铁-钨-磷合金电沉积工艺及其性能研究

在含FeSO4·7H2O、Na2WO4·2H2O、NaH2PO2·H2O、Na3C6H5O7·2H2O、C6H8O7·H2O、NH3·H2O和苯亚磺酸钠的碱性镀液中,电沉积得到Fe–W–P三元合金,分析了不同镀液成分时所得镀层的化学组成,讨论了温度、pH、电流密度及NH3·H2O用量对镀层沉积速率和显微硬度的影响。结果表明:除NaH2PO2·H2O外,镀液中其他组分对镀层组成均有显著影响;工艺参数的改变对镀层沉积速率和显微硬度有一定影响,NH3·H2O体积分数对沉积速率的影响尤其显著。电沉积所得Fe–W–P合金镀层具有典型的非晶态结构,其耐蚀性略优于00Cr17Ni14Mo2不锈钢。     

有机添加剂对电沉积Fe-Co-Ni合金的影响

通过测定阴极极化曲线和电沉积试验，研究了有机添加剂对电沉积铁－钴－镍合金的影响。认为含硫有机添加剂通过在电极表面的吸附，促进或延缓金属离子的还原反应，而络合剂则通过选择性络合阳离子，起稳定电解液、调节合金组份的作用。     

脉冲电沉积工艺参数对Ni-W-P合金镀层性能的影响

针对传统镀硬铬沉积速率低、污染环境等问题,采用脉冲电沉积方法在碳钢表面制备Ni-W-P代铬镀层。采用显微硬度计、扫描电子显微镜、X射线衍射仪和电化学工作站研究了脉冲频率、平均电流密度和占空比对镀层性能的影响。结果表明:随着脉冲频率、平均电流密度和占空比的增加,镀层的硬度和耐蚀性均呈现出先增大后减小的变化规律;当脉冲频率为250Hz,平均电流密度为4.0A/dm2,占空比为30%时,镀层为非晶态结构,表面光滑、平整,结构致密,硬度可达5 140MPa,耐蚀性较好。     

电沉积Fe-Ni-Cr合金工艺的研究

在氯化物-硫酸盐体系中,采用电沉积法在45#钢基体上制备Fe-Ni-Cr合金镀层,研究了电流密度、温度及pH值对舍金镀层成分的影响.借助扫描电镜、能谱仪、X射线衍射分析了合金镀层的表面形貌、成分和相组成,采用电化学法和盐雾实验评价了镀层的耐蚀性.结果表明:Fe-Ni-Cr三元合金镀层均匀、致密、光滑,镀层中Cr的质量分...     

电沉积光亮Ni-Co合金工艺的研究

通过大量实验 ,研究硫酸镍 硫酸钴 氯化钠体系中得到钴含量 40 %以下的光亮Ni Co合金镀层的最佳添加剂 ;并研究了影响镀层中钴含量的各因素 ,从而得出了光亮镀层中钴含量 2 5 %左右的工艺。     

电沉积制备Ni-Co合金镀层及耐蚀性能研究

为了减弱腐蚀,增强基体的使用寿命,以316L不锈钢片为基体,采用电沉积法制备了Ni-Co合金镀层。使用扫描电镜对镀层的微观形貌进行表征,利用VersaSTAT3电化学工作站测试镀层在3.5%的NaCl溶液中的腐蚀电流密度。研究了不同主盐浓度、镀液温度及电流密度对合金镀层性能的影响规律。结果表明,电镀液中镍盐质量浓度为128 g/L时,钴盐质量浓度为115 g/L,镀液温度为55℃,p H值为4.5,电流密度为1.0 A/dm~2,腐蚀电流密度为6.13×10~(-12)A/cm~2时,所得Ni-Co合金镀层的耐腐蚀效果最佳。     

电沉积Ni-Co合金工艺条件的研究

研究了硫酸镍 -硫酸钴 -氯化钠体系中钴含量在 4 0 %以下的 Ni- Co合金镀层的影响因素。讨论了温度、p H、电流密度、Ni/ Co质量比、时间等因素对镀层沉积速度和腐蚀速度的影响。通过试验得出了电沉积过程的最佳工艺条件。     

节能环保磁场诱导电沉积制备镍钨合金薄膜

为了提高电沉积镍钨合金薄膜的沉积速率和降低能耗,使用了磁场诱导电沉积技术。研究了垂直于电场的磁场对镍钨合金电沉积时的电流、速率以及镀层形貌和结构的影响。结果发现,磁场和电场相互作用产生的磁流体力学效应有利于增大极化电流,提高沉积速率和细化合金晶粒。0.8 T磁场作用下,镍钨合金的沉积电流增加了30%,沉积质量提高了40%。电沉积镍钨合金为Ni₁₇W₃结构。在磁场作用下,镀态镍钨合金的显微硬度明显提升。     

明胶对电沉积Sn-Co-C合金工艺的影响

探讨了在电沉积Sn-Co-C合金工艺体系中,明胶对三元合金工艺及镀层形态的影响。结果表明:明胶的质量浓度控制在1.0～3.0g/L时,能得到耐蚀性好且光亮平整的Sn-Co-C复合镀层;当其质量浓度低于1.0g/L时,所得镀层非常粗糙且在基体上覆盖非常不均匀;当其质量浓度高于3.0g/L时,溶液整体流动性变弱,镀层疏松,耐蚀性较差。     

电沉积非晶态合金镀层磁性的控制

磁性元件薄膜化促进了磁性镀层的开发与应用。综述了镀液及镀层成分、电沉积工艺、镀层厚度及热处理对电沉积非晶态镀层性能的影响，以便在实际应用中控制非晶态合金镀层的磁性。     

