基片负偏压对PEMSIP法高速钢基体TiN涂层结合力的影响

利用等离子体增强磁控溅射离子镀技术，在高速钢基体上沉积ＴｉＮ之前先镀一层很薄的钛膜做界面膜，继之再沉积ＴｉＮ。利用能谱分析研究界面附近的元素成布，通过刻痕试验测定膜与基体之间的结合力。结果表明，沉积钦界面膜时基片负偏压愈大，基体与界面膜之间的过渡区就愈明显，膜与基体结合性能愈好。     

Cr过渡层沉积粘附型CVD金刚石膜的机理研究

研究了电沉积层作为过渡层沉积CVD金刚石膜的工艺，在硬质合金的Cr电沉积层上用热丝法沉积出CVD金刚石膜。利用SEM分析了电沉积层的形貌，利用EPMA分析了H等离子处理后电沉积层的断面，利用SEM和Raman分析了金刚石膜的表面形貌、成分，利用XRD分析了过渡层和CVD金刚石膜的结合面．利用压痕法研究了金刚石薄膜与基体的结合力。结果表明，H等离子处理使得硬质合全与Cr镀层成为冶金结合，提高了电沉积层的结合强度；在Cr过渡层与金刚石膜之间形成的Cr3C2和Cr7C3等碳化物有利于金刚石的成核和膜基结合强度的提高。     

Ti/TiN复合膜工艺优化及性能研究

利用正交试验和极差分析方法，分析了多弧离子镀Ti／TiN复合膜中工艺参数（弧电流、氮气分压、基体负偏压、钛过渡层厚度）对Ti／TiN复合膜的纳米硬度和膜与基体的结合力的影响及主次关系，并通过正交试验对工艺参数进行了优化。研究表明，氮气分压和弧电流是影响Ti／TiN复合膜纳米硬度的2个最主要因素，膜层与基体的结合力随着弧电流的增加而下降；升高基体负偏压，虽然可以提高Ti／TiN复合膜纳米硬度和膜与基体的结合力，但是高负偏压将急剧升高基体温度，可能导致基体退火；沉积一定厚度的钛过渡层可以显著提高TiN膜层与基体的结合力。     

箔片空气轴承表面钛掺杂DLC膜的制备与表征

采用中频非平衡磁控溅射方法在箔片空气轴承的主轴材料40Cr钢、支承元件铍青铜箔片及硅片上制备了钛掺杂的DLC膜,并对膜的结构、摩擦磨损性能、结合强度以及内应力等进行了表征.结果表明:所制备的DLC膜含有较多的sp2键,与基体结合力强,两种轴承材料上沉积DLC膜之间的摩擦配副的减摩抗磨效果较好,摩擦因数在0.06～0.0...     

PCVD－Ti（CN）膜的工艺及应用研究

通过正交试验对ＰＣＶＤ－Ｔｉ（ＣＮ）膜的镀膜工艺参数进行了优化，得到一可制备高硬度、高结合牢度和高沉积速率的Ｔｉ（ＣＮ）膜的工艺参数。试验表明，在用ＰＣＶＤ法沉积Ｔｉ（ＣＮ）膜的过程中，ＣＨ４的流量是一个重要的控制参数。过多的ＣＨ４会给Ｔｉ（Ｃｘ）膜带来不利影响。氩气虽然可以提高Ｔｉ（ＣＮ）膜的沉积速率，但降低了膜－基的结合牢度。其冷挤压模具应用结果表明，用优化工艺镀Ｔｉ（ＣＮ）膜的模具可比镀ＴｉＮ膜的模具提高寿命２～４倍；与未镀膜的模具相比，可提高寿命１０倍以上。     

高速钢与TiN膜结合强度计算方法的探讨

在研究与应用气相沉积方法的过程中,如何准确地评价膜与基体的结合强度一直是有待解决的问题。本文提出了用四点弯曲定性分析膜基结合强度的方法,并推导出定量计算膜基结合强度的公式。     

