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发现Si源和Ge源中的深能级杂质是影响SiGe/Si量子阱带边激子发光的主要因素,研究了在低阻衬底上外延,在量子阱中重掺Sb或顶层中重掺B都将减弱甚至淬灭量子阱的带边激子发光。 相似文献
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In_xGa_(1-x)As/InP应变量子阱中激子跃迁能量随In组分的变化 总被引:1,自引:0,他引:1
本文研究了InxGa1-xAs/InP应变多量子阱中激子跃迁能量随In组分的变化.用国产GSMBE设备生长了五个样品,这五个样品的阱宽均为5nm,垒宽均为20nm,唯一的不同之处是阱层中的In组分不同,In组分从0.39变化到0.68.用X射线双晶衍射及计算机模拟确定出了各样品阱层中实际In组分.用光致发光谱(PL)、吸收谱(AS)、光伏谱(PV)确定出了样品中的激子跃迁能量.对量子阱中的激子跃迁能量随In组分的变化进行了理论计算.结果表明:对给定阱宽的量子阱,随着In组分的增大,量子阱中11H和11L激 相似文献
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用GSMBE技术在国内首次研究了应变Si1-x Gex/Si异质结材料的生长,并用X射线双晶线双晶衍射技术对样品进行了测试分析,对于Si0.91Ge0.09和Si0.86Ge0.14单层,其半宽度FWHM分别为100〃和202〃,对于Si0.89Ge0.11/Si多量子阱,其卫星峰多达15个以上,三种样品中的GeSi外延层干涉条纹清晰可见,结果表明,用GSMBE技术生长的Si-xGex/Si异质结 相似文献
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徐至中 《固体电子学研究与进展》1996,16(2):114-120
根据电子能带的畸变势常数计算了生长在GexSi-x(001)衬底上的量子阱Si/GexSi1-x的电子势垒高度随合金组分x的变化情况,并用包络函数方法计算了不用合金组分x时的量子阱的子能带结构,计算结果表明(001)及(001)导带底电子量阱处在S层,而其它四个导带底能谷的电子量子阱处在GexSi1-x合金层,两类量子阱的电子势垒高度均随着衬底合金组分x的增加而增加。 相似文献
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徐至中 《固体电子学研究与进展》1996,(2)
根据电子能带的畸变势常数计算了生长在GexSi1-x(001)衬底上的量子阱Si/GexSi1-x的电子势垒高度,讨论了电子势垒高度随合金组分x的变化情况。并用包络函数方法计算了不同合金组分x时的量子阱的子能带结构。计算结果表明[001]及[001]导带底电子量子阱处在Si层,而其它四个导带底能谷的电子量子阱处在GexSi1-x合金层。两类量子阱的电子势垒高度均随着衬底合金组分x的增加而增加。 相似文献
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Si基异质结构发光的研究现状 总被引:1,自引:0,他引:1
综述了Si 基异质结构发光研究的现状。介绍了Si 材料本身的本征发光、激子发光、杂质发光等特性,描述了掺Er- Si 的发光、Si 基量子结构( 量子阱、量子点) 的光发射,重点研究SiGe/Si 异质结构的发光性质。同时还对多孔Si 发光、Si 基发光二极管(LED) 与Si 双极晶体管(BJT) 集成、Si 基上垂直腔面发射激光器(VCSEL) 与微透镜的混合集成作了简要的介绍。 相似文献
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用深能级瞬态谱(DLTS)研究了量子阱样品价中载流子的热发射和异质界面附近的深能级缺陷,得到Si0.67Ge0.33/Si单量子样品的能带偏移为0.24eV.量子阱异质界面附近高浓度的深能级缺陷在样品的DLTS谱上形成一少于峰,该信号只有当测量的脉冲宽度足够大时才能检测到.对比不;司组分相同结构的多量子阱样品发现,组分大时异质界面的深能级缺陷浓度大,因此它可能是失配应变或位错引起的.相应的光致发光谱(PL)测试结果表明该深能级缺陷还会导致PL谱中合金层的带边激子峰的湮灭. 相似文献
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作者首次用X射线双晶衍射技术对注入As+的Si0.57Ge0.43合金的晶格损伤消除和应变弛豫进行了研究,并与未注入AS+的Si0.57Ge0.43合金的应变弛豫进行了比较.结果表明,退火后,注入AS_的Si1-xGex外延层中的应变分布不同于未注入AS+的应变分布.对于未注入As+的Si0.57Ge0.43样品,其X射线衍射峰的半宽度FWHM由于退火引起应变弛豫导致镶嵌结构的产生而展宽.对于注入As+的Si0.57Ge0.43样品,950℃的快速退火过程可以有效地消除晶格损伤,使晶格得以恢复,且其退火后的 相似文献
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作者首次用X射线双晶衍射技术对注入As^+的Si0.57Ge0.43合金的晶格损伤消除和应变驰豫进行了研究,并与未注入As^+的Si0\57Ge0\43合金的应变驰豫进行了比较。结表明,退火后,注入As^+的 Si1-xGex外延层中的应变分布不同于未注入As^+的应变分布。对于注入As^+的Si0.57Ge0.43样品,其X射线衍射峰的半宽度FWHM由于退火引起应变驰豫导致镶嵌结构的产生而展宽。 相似文献
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给出了通过测量3条X射线双晶衍射摇摆曲线计算多层外延材料各层成份、界面共格度及晶向偏角的方法,并对(CdSe/ZnSe)ZnSe/GaAs(001)多量子阱材料的结构、应变及界面进行了研究.结果表明:ZnSe缓冲层与衬底之间的界面共格度接近干零,而多量子阱部分与缓冲层之间的界面接近完全共格,表明多量子阱结构有较好的结构完整性.缓冲层与衬底之间有晶向偏角,而多量子阱结构与缓冲层之间无晶向偏角.在复杂多量子阱材料的摇摆曲线上未见内周期的卫星衍射峰.多量子阱实际的生长厚度比设计厚度小20%~30%,说明生长过程中存在表面原子的逃逸,致使样品的不同部位存在组份、厚度的不均匀和局部的应变。还讨论了X射线衍射仪与双晶衍射仪在测定多量子阱结构时的差别. 相似文献
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用GSMBE方法生长出了高质量的具有不同阱宽(l~11nm)的In0.63Ga0.37As/InP压应变量子阱结构材料.通过双晶X射线衍射测量及计算机模拟确定了阱层中的In组份.对材料进行了低温光致发光谱测试,确定了压应变量子阱中的激子跃迁能量.半高宽数值表明,量子阱界面具有原子级的平整度.与7nm和9nm阱所对应的低温光致发光谱峰的半高宽为4.5meV. 相似文献
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用深能级瞬态谱(DLTS)研究了分子束外延生长的Ge0.4Si0.6/Si多量子阱与Ge/Si为超晶格样品中深能级中心的性质,在种样品中都观测到两个多数载流子中心和一个少数载流子中心,在Ge0.4Si0.6/Si多量子阱样品深中心E2的能级位置为EC-0.30eV,E3的能级位置为Ec-0.22eV,并且在正向注入下随着E2峰的消失到一个少数载流子峰SH1,其能级位置为EV+0.68eV,在Ge/ 相似文献
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本文应用量子限制Stark效应理论计算了InP系量子阱中激子的波函数及激子的能量.在此基础上,计算了不同电场条件下激子能量的红移,以及吸收系数的变化.然后,根据K-K关系计算了折射率的变化,得到了一定强度外电场条件下,折射率变化与波长、组份及阱宽的关系.按照我们的计算,折射率变化可达2.54e-2. 相似文献
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