Ni-Fe-Cr合金在铁基体上的电沉积

以柠檬酸为配合剂,在氯化物–硫酸盐体系中,通过电沉积的方法在铁基体上获得了含42.2%～63.4%Ni、30%～57.3?和0.5%～6.6%Cr的Ni–Fe–Cr合金镀层。采用能量色散X射线谱分析了合金镀层的成分,研究了电流密度、温度、pH对合金镀层成分的影响。确定了最佳工艺条件为:电流密度12～18A/dm2,pH1.6～2.7,温度20～30°C。X射线衍射分析表明,Ni–Fe–Cr合金镀层为面心立方晶体结构。扫描电镜观察表明,镀层表面由密集的球形小颗粒组成。镀层光亮,与基体结合良好,在w=5%的NaCl溶液中具有良好的耐蚀性。     

硫酸高铈对换向脉冲电沉积镍钴合金的影响

在电解液中添加不同浓度的硫酸高铈,采用换向脉冲电沉积法制备了Ni–Co合金镀层。通过X射线衍射、极化曲线和中性盐雾试验研究了硫酸高铈浓度对Ni–Co合金镀层晶粒尺寸及耐蚀性能的影响,采用扫描电镜对含与不含硫酸高铈得到的Ni–Co合金镀层盐雾试验前后的表面形貌进行了观察,并用能谱分析仪测试了盐雾腐蚀后镀层的组成。结果表明,所制备的合金镀层均为面心立方(fcc)结构,主要的晶面取向为(111)和(200)面;硫酸高铈的加入粗化了Ni–Co合金镀层的晶粒,使镀层的自腐蚀电位负移,自腐蚀电流增大,耐蚀性降低。     

电沉积Zn-Mn合金的工艺研究

研究了硫酸盐-柠檬酸盐体系电沉积锌锰合金的镀液组分及工艺条件,讨论了主盐浓度、络合剂浓度、电流密度及pH等对合金镀层中锰含量的影响。实验结果表明,最优镀液组分及工艺条件下可以得到锰含量为60％左右的缎面Zn-Mn合金镀层,电流效率达50％。添加剂Na2S2O3不仅能提高锰含量,而且可以显著提高阴极电流效率。阴极极化曲线表明,添加50 mg／L Na2S2O3使阴极析氢电位负移了100 mV,从而抑制了析氢副反应。5％NaCl溶液浸泡实验表明,锌锰合金镀层的耐蚀性随锰含量的增加而增加,6μm厚含锰量64．17％的缎面镀层生红绣时间可达1350 h以上。     

超声电镀锡铈合金的微观结构与性能

在超声波作用下进行了锡铈合金电镀。通过透射电镜(TEM)和X射线衍射(XRD),对镀层的表面形貌和结晶状态进行了表征,并用光栅光谱法对镀层成分进行了分析。探讨了超声波对锡铈合金镀层的抗氧化性、结合力、可焊性和耐蚀性的影响。结果表明:超声波的作用使镀层表面更均匀细致,结晶晶面形成以Sn(101)面为主的择优取向,超声波的作用增加了镀层中的铈含量,有利于合金的形成;超声波提高了镀层的可焊性、抗氧化性、耐蚀性等性能,优化了操作条件,促进了镀层择优取向的形成。     

某些有机添加剂对硫酸-酒石酸盐溶液中电沉积Cu-Zn合金的作用

研究了以酒石酸钾钠、柠檬酸三钠作为络合剂的酸性硫酸盐溶液中的Cu-Zn合金镀层。探讨了电流密度、pH、温度对镀液分散能力和镀层组成的影响。在本实验条件下,添加剂的加入可以使镀液具有较好的分散能力和较高的电流效率。实验发现,在所研究的各种添加剂中,糖精、苯酚是加速剂,而硫脲、甘油是阻化剂。采用动电位极化和电化学阻抗谱方法,测定了Cu-Zn合金镀层在NaCl(φ=3.5%)溶液中的耐蚀性能。采用扫描电镜研究了添加剂对控制沉积质量的微妙作用。X-射线衍射分析表明,合金镀层的相结构是正交晶。在上述研究的基础上,提出了Cu-Zn合金电沉积的最佳组成和工艺控制参数。     

电流密度对电镀铜-镍合金微观结构和耐蚀性的影响

采用直流电沉积法在高锰铝青铜基体上制得Cu-Ni合金镀层,镀液组成和工艺条件为:CuSO4·5H2O 20 g/L,NiSO4·6H2O 84 g/L,C6H5O7Na3·2H2O 75 g/L,十二烷基硫酸钠0.5 g/L,H3BO320 g/L,电流密度15~30 mA/cm^2,pH 7,温度55℃,搅拌速率300 r/min,时间60 min。研究了电流密度对Cu-Ni合金镀层元素成分、微观形貌和耐蚀性的影响。结果表明,在电流密度30 mA/cm^2下所得到的Cu-Ni合金镀层最厚,为25μm,耐蚀性最好,经乙酸盐雾试验168 h后表面仅有几个微小的腐蚀坑。     

电沉积锌合金镀层的特性及应用

锌合金镀层可以在适宜的镀液中比较容易的沉积出来,它具有优异的耐蚀性、低氢脆性和化学稳定性,已引起人们的极大关注。综述了电沉积合金镀层的主要特性和应用,并讨论了锌合金的最新发展趋向。电镀工作者应加快步伐推进锌合金在国内的应用。