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通过用电化学法预先沉积一层碳膜的方法,利用热丝化学汽相沉积法使金刚石顺光滑硅片上的成核密度达到10^7cm^-2左右,与未镀碳膜相比提高了近3个数量级。文中还分析了可能的原因。 相似文献
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纳米结构材料的模板合成方法 总被引:15,自引:0,他引:15
本文综述了以径迹蚀刻聚合物膜或多孔Al2O3膜为模板,结合电化学沉积、化学沉积、现场聚合、溶胶-凝胶法和化学气相沉积技术合成地电聚合物,金属、碳,无机半导体等纳米管状或线型材料的方法,同时还介绍了模板合成材料的应用前景。 相似文献
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综述了以径迹蚀刻聚合物膜或多孔Al2O3膜为模板,结合电化学沉积,化学沉积,现场聚合,溶胶-凝胶法和化学气相沉积技术,合成导聚合物,金属,碳,无机半等纳米状或线型材料的方法,同时还介绍了模板合成材料的前景。 相似文献
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弄清化学气相沉积金刚石膜的机理对优化工艺参数具有指导意义。在前期工作中,作者辨析了氢原子、甲基和乙炔在金刚石膜沉积中的作用。本文建立了两个微观指标,即甲基浓度和氢原子与乙炔浓度的比值,分别对应生长金刚石和刻蚀非金刚石碳。通过对G-H和G-H-O反应气氛的模拟,讨论了这两个指标与灯丝温度、气源组成和气压的关系,并构建了含氧气氛生长金刚石的G-H-O三元相图。对热丝法沉积金刚石膜的工艺参数的优化选择进行了机理分析与预测。为工业化生产金刚石膜提供了参考。 相似文献
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本文利用射频等离子体增强化学气相沉积(RFPECVD)工艺在不锈钢基底上制备了含氢非晶碳膜(a-C:H膜)。在沉积碳膜之前,首先在基底表面预先沉积了Ti/TiC、Ti/TiN和Ti/TiN/TiC等过渡层以提高膜基结合力。利用激光Raman光谱分析了过渡层对a-C:H膜生长过程及膜中sp^3含量的影响。实验结果表明,采用Ti/TiN/TiC过渡层时所制备的a-C:H膜中sp^3含量最多,同时膜基结合力最大。 相似文献
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本文采用离子束辅助沉积技术(IBAD)制备一系列碳膜,重点分析添加合金元素(Ti,Cr,Ni)对薄膜性质的影响。实验结果表明:添加Ti,Cr,Ni元素对碳膜厚度,硬度无明显影响,但提高了薄膜的结合强度,其中加入Ni后,薄膜的结合强度最好;添加合金元素可以显著减小碳膜的摩擦系数;添加Ti元素碳膜的组织以非晶态为主,与纯碳膜相当。相对于类金刚石薄膜,本实验制备的碳膜试样更接近于类石墨膜。 相似文献
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在水冷反应室式MWPCVD装置中以CH4和H2为反应气体进行了金刚石膜的沉实验,研究了反应气体的压强对金刚石膜中非刚石碳相含量的影响,实验发现,当微波输入功率较小时,随着反应气压的上升,沉积膜中非金刚石相碳的含量单调下降,当微波输入功率较大时,沉积膜中非金铡石相碳的含量先随着反应气压的上升而降低,后又随着反应气压的上升而稍稍增加。 相似文献
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通过对Si(100)衬底上C60薄膜在不同温度处理后的AES谱线研究发现,C60分子于973K时开始分解,生成石墨类碳碎片,1073K时C原子已与Si原子键合形成SiC,1123K时C60分子全部分解,这一研究结果对解释C60分子促进金刚石成核将起到重要作用. 相似文献
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利用自行研制的石英钟罩式微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜装置,研究了硅基片的不同预处理方式对沉积结果的影响。通过扫描电子显微镜形貌观察和喇曼谱分析表明,基片预处理能提高形核密度;用于预处理的金刚石研磨膏的粒度不同,影响金刚石薄膜沉积时的形核密度、晶形和薄膜的质量;表面划痕对沉积金刚石薄膜的影响具有双重性。 相似文献
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镍衬底上定向金刚石膜的成核与生长 总被引:2,自引:0,他引:2
提出了一种包括晶粒接种、高温退火、成核、生长四过程的薄膜沉积新方法 ,用射频等离子体增强热丝化学气相沉积系统 ,在Ni衬底上制备了定向金刚石膜。通过对成核和生长两过程工艺条件的研究 ,掌握了提高成核密度和金刚石定向生长规律。实验还表明 ,膜与Ni衬底之间未见Ni C H界面层的形成 相似文献
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Well-faceted polycrystalline diamond (PCD) films were deposited along with nanocrystalline diamond (NCD) films on the pure titanium substrate by a microwave plasma assisted chemical vapor deposition (MWPCVD) system in the environment of CH4 and H2 gases at a moderate temperature. Diamond film deposition on pure titanium and Ti alloys is always extremely hard due to the high diffusion coefficient of carbon in Ti, the big mismatch in their thermal expansion coefficients, the complex nature of the interlayer formed during diamond deposition, and the difficulty of attaining very high nucleation density. A well-faceted PCD film and a smooth NCD film were successfully deposited on pure Ti substrate by using a simple two-step deposition technique. Both films adhered well. Detailed experimental results on the preparation, characterization and successful deposition of the diamond coatings on pure Ti are discussed. Lastly, it is shown that smooth NCD film can be deposited at moderate temperature with sufficient diamond quality for mechanical and tribological applications. 相似文献
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使用纳米金刚石粉研磨工艺预处理硅片衬底抛光面,在低气压成核的条件下,以丙酮和氢气为反应物,采用传统的热丝辅助化学气相沉积法,制备了自支撑金刚石膜;通过射频磁控溅射法沉积氧化锌薄膜在自支撑金刚石膜的成核面,形成氧化锌/自支撑金刚石膜结构.通过光学显微镜、扫描电镜及原子力显微镜测试自支撑金刚石膜成核面的表面形貌.研究结果表明:成核期的低气压有助于提高成核密度,成核面表面粗糙度约为1.5 nm;拉曼光谱显示1334 cm-1附近尖锐的散射峰与金刚石SP3键相对应,成核面含有少量的石墨相,且受到压应力的作用;ZnO/自支撑金刚石膜结构的XRD谱显示,氧化锌薄膜有尖锐的(002)面衍射峰,是c轴择优取向生长的. 相似文献
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使用一氧化碳作碳源气体,用微波等离子体化学气相沉积法在单晶硅上制备金刚石薄膜,分析氧对金刚石生长的影响。 相似文献
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Diamond films with fine grain size and good quality were successfully deposited on pure titanium substrate using a novel two-step growth technique in microwave plasma-assisted chemical vapor deposition (MWPCVD) system. The films were grown with varying the methane (CH4) concentration at the stage of bias-enhanced nucleation (BEN) and nano-diamond film deposition. It was found that nano-diamond nuclei were formed at a relatively high methane concentration, causing a secondary nucleation at the accompanying growth step. Nano-diamond film deposition on pure titanium was always very hard due to the high diffusion coefficient of carbon in Ti, the big difference between thermal expansion coefficients of diamond and Ti, the complex nature of the interlayer created during diamond deposition, and the difficulty in achieving very high nucleation density. A smooth and well-adhered nano-diamond film was successfully obtained on pure Ti substrate. Detailed experimental results on the synthesis, characterization and successful deposition of the nano-diamond film on pure Ti are discussed. 相似文献