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目前,面向网络流实时处理的正则表达式匹配技术面临两方面的挑战:一方面,复杂或大规模规则集会导致DFA存储空间爆炸的问题;另一方面,传统计算机的串行DFA匹配技术很难满足对高速主干网的线速深度包检测。本文提出了一个基于改进游程编码的DFA压缩算法,并在FPGA上高效实现了该压缩DFA的匹配引擎。测试结果表明规则集的单个DFA的吞吐率均大于800Mbps,在FPGA块内存最大利用率情况下的理论最大吞吐率达到49.5Gbps。 相似文献
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针对特定条件下含有“.*”的正则表达式规则相互作用产生的状态爆炸问题,本文提出一种基于多维立方体的确定性有限自动机(Deterministic Finite Automaton,DFA)结构,将冗余状态按维度划分并压缩,并设计相应的多维立方体确定性有限自动机(Multi-Dimension-Cube-DFA,M-D-Cube-DFA)算法,通过构造动态交点的方法实现等价的状态转移.理论分析和仿真实验表明,与DFA算法相比,在维持时间复杂度不变的基础上对状态数目和存储空间进行了对数级别压缩. 相似文献
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为解决正则表达式匹配中内存需求与检测性能的矛盾,首次提出两级存储的匹配方案。将马尔可夫链理论应用于自动机,通过求解稳态向量,得到各状态被随机访问的概率。将高概率的状态表项配置在FPGA嵌入存储器中,低概率的状态表项配置在SRAM中。使用L7-filter规则集进行实验,吞吐量达到33Gbit/s,匹配性能比将状态表完全存储在SRAM中提高了50倍。 相似文献
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多个正则表达式规则编译成一个DFA(deter minister finite automata)时,会产生状态爆炸、存储急剧增加的现象。针对最严重的状态爆炸问题,从信息论的角度给出了解释,并提出多维数学模型,将冗余状态分为0维状态和1维状态,通过前者按照维度压缩,后者动态构建的方法将空间复杂度降到理论下界,并在此基础上提出多维有限自动机(MFA, multi-dimensional finite automata)。实验表明,MFA构造时间比XFA略少,比DFA、STT冗余压缩算法和Hybrid-FA降低了2~3个数量级;存储空间比XFA略高,比DFA、STT冗余压缩算法、mDFA、Hybrid-FA降低了1~2个数量级;匹配时间比DFA、Hybrid-FA略多,但是比XFA略少,比STT冗余压缩算法和mDFA降低了1~2个数量级。 相似文献
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一种高速直接数字频率合成器及其FPGA实现 总被引:5,自引:1,他引:5
介绍了一种用于QAM调制和解调的直接数字频率合成器,该电路同时输出10位正弦和余弦两种波形,系统时钟频率为50MHz,信号的谐波小于-72dB。输出信号的范围为DC到25MHz,信号频率步长为0.0116Hz,相应的转换速度为20ns,建立时间延迟为4个时种。直接数字合成器(DDFS)采用一种有效查找表的方式生成正弦函数,为了降低ROM的大小,采用了1/8正弦波形函数压缩算法。直接数字频率合成器的数字部分由Xilinx FPGA实现,最后通过数模转换器输出。 相似文献
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图像特征匹配算法是对同一场景不同条件下所获取的两幅图像进行特征提取的过程,目前被广泛应用于多个领域.针对传统匹配算法存在的实时性差、准确度不高、环境适应能力弱等问题,本设计提出了基于FPGA开发平台实现的SIFT算法.匹配结果表明:该算法对于图像的旋转、光照、仿射、尺度等具有良好的不变性,能满足特征匹配的需求,存在一定... 相似文献
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In the sub-wavelength regime,design for manufacturability(DFM) becomes increasingly important for field programmable gate arrays(FPGAs).In this paper,an automated tile generation flow targeting micro-regular fabric is reported.Using a publicly accessible,well-documented academic FPGA as a case study,we found that compared to the tile generators previously reported,our generated micro-regular tile incurs less than 10%area overhead,which could be potentially recovered by process window optimization,thanks to its superior printability. In addition,we demonstrate that on 45 nm technology,the generated FPGA tile reduces lithography induced process variation by 33%,and reduce probability of failure by 21.2%.If a further overhead of 10%area can be recovered by enhanced resolution,we can achieve the variation reduction of 93.8%and reduce the probability of failure by 16.2%. 相似文献