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相似文献
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1.
描述了真空微电子荧光平板显示器件的工作原理,提出了采用反应离子刻蚀法制作大规模场致发射阵列的工艺,在动态真空系统中测定了荧光平板显示器件的场发射特性,并获得了结果。  相似文献   

2.
场发射平板显示器件的进展   总被引:3,自引:0,他引:3  
概述场致发射平板显示吕件的理论基础、结构和工作原理、种类和制作工艺。对FED作出评价,介绍国际上在FED方面的竞争,展望了FED的前景。  相似文献   

3.
场发射平板显示器件的进展   总被引:1,自引:0,他引:1  
概述场致发射平板显示器件(FED)的理论基础、结构和工作原理、种类和制作工艺。对FED作出评价。介绍国际上在FED方面的竞争。展望了FED的前景。  相似文献   

4.
回顾了真空电子器件二十年来的发展,并对今后七年薄膜与真空器件研究和生产的若干趋势作了扼要的叙述。在电子束管方面,高清晰度显象管、扁平显示管、飞点管、高分辨率、等离子体监视屏等仍将继续发展并占有重要的地位。在薄膜方面,硬膜、超导膜和亚稳态薄膜的研究将仍然是真空科学方面的热点。真空微电子器件面临的抉择则在于能否得到新构思的支撑。最后对本学科总体的一些问题提出了看法。  相似文献   

5.
直流驱动真空荧光显示器的阴极设计   总被引:1,自引:0,他引:1  
当真空荧光显示器的阴极直流驱动时,其电位随位置的不同而变化,结果导致发光亮度的不均匀;阳极电压比较低时,显示屏二端的发光亮度相差近42%。本文通过改变栅极到阴极距离对发光亮度变化的分析;指出在阴极和栅极之间距离随位置作线性变化时发光亮度的均匀性可以很好地得到改善;并给出了极间距离的修正关系;修正后显示屏二端的发光亮度基本一致,全屏的发光亮度不均匀度小于±7%。本文讨论的结果可为设计低压直流驱动的真空荧光显示屏提供理论依据。  相似文献   

6.
设计等离子体显示板(PDP)真空紫外荧光测试系统来测评PDP荧光粉的特性。系统通过巧妙设计测试腔,模拟PDP放电单元,为激发PDP荧光粉发光提供所需要的较强真空紫外线,使系统能够分析出荧光粉的光谱功率分布、发光亮度、带宽、发射谱线主峰波长、色品坐标、颜色纯度和主波长等各种光学特性。实验结果数据表明,该系统的可重复性好、精度高,为研制高质量的等离子体显示板提供了依据。  相似文献   

7.
对真空微电子二极管阵列的结构及其制造工艺技术进行了研究,重点集中在该类器件的核心,即场致发射尖锥阵列的制造及自封闭真空空腔形成技术的研究。采用不同的阴极发射尖锥材料,在优化的几何结构和工艺条件下研制成功了性能良好的自封闭低电压真空微电子二极管阵列,在U≤5V条件下,对Mo锥和Ti锥分别获得3.7μA每尖锥和9.5μA每尖锥的发射电流。同时对真空微电子二极管阵列的结构参数与电流-电压特性间的关系,影  相似文献   

8.
本文概述了真空微电子学的研究领域、基本特点、冷阴极发射源、真空微电子器件与电路、真空微电子学的应用前景及发展趋势。  相似文献   

9.
电真空器件程控排气的研究   总被引:1,自引:1,他引:1  
米伦  史愚砾  石磊 《真空》2003,(2):54-56
简要介绍了应用单片机实现电真空器件的程控真空排气,优化了工艺,保证了真空排气工艺的一致性和稳定性,提高了产品的质量,其程控系统设计合理,抗干扰能力强,操作简便。  相似文献   

