金属夹层对Ge/GaAs(100)能带偏离影响的研究

用光电发射的方法研究了碱金属Na和碱土金属Mg对Ge／GaAs（100）异质结形成及能带偏离的影响。实验结果表明，Na和Mg的薄夹层可使Ge／GaAs（100）的价带偏离分别增加0．19和0．18eV。通过Na，Mg和Al夹层的对比研究，可认为金属夹层对异质结能带偏离的影响与金属的电负性及其与衬底的相互作用有关。     

GaAs－InP复合材料的外延生长方法及金属半导体场效应晶体管器件制备

提出了一种新的生长过渡层的方法，并利用低压金属有机气相外延技术在ＩｎＰ衬底上生长出高质量ＧａＡｓ外延材料，用Ｘ射线双晶衍射测得５μｍ厚ＧａＡｓ外延层的（００４）晶面衍射半峰高宽（ＦＷＨＭ）低至１４０ａｒｃｓｅｃ。并制出ＧａＡｓ金属半导体场效应晶体管（ＭＥＳＦＥＴ），其单位跨导为１００ｍｓ／ｍｍ，可满足与长波长光学器件进行单片集成的需要。     

共聚物电解质MA—Na2／AA—Na水溶液的粘度特性

对共聚物电解质ＭＡ－Ｎａ２（顺丁烯二酸钠）／ＡＡ－Ｎａ（丙烯酸钠）水溶液ηｓｐ／Ｃ（比浓粘度）与浓度的关系、中性盐及溶液ｐＨ对ηｓｐ／Ｃ的影响进行了研究。结果表明，稀释ＭＡ－Ｎａ２／ＡＡ－Ｎａ溶液时，ηｓｐ／Ｃ急剧上升，而稀释含中性盐（ＫＣｌ或ＣａＣｌ２）的ＭＡ－Ｎａ２／ＡＡ－Ｎａ溶液体系时（中性盐含量保持０．０１ｍｏｌ／Ｌ），ηｓｐ／Ｃ的变化却不大。添加极少量（〈０．０５％）中性盐，可使ＭＡ－Ｎ     

GaAs—InP复合材料的外延生长方法及金属半导体场效应晶体管器件制备

提出了一种新的生长过渡层的方法，并利用低压金属有机气相外延技术在ＩｎＰ初底上生长出高质量ＧａＡｓ外延材料，用Ｘ射线双晶衍射测得５μｍ厚ＧａＡｓ外延层的晶面衍射半峰高宽（ＦＷＨＭ）低至１４０ａｒｃ ｓｅｃ。并制出ＧａＡｓ金属半导体场效应晶体管（ＭＥＳＦＥＴ），其单位跨导为１００ｍｇ／ｍｍ，可满足与长波长光这器件进行单片集成的需要。     

国产金属有机化合物TMGa,TMAl,TMIn和TMSb的MOVPE鉴定

利用我们研制的常压ＭＯＶＰＥ设备对国产ＴＭＧａ、ＴＭＡｌ、ＴＭＩｎ和ＴＭＳｂ进行了鉴定，为此分别生长了ＧａＡｓ、ＡｌＧａＡｓ、ＩｎＰ、ＧａＳｂ外延层和ＧａＡｓ／ＡｌＡｓ、ＧａＳｂ／ＩｎＧａＳｂ超晶格和ＧａＡｓ／ＡｌＧａＡｓ量子阱结构。表征材料纯度的７７Ｋ载流予迁移率分别达到ＧａＡｓ：μ＿ｎ＝５６６００ｃｍ￣２／Ｖ·ｓ，Ａｌ＿（０．２５）Ｇａ＿（０．７５）Ａｓ：μ＿ｎ＝５１６０ｃｍ￣２／Ｖ·ｓ，ＩｎＰ：μ＿ｎ＝６５３００ｃｍ￣２／Ｖ·ｓ，ＧａＳｂ：μ＿ｐ＝５０７６ｃｍ￣２／Ｖ·ｓ。由１０个周期的ＧａＡｓ／ＡｌＡｓ超晶格结构组成的可见光区布拉格反射器已观测到很好的反射光谱和双晶Ｘ射线回摆曲线上高达±２０级的卫星峰。ＧａＡｓ／Ａｌ＿（０．３５）Ｇａ＿（０．６５）Ａｓ量子阱最小阱宽为１０，在ｌｉＫ下由量子尺寸效应导致的光致发光峰能量移动为３９０ｍｅＶ，其线宽为１２ｍｅＶ。这些结果表明上述金属有机化合物已达到较高质量。     

