气体工业名词术语

高纯气体（ＨｉｇｈＰｕｒｉｔｙＧａｓｅｓ）通常指利用现代提纯技术能达到的某个等级纯度的气体。对于不同类别的气体，纯度指标不同，例如对于氮、氢、氩、氦而言，通常指纯度等于或高于９９．９９９％的为高纯气体；而对于氧气，纯度为９９．９９％即可称高纯氧；对于碳氢化合物，纯度为９９．９９％的即可认为是高纯气体。高纯气体应用领域极宽，在半导体工业，高纯氮、氢、氩、氦可作为运载气、保护气和配制混合气的底气。医用气体（ＭｅｄｉｃａｌＧａｓｅｓ）用于医学诊断和生命救助的气体称医用气体。医用气体包括２０余类，其中主…     

高纯气供气方式商榷

<正>介绍了半导体生产用高纯气体的品种、纯度以及使用特点,并介绍了高纯气的制取方法(水电解法制氢,深冷分离法制氮、氧、氩,以及吸附法制氮、氧、氩等)。高纯气的输送方式有现场设制气站管道输送、液态气体输送和气瓶输送三种。指出高纯气体的生产成本由制气和纯化费用组成,其中电费占很大比例:高纯氢约占70~80%、空分氮氧占50~70%。通     

1991年度纯气体国家优质产品评比揭晓

1991年度高纯气体国优产品评比现已揭晓。在参加评比的4家企业中,抚顺市氧气厂一举夺魁。本次评比是对高纯氢、高纯氮、高纯氧、高纯氩和高纯氦5种气体,由厂家任选4种     

从电解氧制到高纯氧的一种方法

本文介绍一种水电解氧的纯化系统，采用去除电解装置原料水溶解气体、催化反应除氧中氢、吸附脱水和低温分离除氢等分法制取高纯氧。可供读者参考。     

用合成氨原料气生产各种规格氢气产品工艺简述

本文介绍用合成氨原料气，经膜分离、变压吸附和低温吸附分离提纯技术生产工业氢、纯氢或高纯氢，并对该工艺技术进行评述。     

一种以煤为原料造气的氢气产品生产工艺概述

介绍了用煤生产的合成氨原料气，经膜分离、变压吸附和低温吸附分离提纯技术生产工业氢、纯氢或高纯氢，并对该工艺技术进行评述。     

大庆石化开发外部气体市场

正日前,大庆石化开发公司向沃尔沃汽车大庆工厂外供标准气体48瓶,这是该公司7月上旬与沃尔沃集团公司上海总部签订气体采购合同后第二次向其供气。今年上半年,大庆石化开发公司外销标准气、医用氧气、氢气均超过去年同期。大庆石化开发公司副总工程师、销售中心主任刘英杰介绍说,目前开发公司气体车间生产标准气体、高纯氮、高纯氩、纯氩、高纯氢、纯氢、医用液氧、瓶装医用氧、工业氧、二氧化碳等30多种气体,主要     

浅谈工业高质量氢供应方式的现状及设想

氢气是许多行业中不可缺少的工业原料气，使用量逐渐增加，其自身的特点导致纯氢及高纯氢在供应上带有一定特点，本文针对目前国内几种供应方式进行初步探讨。     

抚顺市氧气厂四种高纯气体产品荣获国家银质奖

<正>1991年10月,抚顺市氧气厂从国家技术监督局捧回了高纯氧、高纯氮、高纯氩、高纯氢的国家银质奖证书。     

痕量氢的气敏色谱分析

以气敏半导体元件为鉴定器的气敏色谱法，利用鉴定器对氢和氦、氖的不同选择性，解决了热导色谱法在一般条件下无法解决的灯泡用氩、高纯氮、纯氮中痕里氢的分析；也能分析高纯氩、氩气、氪气、氙气、氧气、空气等气体中的痕量氢，最低检出浓度为0.1ppm，就检出极限而言，比热导色谱法降低了一个数量级。样品气中氢含量为5ppm时，分析误差为10%，考察了载气的净化方法与结果。对方法的选择性、重复性、线性范围进行了试验，都得到了满意的结果。几年来的实践证明，该分析法具有选择性好、灵敏高度、操作方便、分析速度快和分析结果可靠等特点，特别适用于高纯气中痕量氢的分析。     

