光学薄膜在液晶投影显示技术中的应用

简要地介绍了传统的光学薄膜技术在现代液晶显示技术方面的应用，着重介绍了偏振膜、分色膜、液光片等在提高系统亮度、色饱和度等方面的应用。     

背投显示技术及其用光学薄膜

对比了背投领域几种主要技术的原理和性能特点，同时介绍了多媒体投影系统所需要的各类光学薄膜的作用，参数和光学性能；并针对该领域国内外最新研究状况进行了调研，给出了现在所面临的关键技术难题并对其发展前景做了预测。     

微显示技术与光学薄膜

讨论了光学薄膜在LCD、LCoS及DLP三种微显示光引擎中的应用。同时也简述了相应的光学薄膜技术的进展。     

液晶投影显示系统中的透镜阵列方式

首先对大屏幕液晶投影显示系统进行分析,并在系统设计中采用透镜阵列方法提高系统的光学性能,针对光学透镜阵列方法进行探讨研究,给出透镜阵列的设计方法和设计参数,显示系统采用双排复眼透镜,在１９０Ｗ的金属卤化物灯的情况下可达到４００ＡＮＳＩ流明的光能量输出,对比度大于１００：１,均匀性大于９０％,且显示效果良好,性能优异。     

短波段光学薄膜

本文对真空紫外－软Ｘ光短波段区域的多种极为重要的光学元件如高反射膜镜、光谱色散器件和光谱滤光片等作了较全面地介绍。除较详细的介绍了他们的制备技术外，对于他们光谱透射与反射性能的测量方法与结果也作了较全面地叙述。     

液晶投影显示

通过对液晶光阀，光源及液晶投影显示系统实例的描述，对液晶投影显示技术的现状及发展趋向做了简单介绍。     

一种新的光学薄膜元件——多通道带通滤光片

本文简要论述了一种新的光学薄膜元件,即多通道带通滤光片（MPF）的原理、特点,以及不同类型的多通道带通滤光片在各个领域的应用和设计原理。     

背投显示中光学技术及其进展

背投显示作为最早的大屏幕显示设备,长久以来不断经历着技术革新。本文就背投显示中光学技术的发展作了简略的阐述。     

红外光学元件的精密切削加工与镀膜

以红外光学晶体材料锗（Ge）为重点，介绍红外光学元件的精密切削加工技术及其最新进展。首先主要介绍红外晶体材料及其性能；然后重点叙述晶体材料的切削加工特性，分析晶向对切削面的影响，给出切削条件与切削面质量的关系，列举锗非球面透镜的切削加工以及一些相关问题，最后介绍红外光学元件的镀膜技术。     

红外光学元件的精密切削加工与镀膜

以红外光学晶体材料锗（Ｇｅ）为重点,介绍红外光学元件的精密切削加工技术及其最新进展。首先主要介绍红外晶体材料及其性能;然后重点叙述晶体材料的切削加工特性,分析晶向对切削面的影响,给出切削条件与切削面质量的关系,列举锗非球面透镜的切削加工以及一些相关问题,最后介绍红外光学元件的镀膜技术。     

基于LED的DLP投影显示光学引擎的研究

文章研究基于LED光源的DLP投影显示光学引擎系统,运用非成像光学理论计算了与所选用的DMD芯片相匹配的LED光源的发光面的尺寸及方棒的尺寸,利用光的折射定律和三角法则,设计了光学引擎系统中重要光学元件T11K棱镜的各项参数。采用Tracepro软件对整个光学引擎系统进行了建模、模拟和设计,并测得系统的照度图,计算了系统的光能利用率和观测光的均匀度,为建立基于LED光源的DLP投影显示光学引擎系统的实验装置奠定了良好的基础。     

DLP投影显示中的特殊技术

介绍了数字微镜器件(Digital Micmmirror Device,DMD)的特点,对DLP投影显示中的特殊技术进行了论述.DLP投影显示中的特殊技术主要表现在DMD及其电子学控制、DIP光学引擎设计、DLP光机结构设计等多个方面,例如DMD的结构、DMD的寻址和复位、DMD的二进制PWM驱动、色滤光片控制、光源控制器设计、消杂散光处理、热设计等.由于采用了这些特殊技术,DLP投影显示系统获得了高质量的显示图像,其可靠性也得到了极大提高.     

激光投影显示中散斑的测量

散斑普遍存在于激光显示系统中,严重地影响了画面质量,散斑的测量显得尤为重要。为了确立一套激光显示中散斑测量的方法。文章用散斑对比度作为散斑强弱程度的衡量．采用CCD相机拍照的方法,利用MATLAB进行图像处理,求得散斑对比度的数值。通过大量的实验,分别测量了投影画面的亮度、CCD相机的参数设置等测量参数对散斑对比度数值的影响。通过经验和分析,确定了每个测量参数的取值,提出了一套激光显示中散斑测量的方法,使得测量装置能够最大程度地模拟人眼的视觉效果,真实地反映了散斑对于图像质量的影响。按照这套方法进行散斑测量,不同投影机的散斑对比度在数值上具有可比性,便于评价不同投影机的图像质量。     

立体液晶投影显示

立体图像技术发展很快，有很多方法可实现立体显示，本文介绍能产生逼真立体图像的液晶投影大屏幕显示。     

四基色投影显示

我们采用多芯片HTPS屏结构,已开发出一种四基色前投式投影样机。这种投影机建立在对一种现行高端品牌产品的光学平台进行改进的基础之上。在KESHETTM芯片中,用ColorPeakTM算法,把标准720p输入信号转换成所需要的多基色输入信号,结果使色域和亮度都有了显著的提高。     

投影技术与投影光源分析

简单介绍投影技术的发展，我国投影机市场状况、液晶投影机光源的开发动向。重点介绍短弧金属卤化物灯及短弧氙灯超高压水银灯、金属卤化物灯、卤素灯的技术要求及市场情况。     

衍射光学元件制作中的基片涂胶方法

在基片上涂布一层厚度均匀的光刻胶层,是衍射光学元件制作中的一个重要步骤。介绍了目前用于衍射光学元件制作的两种主要涂胶方法———提拉法和旋转法,分析了这两种方法的特点和影响胶层厚度的主要因素,尤其是对其均匀性的影响,并提出了获得均匀胶厚的途径。对于提拉涂胶,选择粘度较高的光刻胶溶液与合适的提拉速度将有助于减小Marangoni流动和Van derWaals力对膜厚均匀性的影响;对于旋转涂胶,可以通过密封基片所在空间,或者通过气流控制器使基片上方空气流动处于层流状态来获得均匀一致的溶剂挥发速率,从而提高胶层的均匀性。