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高强铝合金的化学镀镍镀层性能研究 总被引:1,自引:0,他引:1
对高强铝合金进行了化学镀镍,观察了镀层形貌,对镀后试样进行了不同温度的热处理以及耐热性能试验,研究结果表明:经该工艺处理后镀层胞状形貌明显,结构致密均匀,孔隙少,镀层光亮,结合力好。400℃以下化学镀层的硬度随热处理温度的升高而增大,400℃处理后,镀层与基体的界面元素扩散现象明显。镀层在一定温度下具有保护铝基体的作用,尤其在瞬时高温的条件下镀层的保护作用更加明显。 相似文献
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玻璃粉粘结剂对丝网印刷Zr-V-Fe吸气剂薄膜吸气性能的影响 总被引:1,自引:1,他引:0
利用丝网印刷技术制备Zr-V—Fe吸气剂薄膜。以Pb玻璃粉作为薄膜与基片的粘结剂,研究了三种不同退火温度下制备的Zr—V—Fe吸气剂薄膜的吸气性能,通过XRD,FESEM,EDS及吸气性能测试,分析讨论了薄膜的相组成、表面形貌和表面成分对吸气性能的影响。结果表明,退火温度变化会使薄膜表面Pb含量发生改变,从而引起吸气剂薄膜的吸气性能发生变化,在玻璃粉的熔点温度(350℃)进行退火,所得的薄膜具有更多清洁有效的表面,此时玻璃粉对薄膜的吸气性能影响最小,薄膜的吸气性能最佳。 相似文献
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在苛性碱化学镀废液的处理中,三-辛基甲基氯化铵(TOMAC)有利于萃取镍和柠檬酸盐,使其从次磷酸盐和亚磷酸盐中分离出来.TOMAC难以用在氨碱性化学镀废液的处理中,而采用螯合萃取剂如LIX26有利于萃取镍.同时,溶剂萃取难以在酸性废镀液的处理中得到应用. 相似文献
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采用交流阻抗技术对化学镀Ni-P合金的沉积过程进行原位测定,所获得的Nyquist阻抗图上出现感抗圈。综合交流抗击以及还原剂浓度影响研究结果,提出一个包括H2PO2-离子表面吸附步骤的化学镀镍电化学机理。 相似文献
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Electroless nickel/immersion gold (ENIG) technology is widely used as one of the surface final finish for electronics packaging substrate and printed circuit board (PCB), providing a protective, conductive and solderable surface. However, there is a solder joint interfacial brittle fracture (or solderability failure) of using the ENIG coating. The characteristics and the application of ENIG technology were narrated in this paper. The research progress on the solderability failure of ENIG was introduced. The mechanism of "black pad" and the possible measure of eliminating or alleviating the "black pad" were also introduced. The development direction and market prospects of ENIG were prospected. 相似文献
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需要对还原工艺参数进行严格控制,以满足新材料对微细镍粉粒度、松装密度、氧含量的要求。利用氢还原技术,采用推舟炉进行试验,研究了不同条件下喷雾热解氧化亚镍粉的氢还原效果。结果表明,采用推舟炉还原喷雾热解氧化亚镍生产微细镍粉的最佳工艺条件为:还原温度745~800℃、推舟时间1 200s、氢气流量7.5m~3/h。所制得的还原镍粉松装密度低、粒度细,氧含量可低至0.25%。 相似文献
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研究了不同粒度镍粉对WC-9%Ni硬质合金性能和组织的影响,并对镍聚集现象给合金材质造成的不良影响进行了讨论。 相似文献