太原地区召开电子工业振兴座谈会

为了迎接新技术革命的挑战,加速发展太原地区电子工业,进一步推进企业经济体制改革,太原地区电子工业振兴座谈会于元月22日——26日在太原召开。参加会议除省市各有关部门负责人之外,太原地区与晋东南地区的电子企业单位全是负责同志亲自参加会议,连同太原地区的大专院校和科研单     

第十一届全国分子束外延学术会议征文通知(第二轮)

·会议时间:2015年8月25~28日·会议地点:四川省成都市(银河王朝大酒店,中国四川省成都市顺城大街88号)·会议网址:http://mbe2015.csp.escience.cn·主办单位:中国有色金属学会半导体材料学术委员会、中国电子学会电子材料分会·承办单位:中国科学院红外成像材料与器件重点实验室、中国科学院上海技术物理研究所·会议宗旨,全国分子束外延学术会议是每两年举办一次的全国性学术会议。会议的宗旨是展示我国在分子束外延(MBE)及其相关领域的新进展、新动态、新成果,交流和探讨我国分子束外延发展中存在的问题和未来的发展方向,拓宽分子束外延的应用领域,为我国从事分子束外延技术以及相关材料和器件研究的科研人员提供相互了解和交流的机会,同时也为分子束外延相关的上下游产业提供信息沟通和宣传的渠道,从而促进我国分子束外延技术及其相关领域科学技术的发展。     

全国电子能源材料、信息材料学术讨论会在天津召开

<正>全国电子能源材料、信息材料学术讨论会于1986年6月3日至5日在天津召开.来自全国各高等院校、研究所和工厂的代表共103人,交流论文70篇.国内一些知名的材料专家参加了会议并作了学术报告.电子部及元器件局的有关领导陈兴信、吴康生等出席了会议.中国电子学会理事、电子材料学会主任委员宋秉治主持了会议.在全体会议上,浙江大学教授阙端麟作了题为“硅中非金属杂质”的报告,中国科学院半导体研究所梁骏吾和有色金属研究院副院长万群分别作了“硅单晶中杂质与缺陷和生长工艺的关系”和“信息材料及其发展”的报告.在大会上报告的还有“化学试剂与微电子化工材料”、“硅太阳能电池材料”、“电子功能陶瓷材料的现状及展望”和“电子材料标准化概况问题与建议”等.这些特邀报告详细评述了国际、国内电子材料近年来取得的最新进展和电子材料今后的发展趋势;强调了材料科学与工艺的发展对整个电子工业进步的重要作用.     

第六届全国分子束外延学术会议通知

受中国有色金属学会半导体材料学术委员会和中国电子学会电子材料学分会委托 ,由信息产业部电子第五十五研究所承办的“第六届全国分子束外延学术会议”定于 2 0 0 1年 8月初在贵州省贵阳市召开 ,会议将邀请国内外 MBE领域的专家、学者作专题学术报告 ,组织国内同行间的大会或分组报告 ,现将会议征文通知如下 :一、会议内容会议将集中交流有关分子束外延生长的理论、技术、设备和应用等方面的最新研究成果 ,达到增进交流、相互促进的目的。二、征文要求1.来稿应是未在国内外刊物和会议上发表过的。2 .论文要求应有所创新、重点突出、内容…     

第十一届全国分子束外延学术会议征文通知(第一轮)

正会议时间:2015年8月会议地点:成都(初定)主办单位:中国有色金属学会半导体材料学术委员会、中国电子学会电子材料分会承办单位:中国科学院红外成像材料与器件重点实验室、中国科学院上海技术物理研究所会议主席:何力,会议副主席:齐鸣、曾一平、陈弘、蒋最敏顾问委员会(以姓氏笔划为序):孔梅影、王迅、王曦、王占国、王启明、王康隆、任迪远、孙祥祯、李树深、李爱珍、何杰、杜武青、张翔九、陆卫、陈良惠、杨辉、杨克武、杨国祯、卓以和、郑厚植、周均铭、赵连城、封松林、高涛、谢琪、薛其坤     

