增大发生红移。     

白光LED用Na_(0.45)La_(3.16)W_5O_(20):Eu~(3+)红色荧光粉的发光性质研究

采用共沉淀法制备了Eu~(3+)掺杂Na_(0.45)La_(3.16)W_5O_(20)红色荧光粉,利用XRD、荧光光谱等方法对荧光粉的组成结构及发光性能进行了表征。结果表明,Na_(0.45)La_(3.16)W_5O_(20):Eu~(3+)荧光粉在612nm波长光监测下的激发光谱是由一宽带和系列锐峰组成,其最强激发峰位于蓝光465nm处,这与目前被广泛使用的蓝光LED芯片的输出波长以及商业化生产的460nm光源相匹配。该荧光粉可以被465nm蓝光有效激发,得到614nm处Eu~(3+)非常强的5D0→7F2电偶极跃迁发射峰,是一种能够较好应用在近紫外激发的白光LED用红色荧光粉材料。     

光致变色薄膜功能的制备与光色性质实验研究

采用旋涂法在不同介质上制备了含二芳烯类光致变色化合物聚乙烯吡咯烷酮(PVP)薄膜。使用PerkinElmer lsmbda900紫外可见近红外光谱仪对薄膜的光致变色性质进行了研究。结果表明：在365nm紫外光照射下，该薄膜从无色变为蓝色，并在530-700hm波长区域出现一个很强的宽吸收光谱峰，其最大吸收波长为611nm，在适当波长(550nm)的可见光照射下，薄膜又从蓝色变为无色。同时，该膜可溶于水。     

碱刻蚀制备金字塔条件对多晶黑硅性能的影响

讨论了不同条件下多晶硅片的表面碱刻蚀工艺,并通过失重率、扫描电镜、紫外可见近红外光谱仪,对刻蚀后的多晶硅片以及后续制备的多晶黑硅进行系统的表征。研究结果表明,多晶硅表面碱刻蚀的最佳工艺为:刻蚀时间240s,刻蚀温度80℃,氢氧化钾溶液浓度67.2g·L～(-1),碱刻蚀添加剂A为5m L·L～(-1)。采用该工艺处理后,硅片的平均失重率为2.737%,表面金字塔颗粒分布密集且大小均匀,制备成多晶黑硅后,对波长为600～1000nm光的反射率低至20%。     

几种生物芯片的研发应用进展

生物芯片的概念来源于计算机芯片，计算机芯片是指将不同功能单元集成在一块微型器件上。生物芯片借用了计算机芯片的集成化特点，将生物活性大分子（目前主要指核酸、蛋白质）或组织、细胞等密集排列固定在固相载体（主要有玻璃片、硅片、硝酸纤维膜、PVDFM膜等）上形成微型检测器件。目前，生物芯片主要包括基因芯片、蛋白质芯片、微球体芯片、微流体芯片及芯片实验室。