用反应性PVD方法在金刚石表面沉积金属钛

采用反应性ＰＶＤ方法在金刚石表面沉积金属钛镀层，用Ｘ射线衍射分析了镀层的成分，证实了镀层中碳化钛的生成。扫描电镜分析表明，金刚石复合体中金刚石与基体金属之间结合致密，并提出了金刚石与基体金属之间的粘结机理。     

高速钢与TiN膜结合强度计算方法的探讨

在研究与应用气相沉积方法的过程中,如何准确地评价膜与基体的结合强度一直是有待解决的问题。本文提出了用四点弯曲定性分析膜基结合强度的方法,并推导出定量计算膜基結合强度的公式。     

α-C:H膜系与氮化物膜系的结构性能比较及机理分析

采用非平衡磁控溅射与阳极离子束技术制备Cr/α-C:H膜系,同时采用多弧离子镀技术分别制备Cr/CrNx与Ti/TiNx膜系,膜层厚度均为2μm。利用扫描电子显微镜、原子力显微镜、Raman光谱、X射线衍射仪分析三种薄膜的微观结构和表面形貌;采用WS-2005型附着力划痕仪测试三种膜系与SKD11不锈钢基体的结合强度;采用自主研制的球磨仪测试制备在SKD11不锈钢与YG6硬质合金基体上的三种膜层耐磨性能。结果表明,利用阳极离子束技术制备的α-C:H膜是一种非晶结构、表面平滑的薄膜,粗糙度值仅为5.21 nm,划痕试验临界载荷为17.8 N。而晶态的TiNx与CrNx膜层粗糙度较高,且其表面存有"熔滴",但其结合强度较高,划痕试验临界载荷达80 N以上。α-C:H膜层的耐磨性能优于TiNx,CrNx,且沉积在YG6硬质合金基体上的膜层单位磨损率均比SKD11不锈钢基体上的膜层低。     

两相液机械密封在不同膜厚下的开启力分析

为了分析两相机械密封端面膜压的分布和液膜开启力的状况，推导出了端面膜压开启力的计算公式，并结合实例用计算机进行计算分析。     

沉积功率对金刚石薄膜质量和结合性能的影响

借助ＳＥＭ、ＸＲＤ和Ｒａｍａｎ光谱等分析方法对不同沉积功率条件不合成的金刚石膜形貌、结构和质量进行了表征，并采用压痕试验法评定了金刚石膜与基体的结合性能。     

氮化硅陶瓷表面DLC膜的制备及摩擦性能研究

利用等离子体基离子注入与沉积技术,在氮化硅陶瓷片表面制备200～400nm的类金刚石碳膜。测试薄膜的厚度、表面形貌、结构、膜基结合力,利用球盘试验机考察DLC膜的摩擦性能。结果表明:沉积薄膜均匀光滑;薄膜的硬度和弹性模量与基体差异较小,膜基结合力强;DLC膜具有较低的摩擦因数,抗磨性能优异。     

软硬交替多层膜应力应变响应的分析

为了对软硬交替多层表面膜在磨粒作用下的应力应变响应、膜层界面剥离和裂纹的产生及扩展的影响等有一个定量和全面的了解，从而为多层表面膜的结构设计提供理论基础，采用大变形弹塑性有限元法对高速钢基体上的ＴｉＮ／Ｔｉ／ＴｉＮ／Ｔｉ…多层膜在法向压痕作用下的力学行为进行了模拟和分析。为了研究膜层数和膜厚的影响，对从单层到１６层的不同膜层体系进行了计算。通过对膜层的变形、最大应力随膜层数的变化、界面切应力分布和表面张应力分布等的分析得出了这些参数的分布及其随载荷和膜层数的变化规律。这些结果将为多层膜的结构优化设计提供定量的依据。     

离子镀TiN色泽与工艺关系的研究

在ＴＧ－４型离子镀膜机上，择ＴｉＮ装饰膜镀制工艺进行了研究。结果表明，控制偏压、真空度、温度、氮气、氩气流量，可得到由白到淡黄、金黄、暗黄乃至黑色的ＴｉＮ膜层，而膜的沉积速度要在ｎｍ／Ｓ级范围内变化。     