10.
根据新型等离子体平板显示器结构的对称性,利用二维数值模拟方法计算了该结构的放电过程。介绍了计算过程及某些参数的确定。给出了电场随时间的变化情况以及各种粒子浓度分布随时间的变化情况。由此可清楚地看到整个放电过程。  相似文献   

11.
新型等离子体平板显示器件放电过程的二维数值模拟   总被引:5,自引:2,他引:3  
根据新型等离子体板显示器结构的对称性,利用二维数值模拟方法计算了该结构的放电过程,介绍了计算过程及某些参数的确定,给出了电场随时间的变化情况以及各种粒子浓度分布随时间的变化情况,由此可清楚地看到整个放电过程。  相似文献   

12.
13.
零件存储是真空微波器件制造的基础条件,慢波组件一般存放于真空柜中,存放一段时间后,慢波组件中的螺旋线镀铜表面出现了发黑现象,分析表明螺旋线表面镀铜部位发生了硫化。结合进一步的实验研究和理论分析,真空柜中放置的橡胶制品导致了无氧铜材料表面发黑。在真空状态下,硫是比较容易从橡胶套中升华进入真空柜中的,从而会在真空柜中弥漫大量硫蒸气,这些硫蒸气极易与铜发生化学反应形成Cu2S,因此含硫的橡胶套不宜放入真空柜,并且在真空电子器件中也要防止使用含硫的橡胶制品接触无氧铜零件。  相似文献   

14.
概述了电真空器件在各个领域里的应用及有待深入研究的课题。给出了扩展视觉的新型器件与改进工艺的方法。  相似文献   

15.
16.
平板显示技术与产业调查   总被引:2,自引:0,他引:2  
世界平板显示技术的发展1世界显示技术的发展趋势在以技术进步为主要拉动力量,以满足消费者使用需求为主要目标的情况下,世界显示技术发展趋势是:(1)高画面质量:全色彩、高亮度、高分辨率、广视角;(2)轻便化:平板化、重量轻、便于携带、占用较少空间;(3)低价格:一般收入的消费者都可以承受;(4)大画面:满足视觉需求和特定的应用要求;(5)高临场感:达到身临其境的显示效果;(6)低能耗:节约能源;(7)健康环保:低辐射、对人体损害较小、低环境污染。2世界平板显示技术的发展现状对于平板显示技术的发展现状,总体情况是:VFD技术基本成熟,技术含量…  相似文献   

17.
声光器件的关键技术—高真空铟压焊   总被引:1,自引:0,他引:1  
本文主要介绍声光器件的关键技术-高真空高纯铟压焊技术。文中分析了环氧树脂粘接、超声焊、铟热压焊、铟冷压焊等技术的特点,并给出铟热压焊与冷压焊的主要工艺参数和注意事项及其对声光器件性能的影响。声光器件一般都采用铟冷压焊,而大器件与长换能片或多片焊接则采用铟热压焊。  相似文献   

18.
李书宝  周淑荣 《真空》1990,(5):61-63,60
清洁处理与安全防护问题是电真空器件工艺中不可忽视的问题。文中论述了器件材 料和零件污染物的来源以及用物理化学进行清洁处理的方法,清洁处理时的注意事项, 特别是对化学药品的易爆、中毒、伤肤等问题作了较详细的说明。  相似文献   

19.
光电平板显示屏的实验研究   总被引:7,自引:0,他引:7  
为克服场发射电子源在平板显示屏中存在的不稳定性和不均匀性问题,研制了以光电发射替代场致发射源的光电平板显示屏,本介绍了光电平板显示屏的结构,并对显示屏的组成部分进行了分析讨论。  相似文献   

20.
微型真空管     
微型真空管的研制属于真空微电子学的研究范畴之一。从1988年开始,每年召开国际真空微电子学会议一次。在微细加工技术的发展和推动下,微型真空管的研制取得了很大的进展,并在航天、军事工业中获得了重要的应用。介绍了真空管微型化的效果、工作原理、结构、以及微型电子源在显示器件中的应用。  相似文献   

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