Ge/GaAs中APD及薄膜性能研究

研究了一种光纤通讯用光电探测器。在ＧａＡｓ上蒸镀８００ｎｍ的Ｇｅ,并在此材料基础上提出了一种吸收倍增分离的雪崩二极管（ＳＡＭ－ＡＰＤ）的结构设计,采用ＧａＡｓ作为倍增区,Ｇｅ作为吸收区。在此结构上初步制作的二极管正向开启电压为０．２￣０．３Ｖ,反向击穿电压为２．５Ｖ,漏电不明显,ｐ－ｎ结特性良好。     

调制掺杂AlxGa1-xN/GaN异质结中二维电子气的光致发光

研究了调制掺杂ＡｌｘＧａ１－ｘＮ／ＧａＮ异质结中与二维电子气（２ＤＥＧ）有关的光致发光,发现温度４０Ｋ时Ａｌ０．２２Ｇａ０．７８Ｎ／ＧａＮ异质结中２ＤＥＧ与光激发空穴复合形成的发光峰位于３．４４８ｅＶ,低于ＧａＮ自由激子峰４５ｍｅＶ。由于ＡｌｘＧａ１－ｘＮ／ＧａＮ界面极强的压电极化场的影响,光激发空穴很快扩散进ＧａＮ平带区,导致２ＤＥＧ与光激发空穴复合几率很低,在ＧａＮ中接近Ａｌ０．２２Ｇａ０．７     

(Ce_(0.67)Tb_(0.33))MgAl_(11)O_(19)荧光粉的溶胶-凝胶法合成及发光性能

采用溶胶凝胶法合成（Ｃｅ０．６７Ｔｂ０．３３）ＭｇＡｌ１１Ｏ１９绿色荧光粉。利用ＴＧ－ＤＴＡ和ＸＲＤ等实验技术，研究了荧光粉的形成过程，找出了最佳合成条件，并对其粉体形貌和发光性能进行研究。结果表明，用溶胶凝胶法合成的（Ｃｅ０．６７Ｔｂ０．３３）ＭｇＡｌ１１Ｏ１９是一种性能优良的荧光粉。     

高迁移率AlGaN-GaN二维电子气

用金属有机物气相外延方法在（０００１）蓝宝石衬底上生长了ＡｌｘＧａ１－ｘＮ／ＧａＮ二维电子气结构。Ａｌ０．１３Ｇａ０．８７Ｎ（７００ｎｍ）／ＧａＮ（６００ｎｍ）异质结的室温电子迁移率达１０２４ｃｍ＾２／Ｖｓ,而ＧａＮ体材料的室温电子迁移率为３９０ｃｍ＾２／Ｖｓ;该异质结的７７Ｋ电子迁移率达３５００ｃｍ＾２／Ｖｓ,而ＧａＮ体材料的电子迁移率在１８５Ｋ下达到峰值,为４９０ｃｍ＾２／Ｖｓ,７７Ｋ下下降到     

n型GaSb,InGaAsSb的MBE生长和特性研究

本文报导了非故意掺杂ＩｎＧａＡｓＳｂ本底浓度的降低和掺Ｔｅｎ型ＧａＳｂ和ＩｎＧａＡｓＳｂ的ＭＢＥ生长与特性的研究结果。结果表明，通过生长工艺的优化，ＧａＳｂ和ＩｎＧａＡｓＳｂ的背景空穴浓度可分别降至１．１×１０~（１６）ｃｍ~（－３）和４×１０~（１６）ｃｍ~（－３），室温空穴迁移率分别为９４０ｃｍ２／ｖ．ｓ和２６０ｃｍ~２／ｖ．ｓ。用Ｔｅ作ｎ型掺杂剂，可获得载流子浓度在１０~（１６）～１０~（１８）ｃｍ~（－３）的优质ＧａＳｂ和ＩｎＧａＡｓＳｂ外延层，所研制的材料已成功地制备出Ｄ_λ~＊＝４×１０~（１０）ｃｍＨｚ~（１／２）／Ｗ的室温ＩｎＧａＡｓＳｂ红外探测器和室温脉冲ＡｌＧａＡｓＳｂ／ＩｎＧａＡｓＳｂ双异质结激光器。     

