电沉积梯度Ni-Co纳米合金镀层的研究

采用直流电沉积技术制备了梯度Ni-Co纳米合金厚镀层。测定了该镀层的内应力及显微硬度,采用X射线衍射仪及能谱仪分别对镀层的晶相结构与成分进行了分析,采用扫描电镜对镀层的表面形貌和磨痕进行了观察,并对其摩擦、磨损性能进行了研究。结果表明,该合金镀层具有较好的成分梯度和相应的结构梯度,具有优异的抗磨减摩性能。说明梯度化的设计可以有效降低合金镀层的内应力,提高镀层的抗磨和减摩性能。     

氨基磺酸盐体系电沉积铅镉合金的研究

研究了在氨基磺酸盐体系中铅，镉和铅－镉镀液的阴极极化曲线，结果表明，镀液中加入添加剂间苯二酚著增加阴极极化及改善镀层性能；用脉冲电沉积代替常规的直流电沉积进行铅－镉合金的电沉积，表观状态比较表明，脉冲电沉积所得镀层质量较直流法有明显改善。     

电沉积制备Ni-Co合金镀层及耐蚀性能研究

为了减弱腐蚀,增强基体的使用寿命,以316L不锈钢片为基体,采用电沉积法制备了Ni-Co合金镀层。使用扫描电镜对镀层的微观形貌进行表征,利用VersaSTAT3电化学工作站测试镀层在3.5%的NaCl溶液中的腐蚀电流密度。研究了不同主盐浓度、镀液温度及电流密度对合金镀层性能的影响规律。结果表明,电镀液中镍盐质量浓度为128 g/L时,钴盐质量浓度为115 g/L,镀液温度为55℃,p H值为4.5,电流密度为1.0 A/dm~2,腐蚀电流密度为6.13×10~(-12)A/cm~2时,所得Ni-Co合金镀层的耐腐蚀效果最佳。     

电沉积Ni-Co合金的研究

研究了氨基磷酸盐电沉积Ni-Co合金电解液组成及工艺条件对沉积层中Co含量的影响.并测定了Ni-Co合金沉积层中Co含量与Ni-Co与硬度的关系,以及影响Ni-Co合金沉积层内应力的因素.实验结果表明,将一定量的Co引入Ni沉积层,可以显著地提高其硬度;当在电解液中添加一定量的Ni-1添加剂后,能使Ni-Co合金沉积层的内应力为零.这些有益的实验结果为电铸加工使用寿命长、机械性能好的模具提供了一定的依据.     

磁场下电沉积制备Co-W合金镀层

在磁场下电沉积制备Co-W合金镀层,研究了磁场强度对镀层沉积速率、微观形貌、成分以及磁性能等的影响.结果表明:沉积速率随着磁场强度的增大而显著提高;洛伦兹力可以降低电极表面的浓差极化,避免氢气的析出,使镀层均匀、致密;随着磁场强度的增大,镀层的比饱和磁化强度逐渐增大,而矫顽力呈先增大后减小的趋势,当磁场强度为0.5T时,矫顽力最大.     

电沉积Ni-P合金镀层耐蚀性的研究

研究了不同磷含量的Ni-P合金镀层在NaCl介质中的耐腐蚀性能。通过浸泡实验,得出不同磷含量的Ni-P合金镀层在w（NaCl）=5%和饱和NaCl溶液中的腐蚀数据,同时还与纯镍镀层、化学镀Ni-P合金镀层、1Cr18Ni9Ti不锈钢以及A3钢进行了比较。     

电沉积镍—钴—磷合金析氢反应电催化行为的研究

采用电沉积法制得镍钴和镍－钴－磷合金,测量了其作为阴极在１Ｍ氢氧化钾溶液中的极化曲线以研究其催化化活性。实验发现,与镍电极相比,镍钴合金镍－钴－磷合金的析氢电位正移,其中,镍－钴－磷保金析氢电位正移２００多毫伏。此外,还通过扫描电镜试验和镀层成分分析从理论上探讨了磷元素对其析氢催化活性的影响。结果表明,镍－钴－磷合金具有较高的析氢催化活性,有利于降低槽压,减少能耗。     

喷射电沉积块体纳米晶Co-Ni合金工艺的研究

利用扫描电子显微镜（SEM），能谱仪（EDS）及X射线衍射（XRD）等分析方法研究了工艺参数对电解液喷射电沉积法制备块体纳米晶Co-Ni合金沉积层成分及结构的影响。结果表明；在本实验条件下，随电解液喷射速度的增加，沉积层中钴含量增加，而晶粒尺寸减小；随电解液温度的升高，沉积层中钴含量减小到一定值后增大，晶粒尺寸呈相反的趋势。沉积层的表面形貌为胞状结构。     

电沉积法制备纳米SnO_2薄膜

采用一种电沉积法室温下制备纳米SnO2薄膜。经研究得到了电沉积SnO2薄膜的最佳工艺条件:电流密度、电沉积时间、主盐浓度、游离酸浓度分别为i=8 mA.cm-2,t=120 m in,c(SnC l2)=0.02 mol/L,c(HNO3)=0.03 mol/L。用X射线衍射、红外光谱和扫描电镜、透射电镜等对薄膜的物相和微观结构、表面形貌等进行了研究。结果表明,室温下干燥得到的薄膜由SnO2.xH2O组成,但经过400℃热处理后,逐渐转变成结晶较为完整的四方结构SnO2薄膜,薄膜的表面较为平整、呈多孔状,薄膜粒径大小为8~20 nm。     

