大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能分析

电子枪聚焦性能是由电极结构决定的，本文通过计算机模拟的方式对3种典型的用于大屏幕彩色显像管电子枪的为形貌进行了系统的模拟，对各电子枪聚焦特性进行了分析和比较表明电子束形成区，主透镜结构对屏幕中心，角部的着屏光点及不同电流下了聚焦的稳定性都有较大的影响。     

黑白显像管用电子枪聚焦性能改善

黑白显像管用电子枪为单电位电子枪，其聚焦性能较差。本文从减小荧光屏上光点尺寸出发阐述了改善黑白显像管用电子枪聚焦性能方法──改进聚焦系统、改善发射系统并注意发射系统和聚焦系统的配合。     

大屏幕彩色显像管光点像散分析

大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜，其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是着屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚焦性能进行模拟表明：理想情况只出现在一定电流范围内，电流变化时，着屏光点的像散量会有较大的变化。     

一种用于彩色投影CRT的高分辨率电子枪

本文介绍用一种选择型预聚焦透镜来减小球差。我们采用计算机分析计算来设计电子枪。这种磁聚焦电子枪在束电流为4毫安时能提供0. 2毫米的光点尺寸。     

实验研究

如上所述,整管结构示意图见签201。 后加速会聚透镜以下简称PDAL(post Dafleclion Aleeleration Lens) 为了研究方便,电子枪偏转板中心电压与阳极同电位,即没有辅助聚焦,电子枪阳极,编转板中心及PDAL低压电极①同电位为(?)A。PDAL电极②为调正电极,电位(?)J可调,PDAL电极③为高压电极,与屏同电位,电位UA2。电子枪的聚焦电压力VF。 一般电子束管中,电子束在发射系统中交叉,将此交叉截面作为聚焦透镜物。在屏上得到它的象,即光点。但是在本结构中,电子束在偏转系统出口处再次交叉,形成虚象,然后通过PDAL在屏上得到实象——光点。因此这是二次交叉类型管种。光学系统见签202。     

重叠型大口径电子枪的开发

NEC研制成功的高分辨率显示管用重叠型大口径电子枪(简称SFL电子枪),由于改进了聚焦特性和会聚特性,实现了大容量且高分辨率的高品质显示。 SFL电子枪采用降低象差的非对称预聚焦透镜,抵销自会聚偏转磁场所引起的电子束光点畸变的和重叠型大口径主电子透镜。     

基于Spindt冷阴极的行波管电子枪设计

针对X波段小型化Spindt冷阴极螺旋线行波管进行了电子枪设计.基于皮尔斯型电子枪结构,联合PPM高频聚焦系统,以电子注聚焦特性为优化目标,采用CST粒子工作室对电子枪结构和工作参数进行了优化设计,获得了 30 mA工作电流下电子注填充比为0.68的良好电子注聚焦.在此电子枪结构和高频结构下,分析了特定电流下电子注聚焦...     

DDF-Ⅱ型动态聚焦电子枪的研制

在DDF-Ⅰ电子枪基础上，改变电子枪结构，将G5分成三部分，将G52／G53之间的四极场，增加G51／G52之间的四极场，通过改变四极场位置和电子束在主透镜的入射角来减小四角电子束的水平尺寸。调整G51／G52之间水平翼片的长度，让四极场场强达到合适的值，使屏面中心和四角的光点尺寸同时达到最佳。通过反复模拟计算和实验测试，最终确定了能获得满屏良好聚焦性能的DDF-Ⅱ电子枪结构。     

日立公司最新电子枪技术

对日立公司新一代彩色显像管用电子枪的结构及性能进行了剖析和系统讨论. 聚焦对比实验显示出日立公司新一代电子枪具有优越的聚焦性能.     

单枪彩色密封油膜光阀管的电子枪与偏转聚焦系统的对中要求

正 单枪彩色密封油膜光阀管的原理和结构见文献[1]。它的电子枪和偏转聚焦系统由于不是整体对中装配,因此存在对中公差的要求。由于电子枪的电极尺寸和各电极之间的距离可以确定,电子束的光斑大小可从电子枪的通过率和限制膜孔的大小推算出,所以电子枪与偏转聚焦系统的对中公差要求可以据此进行估计。 (一)电子枪和偏转聚焦系统的结构 单枪彩色油膜光阀管的电子枪是皮尔斯枪,在阳极上有限制膜孔。 偏转聚焦系统包括:小偏转板、预偏转板、主偏转板和漂移环等。其中预偏转板、主     