TiN／n—GaAs体系界面的研究

利用二次离子质谱（ＳＩＭＳ）深能级瞬态谱（ＤＬＴＳ）研究了ＴｉＮ／ｎ－ＧａＡｓ体系。ＳＩＭＳ结果表明，退火后Ｔｉ的浓度剖面向胂化镓衬底略有移动，Ｎ则基本救济为；ＤＬＴＳ观察到的Ｅｃ＝０．２１ｅＶ处的Ｔｉ＾３＋＊３ｄ）／Ｔｉ＾３＋（３ｄ＾２）单受主中心，但其浓度较ＥＬ２要小得多。根据实验结果，探讨了退火后难熔金属氮化物／ｎ－ＧｓＡｓ体系电学特性改善的原因。     

电子束蒸镀半导体发光二极管的减反射膜

用电子束蒸发设备，制备了用于光纤通信等中的ＧａＡｓ和ＩｎＰ系列双异质结红外发光二级管的减反射介质膜。测量结果表明，对发光波长为０．８５μｍ和０．９０μｍ的ＧａＡｌＡｓ／ＧａＡｓ发光二级管，蒸镀四分之一波长厚的Ａｌ２Ｏ３减反射膜，输出光功率在５０ｍＡ和１００ｍＡ电流注入下，可增加２５￣３５％，最大可增加５０％。但对于１．３μｍ波长的ＩｎＧａＡｓＰ／ＩｎＰ型红外发光二极管，用ＺｒＯ２作减反射膜，比用Ａ     

ZnSe基量子阱的低压MOCVD生长及性能表征

用低压－金属有机化学气相沉积（ＬＰＭＯＣＶＤ）方法生长了ＺｎＣｄＳｅＺｎＳｅ和ＺｎＴｅＳｅＺｎＳｅ多量子阱（ＭＱＷｓ）。在生长室压力３８ｔｏｒ（５×１０３Ｐａ），衬底面积１９×２０ｍｍ２的ＧａＡｓ衬底上，生长１００周期的ＺｎＣｄＳｅＺｎＳｅＭＱＷｓ，经扫描电镜测量，生长不均匀性仅小于１０％。随生长压强增大，生长不均匀性也增大。在相同条件下生长１０周期的ＺｎＣｄＳｅＺｎＳｅ和ＺｎＴｅＳｅＺｎＳｅＭＱＷＳ，在Ｘ射线衍射谱上分别可观测到０，１级和０，１，２级卫星峰，随生长周期增加，其特性越明显。在生长５０周期的ＺｎＴｅＳｅＺｎＳｅＭＱＷＳｓ中可观测到０，１，２，３级卫星峰。在７７Ｋ，脉冲Ｎ２激光器激发的ＺｎＴｅＳＥＺｎＳｅＭＱＷｓ中观测到了起因于激子的受激发射。     

二价离子替代的Nasicon及其应用研究

含二价阳离子的Ｎａｓｉｃｏｎ，Ｍ￣（２＋）Ｎａｓｉｃｏｎ（Ｍ＝Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ）可由母体Ｎａ＿３Ｚｒ＿２Ｓｉ＿２ＰＯ＿（１２）（Ｎａｓｉｃｏｎ）为起始原料与相应的二价离子的盐浓液或熔盐进行离子交换而制得。Ｘ射线衍射分析结果表明离子交换后的产物Ｍ￣（２＋）－Ｎａｓｉｃｏｎ大多保持原母体的Ｃ＿（２／ｃ）结构。交流阻抗技术测定的电导率数据显示含不同的二价替代离子的Ｎａｓｉｃｏｎ的电导率相差甚大。其中最好的是Ｍｇ￣（２＋）－Ｎａｓｉｃｏｎ，其电导率在４００℃时可达到１．４８×１０￣（－２）Ｓ／ｃｍ。Ｍｇ￣（２＋）－Ｎａｓｉｃｏｎ用作微功率固态电池Ｍｇ／ＣｕＣｌ的电解质，该电池的开路电压为２．０７Ｖ，短路电流为１ｍＡ。平均放电电压为１．６Ｖ，电池的放电容量是３．４ｍＡＨ。     

