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铜及铜合金的酸洗出光,一般采用硝酸和铬酸化学抛光液,效果较好,而且成本较低。但生产过程产生的废水、废气严重污染环境,进行治理,成本较高,且效果也不理想。从保护环境的角度,污染最好消除在工艺中。目前流行采用过氧化氢与多种无机酸、有机酸组成的溶液,用于铜和铜合金的化学抛光,并取得了良好的抛光效果。 相似文献
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铜合金的化学抛光以其操作简单、成本低而广泛应用于工艺品、家庭用品、标牌、仪器、仪表等行业。目前使用较普遍的工艺为H2 SO4 HNO3 体系、H2 SO4 H2 O2 体系 ,但这两种工艺体系都存在不同程度的缺陷 ,即溶液稳定性差 ,或产生有害的NO2 气体 ,对环境造成污染。开发一种溶液稳定、污染小、抛光性能高的无黄烟化学抛光液极为重要。作者推荐了一种铜合金的优良抛光溶液 ,它不含硝酸和双氧水 ,且在同一种溶液中采用不同的操作步骤 ,可获 1 8K和 2 4K金的光亮铜合金表面。对环境基本无污染 ,有较高的推广价值。1 1 8K金表面… 相似文献
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低碳钢在双氧水系抛光液中化学抛光时,双氧水易分解,温度不易控制,而在硝酸系抛光液中化学抛光会产生黄烟且能耗较大。为此,研制了一种新型无黄烟低碳钢中温化学抛光液对Q235钢化学抛光,考察了化学抛光液组成及温度、时间对抛光质量的影响。结果表明:使用本工艺的化学抛光试样表面平整、粗糙度低,光亮度达3~4级;获得最佳抛光质量的化学抛光工艺为120~250mL/LH3PO4,100~200mL/LH2SO4,40~80g/LNaNO3,10~40g/LNaCl,20g/L复合添加剂,55~65℃,2~5min。 相似文献
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铜及其合金化学抛光工艺研究 总被引:7,自引:0,他引:7
为了满足铜材钝化时对处理表面的要求,对化学抛光工艺及配方进行了深入研究,并分析了抛光液中各组分及工艺条件对抛光质量的影响.该工艺的最优配方及工艺条件为:50~55 mL/L磷酸,10~15 mL/L硝酸,25~30 mL/L草酸,1.0~1.5 g/L尿素,1.5~2.0 g/L香豆素,2.5 g/L磺胺,水余量,抛光温度55 ℃左右,抛光时间2~5 min.用此最优配方及工艺条件对铜及其合金进行化学抛光,可获得最佳抛光效果,且该工艺具有溶液成分简单、易于操作、抛光速度快、亮度好、污染低等优点. 相似文献
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研究了一种用于3J1弹性合金的化学抛光溶液。介绍了抛光工艺及影响抛光效果的因素。抛光的合金表面几乎可达到镜面光亮度。新溶液用于生产,效果较好。 相似文献
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铜合金光亮化学抛光新工艺 总被引:6,自引:2,他引:4
铜合金在仪器仪表、家庭用品、工艺品、标牌等方面有着广泛的应用。通过化学抛光得到的光亮表面提高了铜合金的装饰效果和表面性能。近年来,国内外学者对铜及铜合金的抛光技术进行了大量的研究。国内大多使用铬酐型和硝酸型的酸洗剂,铬酐有毒而硝酸在使用过程中产生大量... 相似文献
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采用离子溶液原位沉积法将超细碳酸钙沉积于苎麻纤维表面,探究了反应温度、离子溶液浓度、反应时间、分散剂EDTA-2Na用量对制备超细碳酸钙改性苎麻纤维的工艺影响,并对改性纤维表面结构和性质进行表征。结果表明,碱性前处理对纤维造成了损伤,提高了改性纤维表面碳酸钙的附着量,经过改性处理后的苎麻纤维表面粗糙度增加;正交试验后的优化工艺为:温度为40℃,离子溶液浓度为0.5mol/L,分散剂EDTA-2Na用量为4g/L。 相似文献
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铝制件如镶条、面板等,在表面经化学抛光氧化后,大量用于产品的装饰。它的特点是光亮,美观耐用。不足之处有以下几点:(1)铝装饰件进行化学抛光时,需将抛光溶液(硝酸、硫酸、磷酸的混合液)加热至100℃左右,排出大量的有毒气体,污染环境,危害操作工人身体健康。(2)夏天氧化 相似文献
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铝材无烟化学抛光工艺及其推广应用 总被引:1,自引:1,他引:0
铝材除机械抛光外,电化学抛光和三酸化学抛光都能达到相当满意的光亮度,但电解抛 光能耗大,六价铬废水难处理,三酸化学抛光产生的氮氧化物黄烟严重损害工人身体健康, 污染大气。长期以来,人们一直在努力寻求能够取代三酸化学抛光的无烟化学抛光工艺,然 而至今没有见到真正成熟稳定的工艺应用于工业生产,只有零星的、局部的、阶段性的应用 。显然,铝材无烟化学抛光工艺要成为一门普遍推广应用的技术,不但需要工艺本身的提高 ,还需要为人们所认识和掌握。 1 无烟化学抛光工艺鉴于铝材无烟化学抛光工艺的社会需求,我所于1997年承担… 相似文献
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不锈钢表面处理:酸洗、钝化与抛光 总被引:6,自引:0,他引:6
介绍了近年来开发的部分不锈钢产品的酸洗、钝化及机械抛光、化学抛光、电化学抛光工艺,针对不同的不锈钢牌号及零件规格,给出了相应的表面处理配方及工艺方案。 相似文献
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袁志强 《理化检验(物理分册)》1998,(1)
通常情况下,对于铜及铜合金均选用电解抛光或化学抛光后再用氯化铁盐酸水溶液擦拭的方法显示晶粒度,这种侵蚀剂主要是通过侵蚀位向不同的晶面来达到显示晶粒的目的.因反差强,对于晶粒较大的铜及铜合金效果较好,但对于厚度仅为0.08mm左右、强度≥400N的锡青铜带,用上述方法显示其晶粒存在一定的困难.同时我们因无电解抛光设备,制样更加困难.为了解决这一问题,在参考有关资料的基础上,经过多次试验,用氯化铜氨水溶液侵蚀锡青铜带的晶粒,效果较好.1 制样过程先将试样用镶嵌机镶成(?)15mm的标准试样,经粗、精磨后抛光.精磨砂纸粒度为W10(04~#),抛光选用W1.5金刚石抛光膏即可.整个磨抛过程中用力要轻,时间不能太长. 相似文献