高纯氦等五种气体国家优质品技术条件

根据化学工业部化工优质产品评比计划,1991年度将对高纯氧、高纯氮、高纯氩、高纯氦及高纯氢5种产品评国优,其优质品技术条件如下。     

高纯气体的分析：高纯气体中痕量氢气的测定

１　前　言在高纯气体制备过程中，氢气以产品、副产品、原料气、还原气等角色出现在诸多工艺环节，对最终产品中残余量的控制，也成为高纯气体产品面临的普遍问题。由于Ｈ２组分仅是高纯气体众多控制杂质之一，国内外标准均采用气相色谱法对产品中痕量氢气进行测定，使用的色谱鉴定器有：热传导检测器、氦离子化鉴定器、氩离子化鉴定器、质谱鉴定器、气体密度鉴定器、氧化锆浓差电池鉴定器、氢敏元件鉴定器等。除氧化锆及氢敏鉴定器外，其它均为通用型色谱鉴定器，可以完成１０－５～１０－８数量级的痕量氢气的测定。以氢敏元件为检测器的…     

利用含氢工业尾气或过程气生产高纯氢气

利用含氢工业尾气或过程气生产高纯氢气会取得可观的经济效益和社会效益,这里介绍了作者自主设计的高纯氢生产流程。     

特气用压缩机

如图所示，日本能量系统株式会社生产的特气用压缩机压缩的气体纯度高，适用于硫化氢、二氧化碳、氧、氢、氦等腐蚀性与高纯气体，也遗用于其它任何气体，可任意给定压力，最大输出压力为300公斤／厘米^2。设压机结构紧凑，噪音小，控制部分与压机分开，因而可远距离操作。标准产品有压力为300～1000公斤／厘米^2的，以及纯水和其它液体用压机。     

气体中微量水份的测定一露点法和氧化铝电容法

在半导体材料及电子器件生产中，要用到诸如氢、氮、氧、氩和氦等高纯气体，气体纯度严重影响产品质量。如氢，氮等气体及其流经的系统中的水份和氧，对硅及Ⅲ一V族化合物是极其有害的杂质。在硅外延工艺中，氢中水份达100vpm时，硅外延层会变成多晶结构。在MOS大规模集成电路的硅栅多晶薄膜工艺中，若稀释气体中含有微量水份，使多晶硅薄膜中夹有“氧化硅集团”，从而在刻蚀多晶硅薄膜时，造成多晶硅脱落，致使电学性能变坏。由上可知，对高纯气体及其流经系统中的微量氧和水份必须进行监测和控制。     

高纯氩气的分析仪器

ＤＨＰ—０５型高纯氩气分析仪巳在本钢、鞍钢、包钢、昆钢和上钢三厂等许多厂家使用多年，性能稳定．１９９４年又开发出以计算机控制的ＤＨＰ—０５Ａ型高纯氩气在线自动分析仪，高纯氩气分析仪是双柱，双阀切换，并带有改性氩离子化检测器的色谱流程，它可用以检测高纯氩气中氢、氧、氮、甲烷、一氧化碳和二氧化碳６种杂质，最小检测浓度除一氧化碳外都小于０．５×１０－６．     

半导体工业用高纯气体标准

介绍《1987．SEMI标准》,有气氮、液氮标准;气氧、液氧标准;气氩、液氩标准;氦气标准,以及杭氧所高纯氧、氮技术规格。表5。     

高纯液氧、液氮的研制及其供应

电子工业的迅速发展是现代科学的重要标志，大规模集成电路的生产技术更体现一个国家工业发展的水平。高纯氧、氮、氢、氩等气体，是半导体电子器件、集成电路生产工艺中必不可少的原料。这些气体纯度的高低，是直接影响电子器件质量和成品率的重要因素之一。世界工业发达国家的半导体集成电路生产工艺，不仅普遍应用高纯气体，而且有90％以上是采用高纯度液态气体直接汽化的输送气体。     

深冷文献消息(国外部分)

<正>985001 提取纯氩的流程和装置美国专利 № 5592833(英)985002 在压力下生产气氧的流程和设备美国专利№ 5596885(英)985003 生产气氧和高纯氮的低温精馏系统     

纯化贮氢器的研制

纯化贮氢器是利用贮氢材料吸放氢的原理，同时纯化和贮存氢气的一个小型装置，器体采用铝合金瓶．原料气纯度≥９９％，充入压力为３．０Ｍｐａ，吸氢２ｈ，可连续释放高纯氢１８００Ｌ以上，不需加热，室温下工作压力为０．５Ｍｐａ，流量＞ＩＬ／ｍｉｎ，两台交换，可连续使用．叙述了吸放氢原理、工艺流程、试验方法、技术指标．