电沉积Ni-Co合金工艺条件的研究

研究了硫酸镍 -硫酸钴 -氯化钠体系中钴含量在 4 0 %以下的 Ni- Co合金镀层的影响因素。讨论了温度、p H、电流密度、Ni/ Co质量比、时间等因素对镀层沉积速度和腐蚀速度的影响。通过试验得出了电沉积过程的最佳工艺条件。     

锌锰合金电沉积研究现状

介绍了锌锰合金电镀工艺的概况及研究方向。     

电沉积镍铬合金的研究

本文研究了在含三价铬离子的水溶液中电沉积镍铬合金的工艺条件对镀层镍含量的影响。还研究了醋酸盐对电沉积的催化作用。结果表明,在一定范围内提高电流密度和镀液的ＰＨ值增加镀层中的含铬量;当电流密度为２５Ａ／ｄｍ＾２,ｐＨ值为２．５时,沉积出的镍合金含铬量为１１．１％。０．０３７－０．０７３ｍｏｌ／Ｌ醋酸根离子的加入可以提高镀层中铬含量（２－３）ｗｔ％。     

Ni-W纳米晶合金电沉积工艺条件的研究

纳米晶材料与常规晶体材料相比有许多优良的性能 ,已受到广泛关注。本文采用电沉积方法获得了Ni W纳米晶合金镀层。研究了镀液中钨酸钠含量、温度、pH值及电流密度对沉积速度的影响。测定了镀层的显微硬度 ,并用X -射线衍射仪对其微观结构进行了观察。结果表明 ,影响沉积速度最大的因素为pH值 ,其次是电流密度 ;镀层显微硬度最高可达 6 70 .3HV。通过正交试验得出适宜工艺条件范围为 :Na2 WO4·2H2 O 1 0～ 30g/L ,电流密度 1 0～1 5A/dm2 ,温度 6 0～ 70℃ ,pH值 6～ 7。     

电氨基磺酸盐和硫酸盐电解液电沉积Ni—Co合金的对比研究

通过大量实验对比了氨基磺酸盐和硫酸盐两种电解液电沉积Ｎｉ－Ｃｏ合金Ｃｏ含量的影响因素，以及Ｎｉ－Ｃｏ合金沉积层的硬度、内应力与Ｃｏ含量的关系，结果表明，与硫酸盐民解液相比，从氨基磺酸盐电解液中沉积的Ｎｉ－Ｃｏ合金硬度高，内应力低。     

电沉积光亮Ni-Co合金工艺的研究

通过大量实验 ,研究硫酸镍 硫酸钴 氯化钠体系中得到钴含量 40 %以下的光亮Ni Co合金镀层的最佳添加剂 ;并研究了影响镀层中钴含量的各因素 ,从而得出了光亮镀层中钴含量 2 5 %左右的工艺。     

镀液流量对喷射电沉积Co-Ni合金镀层性能的影响

采用喷射电沉积方法制备了Co-Ni合金镀层,并研究了镀液流量对镀层性能的影响。结果表明:随着镀液流量的增大,Co-Ni合金镀层的晶粒细化,镀层中Co的质量分数增大。当镀层中Co的质量分数在80%以下时,镀层中密排六方hcp和面心立方fcc两相共存。随着镀层中Co的质量分数继续增大,fcc相消失,镀层中只存在hcp相。晶粒的细化使镀层的显微硬度和耐磨性均有不同程度的提高。当镀液流量为4.5 L/min时,可以获得最高的显微硬度和最好的耐磨性。     

电沉积纳米晶Co-B合金膜的影响因素

通过正交试验和单因素试验,发现电沉积纳米晶Co-B合金的镀速随镀液温度的升高、电流密度的增大、pH的增加而增大。在镀液稳定范围内,随硫酸钴、硼氢化钠质量浓度的增加而增大,随酒石酸钠质量浓度的增加而减小,当四硼酸钠达到一定质量浓度时,对镀速影响较小。在研究范围内所得合金膜全部为非晶态,扫描电子显微镜和扫描隧道电子显微镜观察发现,非晶镀层是由纳米相微粒构成微米级的二次颗粒,二次颗粒堆砌形成薄膜。     

电沉积非晶态合金镀层磁性的控制

磁性元件薄膜化促进了磁性镀层的开发与应用。综述了镀液及镀层成分、电沉积工艺、镀层厚度及热处理对电沉积非晶态镀层性能的影响，以便在实际应用中控制非晶态合金镀层的磁性。     

电沉积镍铁钨纳米晶合金及其表征

在含有FeSO4·7H20、NiSO4·6H2O、Na2WO4·2H2O、Na3C6H5O7·2H2O和YC-4添加剂的溶液中,电沉积制备了不同钨含量的镍铁钨合金,对所得镀层的化学组成、表面形貌、微观结构,显微硬度及耐蚀性进行了表征.随着镍铁钨合金镀层中钨含量的增加,其微观结构由晶态转变为非晶态.钨质量分数为21%的镍铁钨合金镀层表观光亮光滑,具有致密的纳米晶结构,其晶粒尺寸为30～40 nm,即使不通过热处理,也具有很好的显微硬度和耐蚀性.该工艺可望取代传统镀铬工艺.