2010年2月—3月展会

2010年2月展会一览2月20日-2月22日会议名称:2010年印度国际电子元器件及生产设备展览会会议地址:印度新德里Pragati Maidan Exhibition Center印度国际电子元器件、材料及生产设备展览会由世界最大的展览公司,     

“电子工业生产技术手册”通用工艺卷编委会第二次(扩大)会议在太原召开

为贯彻“电子工业生产技术手册”(以下简称“手册”)总编委会第二次(扩大)会议精神,检查八四年五月昆山会议以来我卷编审工作进展情况,讨论并协调解决编审工作中存在的主要问题,“手册”通用工艺卷(以下简称“四卷”)编委会于八五年三月二十六日至三十一日在太原电子技工学校     

山西省电子学会生产技术委员会工装及塑性加工学组召开第一届年会

山西省电子学会生产技术委员会工装及塑性加工学组第一届年会于八三年四月二十四日至二十八日在太原召开。来自全省各地区、高等院校、科研部门及厂矿企业24个单位,35名代表参加了会议。中国电子学会生产技术学会付主任兼秘     

太原风华荣膺首批国家创新型企业

太原风华信息装备股份有限公司是一家专业从事电子工艺信息装备研发、制造,并向用户全面提供生产线设备与生产工艺一体化集成解决方案服务的高新技术企业.目前主要从业于LCD/LCM专用生产设备、新型片式电子元器件专用生产设备等重点发展领域,在行业内具有一定影响力.自2000年开始,太原风华连续8年获得太原国家高新技术产业开发区"突出贡献企业"、"快速成长科技企业"等称号.2008年7月,太原风华荣膺首批国家级"创新型企业".     

中电材协组建全行业共享的理化分析联合实验室

正2014年4月29日,"中国电子材料行业协会理化分析联合实验室成立暨第一次工作会议"在天津市46所召开。会议由行业协会技术经济部主任鲁瑾主持,参加会议的有工信部原材料司高云虎副司长及蔚力兵、科技司质量处冯冠霖博士,电子材料行业协会秘书长何耀洪,副秘书长朱黎辉,四十六所所长潘林及第一批联合实验室成员代表参加了会议。中国电子材料行业协会理化分析联合实     

2017全国复杂环境下雷达设计、干扰及防护学术交流大会征文通知

<正>随着雷达新体制、新技术的不断出现,干扰手段也得到了促进和提升,新的干扰技术和干扰战术也已成为当前装备技术中最活跃的领域之一。随着雷达干扰和防护技术的相互交融,专业研发人员对干扰、防护相互了解和新技术的需求越来越迫切。基于这种形势,中国电子学会拟于2017年6月24~25日在北京举办"2017全国复杂环境下雷达设计、干扰及防护学术交流大会"。有关会议事宜及征文内容如下:一、主办单位:中国电子学会承办单位:中国电子学会学术交流中心协办单位:中国电子学会无线电定位技术分会     

1979年全国微波、光电器件及化合物材料学术讨论会

<正> 由中国电子学会半导体集成技术专业学会和电子材料专业学会主办的《全国微波、光电器件及化合物材料学术讨论会》于1979年12月15日至21日在南京召开. 中国电子学会半导体集成技术专业学会副主任武尔贞主持了这次会议.江苏省革委会副主任汪冰     

新型显示器件发展近况

(一)引言七十年代以来,显示器件的研究非常活跃,学术交流会议频繁,信息显示学会(SID)每年召开国际会议,出版一份会议报告摘要,IEEE与SID两年合办一次显示会议,IEEE Trans,的电子器件分组每2年出一次显示器件专刊,日本《电子材料》等杂志也是2年出一次显示器件专刊,其他如国际电子器件会议、电子材料会议和各种期刊也发表许多显示器件的文献,可以说显示器件是七十年代文献最多的电子器件类别之一.     