多个象散透镜系统的新型电子枪

一种用于４３ｃｍ彩色显示管的电子枪已经开发了，这种电子枪具有三个静态象散透镜和两个动态象散透镜，因此改善了整个屏面的聚焦均匀性。由Ｇ１、Ｇ２组成的静态象散透和主透镜消除了屏面角部的偏转角散，由Ｇ３和Ｇ５组成的动态象散透镜消除了屏面中心处，由静态象散透镜产生的影响。因此，在垂直光点和水平光点尺寸之比从１：２改善为１：１．３，而且屏面角部的水平光点尺寸减小了２５％。     

一字型枪边束优化设计的新方法

在一字型彩色ＣＲＴ中,用Ｇ２、Ｇ３进行会聚电子束,在这样的电子枪系统中,边束电子束在预聚焦透镜处（在Ｇ２和Ｇ３电极之间）向轴向弯曲,此后,电子束倾斜进入主透镜系统。边束电子空过主透镜的正确位置,从而减小光点彗差,同时电子束随聚焦电压情况漂移。为了精确估计电子束在三维结构主透镜中的正确位置,提出了一种新的计算方法。     

改进21FS彩管会聚品位

本文运用6Sigma工具定量分析了由于21FS彩管QPF电子枪的受聚焦电压影响SP光点位置相对移动,从而导致产品在用户处静会聚一致性差的重要原因。并通过设计优化电子枪偏孔设计特点,从理论和试验实践上解决了聚焦电压对21”静会聚的影响。     

一种6.9英寸的HDTV显示用高分辨率投影CRT

一种６．９英寸的投影ＣＲＴ，具有将电磁与静电方法相结合的聚集系统，其聚焦性能得到了提高，为提高聚焦性能，现开发了一种新的致密保层荧光屏，减少了荧光屏内由散射引起的光点增大，同时也优化设计了一种等电位聚焦电子枪。     

彩色显象管用的高分辨率双电位聚焦的电子枪

本文描述了RCA公司研制的一种新型的高分辨率、双电位、一字形电子枪的设计。它采用了新开发的预聚焦透镜,目的是为了在第一个交叉点前减小电子束的发散角。此外,借助于计算机模拟,预聚焦透镜同G_3栅的长度和直径相匹配,以提供28％的聚焦比。计算机最优化设计大大改进了通常聚焦比为20％、大S双电位电子枪的性能,并且等效于流行的三电位电子枪,而不需要有通过芯柱的、过高的第二聚焦电压。此外,这种新型的电子枪设计改善了轨迹特性和偏离轴线的电子束尺寸。在高、低视频激励下,具有很好的补偿特性。在低激励条件下,有最小的网纹,大大降低了图象模糊现象。在荧光屏边缘,光点尺寸较小,使这种枪适用于100°和110°的大屏幕显象管。     

大屏幕彩色显像管光点像散分析

大屏幕彩色显像管电子枪通常采用非轴对称四极透镜，其目的是形成一定正像散的着屏光点以抵消偏转磁场产生的负像散。理想情况是差屏光点在任何工作电流下都具有一定正像散。对几种典型大屏幕彩色显像管电子枪聚集性能进行模拟表明：理想情况只出现在一定电流范围内，电汉变化时，着屏光点的像散量会有较大的变化。     

具有动态象散与聚焦校正的一字形电子枪

为了提高自会聚、一字型彩色显象管的分辨率,研制了动态象散与聚焦(DAF)电子枪。在当前流行的枪结构中,由于偏转线圈磁场畸变产生的光点偏转散焦和象散,使得分辨率下降。DAF枪,在双电位枪的兰极管部分与主透镜之间,采用了一种新设计的、与四极透镜合并在一起的透镜系统。四极透镜结构简单,面对着的矩形孔互相垂     

一种新型CDT用电子枪的研制

一种具有新的非对称的束形成区和主透镜系统的新型电子枪已经开发出来,这种电子枪已用于４０ｃｍ０．２８ｍｍ ＣＤＴ显示管中。在阴极电流Ｉｋ＝０．２ｍＡ时,屏中心１０％处垂直电子束光点直径为０．６５ｍｍ;在Ｉｋ＝０．２￣０．５ｍＡ时,电子枪的聚焦电压差小于３００伏,而且其它性能均能满足显示管各方面的显示要求。     

U—B电子枪探讨

Ｕ－Ｂ电子枪可以在高的阳极电压证工作，因而能够增强ＣＰＴ的亮度，改善枪的聚焦性能，本文对Ｕ－Ｂ电子枪的结构和进行了探讨。     

高功率低速度零散单阳极磁控注入电子枪的研究

该文利用基于绝热压缩原理和角动量守恒理论的解析方程组,在对电子枪相关参量分析的基础上,研究一种阴极采用鼻状辅助聚焦极的单阳极磁控注入电子枪。通过电子光学软件EGUN-226对电子枪结构进行优化设计,比较分析了不同横纵速度比对电子注轴向速度零散的影响。结果表明这种结构的电子枪可以适应比较大的电流应用。