CeO_2析光膜的性能试验

我厂在试镀其他膜系中,得知 CeO_2膜层的许多优点,如机械牢固性好,化学稳定性高,膜层折射率 n=2.2～2.3。因此我们试镀了CeO_2析光膜,目的是代替 ZnS 析光膜,因为     

PbGeTe材料在长波红外低温滤光片镀制中的应用

采用目前PbTe与ZnSe材料镀制的长波红外低温滤光片时,存在低温中心波长漂移、透过率降低,膜层附着度差等缺点。介绍了一种掺锗的PbGeTe材料在长波红外低温滤光片镀制中的应用[1]。该材料能弥补PbTe材料在低温下的缺点,但常温时消光系数大。根据PbGeTe材料的特点,设计时仅把PbGeTe材料作为膜系中心间隔层,使该材料性能在滤光片中充分发挥作用。镀制出的10.8μm长波红外低温滤光片,与用单纯用PbTe材料作为膜系中心间隔层相比,在低温下,具有更好的光学性能及更强膜层附着力[2]。     

用X射线反射测量法表征双层结构中 低原子序数材料的特性

介绍了用X射线反射测量术表征双层薄膜中低原子序数材料特性的方法。由于低原子序数材料的光学常数与Si基板材料的光学常数非常接近,用X射线反射法确定镀制在Si基板上的低原子序数材料膜层结构的变化十分困难,因此,提出了在镀制低原子序数材料前,首先在基板上镀制一层非常薄的金属层的方法。实验中,选用Cr作为金属层材料,制备并测试了三种不同C膜镀制时间的Cr/C双层薄膜。反射率曲线拟合结果表明,C膜密度约为2.25 g/cm³,沉积速率为0.058 nm/s。     

等效四层宽带增透膜系设计

本设计在膜层镀制过程中膜厚控制简单方便,基本上可用传统的光电极值法进行膜厚控制。第一层ZrO_2的厚度约为λ/8,是非λ/4层;第二层MgF_2,稍微超过λ/4极值点;第三层ZrO_2和第四层MgF_2都是在极值点停止蒸发。采用双光路带微分装置的光电膜厚仪。     

极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术

研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。     

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍铬铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术所镀制的镍铬铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层成分与脉冲多弧离子源阴极靶材成分含量误差小于±３％ ,符合实际应用要求     

用富勒烯碳管作形核剂在铜／钨钽中间层的铁基材料上沉积金刚石

研究了用富勒烯族碳纳米管作金刚石核剂,在沉积了铜／钨钽中间层的铁基材料上的用热丝法化学气相沉积金刚石膜的规律。用扫描电子显微镜、拉曼光谱、Ｘ射线衍射仪检测金刚石膜的质量和中间层的结构变化,结果表明当中间怪只有钨层时不能沉积出金人有当中间上镀镀铜层和钨钽层或钨层时可以沉积出金刚石膜。     

用脉冲多弧离子源研制镍铬铁合金膜

介绍了采用脉冲多弧离子源镀制镍铬铁合金膜的新技术,研究了采用这一新技术镀制镍络铁合金膜的镀制工艺,对采用这一新技术氙镀制的镍络铁合金膜进行了性能测试。结果表明：选用合适的工艺参数,采用这一新技术镀制的镍铬铁合金膜膜层均匀,牢固度好,膜层尬发与脉冲多弧离子源阴析靶材成分含量误差小±３％,符合实际应用要求。     

空心圆柱面镀膜用旋转支架

在平面型光学元件的表面真空蒸镀光学薄膜时,一般地是将待镀元件置于高真空室的载物盘上进行的。如果有特殊要求时(如蒸镀楔形膜),则将待镀元件倾斜地夹持在真空室内进行蒸镀。而对圆柱形光学零件或其他圆柱形物体表面蒸镀光学薄膜时,用上述方法就难以实现了。例如,欲在一个圆柱形物体外圆柱面蒸镀薄膜时,若采取使之与镀膜机工作台台面平行放置的方式,要进行三次蒸镀,尚不能保证膜层的均匀性,因为只有每次使它沿轴线翻转120°位置才能使整个外圆柱面都能蒸镀上光学薄膜。假如倾斜地将它夹持在真空室内时,则至少应蒸镀六次才能使膜层较均匀,因为要消除高、低差造成的不均匀结果,必须将圆柱体二端交换位置蒸镀。这样显然是复杂的,而且不     

ZZI-800型真空晶体镀膜机

北京仪器厂开发的 ZZI- 80 0型真空晶体镀膜机不久前成功面市。该设备用于在真空条件下 ,采用电阻式蒸发源的形式 ,对石英晶片蒸镀一层导电膜 ,通常为铬和银 ,使其形成电极 ,以便被作成各种频率的石英晶体振荡器 ,可适用于表晶晶振器和高频振器的厂家。其特点为 :(1 )整个镀膜过程是在真空、恒温、自动控制中进行的 ,保证了膜层的均匀性、一致性及膜层的牢固度。 (2 )在连续高温烘烤的环境中 ,1 8个工位的夹具连续 60°～ 1 2 0°翻转 ,夹具定位准确 ,无噪音、无卡滞现象 ,确保一次蒸镀的 60 4 8个晶片上每个被镀表面蒸镀上均匀、牢固的膜…     