信息窗

第十四届全国半导体集成电路、硅材料学术会议征文通知主办单位:中国电子学会半导体与集成技术专业分会和电子材料专业学会承办单位:中国科学院微电子研究所、中山大学为发展我国半导体集成电路、硅和硅基材料技术,由中国电子学会半导体与集成技术专业学会和中国电子学会电子材料专业学会联合主办的“第十四届全国半导体集成电路与硅材料学术会议”将于 2005年的金秋在广东省珠海市召开,同时将邀请中国台湾、中国香港著名学者进行“两岸三地”学术交流。会议由中国科学院微电子研究所和中山大学共同承办。征文范围(1)硅和硅基材料的制备工艺…     

第五届中国电子铜箔技术·市场研讨会将在苏州召开

正由中国电子材料行业协会电子铜箔材料分会(CCFA)主办的《第五届中国电子铜箔技术·市场研讨会》,将于2014年11月13日~11月15日在苏州华侨饭店召开。本次会议邀请了本行业及上下游多位行业资深专家和领导到会作精彩报告,日本、韩国、台湾同行业厂家代表应邀参加会议。望各会员单位及有意参加本次会议的非会员单位代表踊跃报名参加会议并就行业     

国际学术会议预告

1992年将在中国举办国际材料会议 由中国金属协会、美国矿产金属和材料联合会、日本金属协会以及南朝鲜金属协会联合举办的先进材料和工艺环太平洋国际会议,将于1992年6月23—27日在中国杭州召开。会议内容包括;先进工艺、先进研究技术、电子材料、复合材料、特种材料以及高技术和材料。 欲知详性,请与会议秘书处联系。地址为中国北京(100711)东市西大街46号中国金属协会。电话:(01)5135522转1390;电传:86—01—5124122。     

简讯

★中电材协举行2005年度常务理事扩大会2005年12月16～18日,中国电子材料行业协会在南京市召开2005年度常务理事扩大会。会议决定:第4届会员代表大会将于2006年3～4月召开;会议通过了向四届会员代表大会提交的第四届理事会侯选理事及常务理事名单;会议同意对覆铜板材料分会(CCLA)在四届会员代表大会上以优秀分会进行表彰。会议审查通过了将“高温高频聚酰亚胺玻璃布覆铜板”、“电子玻璃布开纤技术”等7个项目作为“电子信息产业发展基金项目”向信息产业部推荐。★部分海关要求企业改变进口电子玻纤布的商品编码据CCLA部分会员报告,当…     

一般性问题

TN一0 94030(X)193年国际磁学会议磁记录的有关情况简介/罗河烈(中国科学院物理所)/I磁记录材料,一1993,(s).一61~63 1993年4月在瑞典举行了93年国际应用磁学会议.会议分70个小组.与磁记录直接有关的专题小组有16个,文章约190篇,约占总数的25%.有关磁记录的文章共分五大类:(1)21世纪的信息技术;(2)磁记录系统;(3)颗粒磁记录介质;(4)薄膜记录介质;(5)磁头及其材料等.文章介绍了各大类的主要研究情况.参1喃)英(电子部基础产品发展研究中心)刀电子软科学一1993,(5,6)一11~18 文章采用多个指标的综合评价模型论证电子工业作为国民经济支柱产业…     

金融危机中的中国覆铜板工业——CCLA高层论坛及CCFA年会综述

2009年4月25日和4月28、29日,中国电子材料行业协会电子铜箔材料分会(CCFA)和覆铜板材料分会(CCLA),分别在苏州和南京召开会议,研讨行业发展形势。两个上、下     

抓住机遇,努力开创材料加工设备新局面“半导体材料生长、加工设备新产品技术交流会”纪要

[本刊讯]由中国电子专用设备协会组织,信息产业部电子第四十五研究所承办的"半导体材料生长、加工设备新产品技术交流会"于5月26日在北京东燕郊经济技术开发区召开.我国半导体材料生长、加工企业和材料生长、加工设备生产厂共27家单位45名代表参加了会议.信息产业部基础产品司王勃华处长到会并就半导体产业的发展及现状作了发言.信息产业部电子第四十五研究所郭永兴副所长代表该所热烈欢迎与会代表并祝贺大会在其分所所在地召开,郭永兴副所长还对该所的近况及分所的发展情况向各位代表进行了介绍.