1.52um InGaAsP／InP分别限制量子阱激光器

报导了在６００℃生长温度下以三甲基镓（ＴＭＧａ）和三甲基铟（ＴＭＩｎ）为Ⅲ族源，用低压金属有机气相沉积（ＬＰ－ＭＯＣＶＤ）技术生长出的高质量１．６０ｕｍ和１．３ｕｍ ＩｎＧａＡｓＰ材料，以及在其分别限制量子阱结构生长的情况下，用质子轰击方法制得的条形结构量子阱激光器。该激光器在室温下直流阈值电流为１００ｍＡ。     

1．52μmInGaAsP／InP分别限制量子阱激光器

报导了在６００℃生长温度下以三甲基镓（ＴＭＧａ）和三甲基铟（ＴＭＩｎ）为Ⅲ族源，用低压金属有机气相沉积（ＬＰ－ＭＯＣＶＤ）技术生长出的高质量１．６０μｍ和１．３μｍＩｎＧａＡｓＰ材料，以及在其分别限制量子讲结构生长的情况下，用质子轰击方法制得的条形结构量子阱激光器。该激光器在室温下直流阈值电流为１００ｍＡ。     

Na对Al—Mg—Li合金焊缝金属韧性的影响

研究了ＴＩＧ焊接时微量杂质元素Ｎａ对０１４２０Ａｌ－Ｍｇ－Ｌｉ合金焊缝金属力学性能的影响．Ｎａ含量小于２０μｇ／ｇ时，焊缝金属不发生脆化，含量达到５０μｇ／ｇ时，焊缝强度稍有下降，塑性急剧降低用电子探针分析发现Ｎａ在焊缝枝晶界偏聚．     

Cs／p—GaAs（100）表面的变角XPS研究

在实验数据的基础上，采用变角ＸＰＳ分析表面层状结构的计算程序，应用了新算法，使该程序能快速可靠地计算多层多种组分的含量和层厚度。计算了Ｃｓ吸附在清洁ｐ－ＧａＡｓ（１００）表面上的Ｃｓ层覆盖率及弛豫层的厚度和组分。在Ｃｓ／ＧａＡｓ达到峰值光电发射时，Ｃｓ覆盖率为０．７１个单层，Ｇａ、Ａｓ弛豫层厚度为２．３个单层，Ｇａ相对．Ａｓ轻微富集。     

电子束和接触式曝光机的匹配和混合曝光

Ｉ－线光致抗蚀剂可以同时被电子束和光学曝光系统曝光,在５０ＫＶ加速电压下,其曝光剂量为５０－１００μＣ／ｃｍ＾２,曝光后在０．７％ＮａＯＨ溶液内显影１ｍｉｎ。其灵敏度比ＰＭＭＡ快５倍,分辨率为０．５μｍ。采用两种方法制备了ＧａＡｓＰＨＥＭＴ,首先,用Ｉ线光致抗蚀剂,源、漏及栅的全部都采用电子束曝光,制备了０．５μｍ栅长的ＧａＡｓＰＨＥＭＴ。将源、漏及栅分割成两部分,其中的精细部分由电子束曝光,其余     

常压MOCVD制备MgO薄膜的研究

本文首次报道用常压金属有机化学气相沉积（ＡＰ－ＭＯＣＶＤ）在Ｓｉ（１００），ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）和Ｐｔ／Ｓｉ（１００）衬底上外延高质量的ＭｇＯ薄膜。研究了衬底温度与薄膜的取向性关系和ＭｇＯ薄膜的潮解特性。高纯ｍａｇｎｅｓｉｕｍａｃｅｔｙｌａｃｅｔｏｎａｔｅ［ｂｉｓ（２，４－ｐｅｎｔａｎｅｔａｎｅ－ｄｉｏｎｏ）ｍａｇｎｅｓｉｕｍ］［Ｍｇ（ＣＨ２ＣＯＣＨ２ＣＯＣＨ３）２］作为金属有机源，扫描电镜（ＳＥＭ），透射电镜（ＴＥＭ）和Ｘ－ＲＡＹ衍射实验显示，在较低的衬底温度（～４８０℃）下一次淀积成单晶膜。薄膜均匀，致密，结晶性和取向性很好，衬底温度（Ｔｓ）在４００℃到６８０℃之间，在Ｓｉ（１００）衬底上生长的ＭｇＯ薄膜都具有［１００］取向，在Ｓｉ（１００）、ＳｉＯ２／Ｓｉ（１００）和Ｐｔ／Ｓｉ（１００）衬底上生长的ＭｇＯ薄膜也都具有［１００］取向。