光谱区为0.7-1.5微米的稳定性窄带滤光片

用阴极溅射法镀制可见光谱区稳定性的窄带滤光片时,有成效地采用了以二氧化硅为间隔层的二氧化钛层(TiO_2-SiO_2)的方法,来镀制这种膜层的窄带滤光片和长波滤光片,已成为十分现实的问题。这个问题的实质是基于物质的光学性能基础上的。实质上,二氧化钛(金红石)能透到波长5微米,此时它保持很高的折射率[h=2.5或2.4]指标;二氧化硅(玻璃试件的)能透到波长4.5微     

18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析

软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段。由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波段得到了广泛的应用。本文从多层膜带宽匹配条件、Schwarzschild显微物镜的几何尺寸和多层膜镀制设备的性能出发,研究了实现Schwarzschild显微物镜带宽匹配条件的镀膜过程,为实际制备Schwarzschild显微物镜用多层膜提供理论指导。     

膜厚均匀性函数的分析

为了解决膜层层数在一百多层以上的膜系在镀制过程中所必然存在的膜厚均匀性问题,定义了一个与镀膜机的结构参数、工艺参数以及基片几何参数均有关系的均匀性函数。以APS1104镀膜机为实验对象,针对多腔窄带滤光片膜系,根据此函数分析了镀膜机镀制较多层数薄膜时,其膜层厚度沿基片径向的变化规律,确定了影响膜厚均匀性的多种因素,解释了镀制多腔窄带滤光片薄膜成品率低的原因。实验结果证实了分析的正确性。     

18.2nm Schwarzschild显微物镜用多层膜带宽匹配问题分析

软X射线多层膜的进展使正入射高分辨率成像系统从红外、可见和紫外扩展到软X射线波段.由于软X射线多层膜的反射率还不能像其它波段反射镜反射率那样高,因此由两块同心球面反射镜组成的Schwarzschild物镜在软X射线波段得到了广泛的应用.本文从多层膜带宽匹配条件、Schwarzschild显微物镜的几何尺寸和多层膜镀制设备的性能出发,研究了实现Schwarzschild显微物镜带宽匹配条件的镀膜过程,为实际制备Schwarzschild显微物镜用多层膜提供理论指导.     

TX系列多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备

该设备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿膜、装饰膜、合金膜或多层膜,可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。该设备在真空条件下采用物理气相沉积技术,在基片上镀制氮化钛及其他薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控溅射离子镀技术有机结合在一起,     

耳片铆接孔镀前铰刀和塞规的设计

为了防止黑色金属零件的锈蚀，经常采用电镀一层金属或发蓝来进行表面处理。常用的电镀方法有镀锌、镀镉和镀铬。表面处理后，可以提高零件的使用寿命并使外形美观。 图1是我厂生产的耳片的产品图样，它的2×φ6H11（07500.+）mm是要求镀后达到的尺寸。该零件的表面处理为镀锌，镀层厚度为5~12μm。要达到镀后φ6H11 mm的要求，就必须预留出镀层厚度，这样在镀后才可达到图样的尺寸要求。按照图样的最大极限尺寸镀最薄的镀层厚度、最小极限尺寸镀最厚的镀层厚度的原则，这个零件两孔的镀前尺寸应为： 最大极限尺寸=6.075+0.005×2=6.085 mm…     

ZnS基底沉积类金刚石薄膜研究

针对不能直接在红外光学材料ZnS基底上沉积类金钢石薄膜(下述简称DLC膜)的问题,介绍了在红外光学材料ZnS基底上沉积DLC膜的方法,指出了采用在ZnS基底表面镀制DLC膜的方法,来解决在ZnS基底表面上镀制高效增透膜后,其膜层耐磨强度不足以抵抗恶劣环境的缺点;同时,通过膜系优化设计,利用镀制组合膜层的方法来降低其单面反射率,可改善光学系统的成像质量。     

双光路膜厚控制仪

一、绪言随着祖国光学工业和电子工业的迅速发展,对多层膜的镀制和控制,提出了更高的要求。为了能够精确、方便地控制多层膜的沉积厚度,填补真空镀膜沉积控制上的一项空白,1971年北京仪器厂在北京工业学院协助下,试制成功了 MKG—1型双光路膜厚控制仪。用光电方法控制膜层厚度,目前有下列三种主要方法:     

铝合金化学复合镀（Ni—P）—PTFE工艺

通过实验研究,不仅确定了用含有组合络合剂的溶液对铝合金进行镀前冲洗活化处理。代替传统的铝合金镀前二次浸锌工艺,从而使工艺简化,而且确定了络合剂、缓冲剂、稳定剂组合使用的复合镀（Ni-P)-PTFE工艺的最佳配方,并测试了膜层的结构、组成和性能。     

透红外冷反射镜的研制

本文介绍一种透红外冷反射镜反光杯（碗）的光学设计、光学薄膜膜系设计和镀制工艺,特别介绍镀制工艺中膜层的均匀性、冷光膜的重复性、牢固性等的影响因素和解决办法。