离子束多层膜制备技术和应用（下）

4．多层DLC膜沉积特性 由于类金刚石膜具有很高的硬度、化学惰性，特别高的热导率和电阻率，因此这种膜在工业上已经有着许多的应用，比如机械工业抗磨损，电子工业中的组装、钝化和散热等。这种膜属于脆性膜，具有很高的压缩应力，高应力膜在使用中往往引起薄膜弯曲，产生应变，薄膜与基体粘合力降低，从而导致薄膜失效。为了增加薄膜与基体的粘合力，     

金刚石薄膜与WC—Co硬质合金的随着性研究

以甲烷和氢气为气源，用热丝ＣＶＤ法，在ＷＣ－６％Ｃｏ的硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。研究了基体表面经抛光、腐蚀、脱碳及镀中间层等不同的预处理对金刚石薄膜与基体的随着性的影响。试验结果表明：基体表面经抛光、腐蚀再经脱碳或镀ＴｉＮ中间层，可改善和提高随着性，金刚石薄膜的形核率沉积速率有所降低；基体表面只经抛光、腐蚀预处理，金刚石薄膜的形核率和沉积速率较高，结晶性好，但随着性较差；采用分段沉积，可以提高     

利用MEVVA源的离子混合形成氮化钛薄膜

研究采用了ＭＥＶＶＡ源等离子体浸没离子注入的方法,利用钛的等离子体的沉积与自身离子的注入,形成ＩＢＡＤ效应。在氮气气氛环境下,在ＡＩＳＩ３０４不锈钢表面获得了氮化钛膜。ＡＥＳ结果表明,由于钛的高电荷态和重离子效应使得钛与基体获得了较厚的原子混合层。     

金刚石薄膜与 WC-Co 硬质合金的附着性研究

以甲烷和氢气为气源，用热丝ＣＶＤ法，在ＷＣ－６％Ｃｏ的硬质合金基体上沉积金刚石薄膜。研究了基体表面经抛光、腐蚀、脱碳及镀中间层等不同的预处理对金刚石薄膜与基体的附着性的影响。试验结果表明：基体表面经抛光、腐蚀再经脱碳或镀ＴｉＮ中间层，可改善和提高附着性，金刚石薄膜的形核率和沉积速率有所降低；基体表面只经抛光、腐蚀预处理，金刚石薄膜的形核率和沉积速率较高，结晶性好，但附着性较差；采用分段沉积，可以提高金刚石薄膜的附着性。     

高能离子束辅助沉积制备钛纳米膜

用离子束溅射沉积和高能离子束辅助沉积方法制备了具有择尤性的钛纳米薄膜,并采用原子力显微镜、X射线衍射仪和俄歇电子谱仪研究了试样表面预处理、离子束流和温度等离子束工艺参数对钛薄膜结构的影响。结果表明：离子束溅射沉积的钛膜在[002]和[102]晶向上呈现出明显的择尤生长现象,并分别在该两个晶向上表现出纳米晶型和非纳米晶型结构;当用高能离子束辅助沉积时,[102]晶向择尤生长现象消失,且钛膜的结构对束流变化较为敏感,束流较低时,钛膜为纳米结构且择尤生长现象减弱,而束流增加时晶粒长大,择尤生长现象叉增强。另外钛膜容易受到氧的污染,并随辅助离子强度增加而增强。     

SG涂层用于齿轮刀具上的效果

ＳＧ涂层用于齿轮刀具上的效果１．ＳＧ涂层的特点ＳＧ涂层是不二越公司独自开发的新型涂层，它由ＴＩＮ、ＴＩＣＮ、Ｔｉ系特殊膜等三层组成，其硬度为ＨＶＺ２００～２７００，耐磨性优于ＴｉＮ涂层；涂层与高速钢基体结合强度高，表层为Ｔｉ系特殊膜层，具有极好的耐热...