聚变堆第一壁涂层材料TiC和TiN的残余应力研究

采用Ｘ衍射法测定了聚变堆第一壁涂层材料ＴｉＣ和ＴｉＮ薄膜的残余应力．对涂层材料不同的制备方法（化学气相沉积ＣＶＤ和物理气相沉积ＰＶＤ）、基体材料（Ｍｏ、石墨和３１６ＬＳＳ）、涂层厚度及沉积温度对残余应力的影响进行了研究．结果表明，ＣＶＤ与ＰＶＤ制备的涂层的残余应力均为压应力，且ＣＶＤ较ＰＶＤ产生的残余应力要低，Ｔｉ／Ｍｏ（ＣＶＤ）随涂层厚度（１４μｍ～６０μｍ）的增加，残余应力增加．ＰＶＤ涂层的残余应力主要为本征应力，高达数ＧＰａ．其值随沉积温度（２００℃～６５０℃）的升高而降低．对残余应力产生的原因作了初步讨论     

述评：金属等离子体浸没离子植入和沉积

金属等离子体浸没离子植入和沉积（ＭｅＰＩＩＩＤ）是一项将阴极电弧沉积和等离子体浸没离子植入结合起来的混合工艺。本文评述了由真空电弧产生的金属等离子体的性能,并讨论了ＭｅＰＩＩＩＤ的结果。描述了各种类型的ＭｅＰＩＩＩＤ,并将它们与表面改性的传统方法如离子束辅助沉积（ＩＢＡＤ）作了比较。由于使用了各种离子粒种和能量,ＭｅＰＩＩＩＤ是一项非常通用的方法。在一种极端情况下,用能量范围为２０－５０ｅＶ的离子     

Al2O3化学气相沉积工艺研究

采用ＡｌＣｌ３Ｈ２ＣＯ２化学气相沉积（ＣＶＤ）系统，在不同ＣＶＤ工艺条件下，氧化铝被沉积在预涂层ＴｉＣ的３１６ＬＳＳ、石墨和钼基体上。氧化铝涂层经ＳＥＭＸｒａｙ和电子能谱分析表明：该涂层为正化学计量致密Ａｌ２Ｏ３。工艺研究表明：温度升高使Ａｌ２Ｏ３沉积速率迅速增加；ＡｌＣｌ３浓度达２％左右，沉积速率增加缓慢；ＣＯ２浓度小于１０％时，沉积速率迅速下降。     

等离子体辅助化学气相沉积的新技术

等离子体辅助化学气相沉积译沉积薄膜具有许多优点。在膜生长期间使用离 能轰击膜是生产致密结构的一种重要技术。本文讨论了在高能轰击对用等离子体沉积工艺生产的膜的应力水平及结构的影响方面研究的最近进展。诊断设备，诸如原位椭圆汁，能量选择质谱仪及残余气体分析器，能对ＰＡＣＶＤ过程仔细监测，因此可精确地控制生长面的条件。新的等离子体源，比如螺旋波等离子体源，可发射出高的离子通量。     

^90Y标记抗体的双功能络合剂的研究—异硫氰基苄基DTPA与…

比较了异硫氰基苄基ＤＴＰＡ（ＳＣＮ－Ｂｚ－ＤＴＰＡ）、环化ＤＴＰＡ酸酐（ＣＤＴＰＡ）两种双功能络合剂与单克隆抗体（ＭｃＡｂ）的偶联、偶联物与＾９０Ｙ标记和标记物稳定性的差异。结果表明，无论在络合剂对单克隆抗体免疫活性影响方面，还是在标记物稳定性方面，ＳＣＮ－Ｂｚ－ＤＴＰＡ都优于ＣＤＴＰＡ。     

PMCBP与中性萃取剂对铕的协同萃取

研究了１－苯基－３－甲基－４（２－氯苯氯基）哟唑酮－５（ＰＭＣＢＰ）与三辛基氧化膦（ＴＯＰＯ）、二正辛基亚砜（ＤＯＳＯ、二环己基亚砜（ＤＣｙＨＳＯ）和磷酸酸古丁酯（ＴＢＰ）的二甲苯溶液从盐酸介质中对肴的协同萃取，实验证实有明显的协萃效应，采用斜率法测定了ＰＭＣＢＰ单独和协萃铕的配合物组成，它们分别为ＥｕＡ２．Ｃｌ．ＨＡ和ＥｕＡ２．Ｃｌ．Ｂ（Ｂ为ＴＯＰＯ、ＤＯＳＯ、ＤＣｙＨＳＯ ＴＢＰ）。计算了它们     

聚变堆第一壁TiC涂层材料研究

本文介绍了第一壁ＴｉＣ涂层材料的化学气相沉积（ＣＶＤ）工艺；研究了涂层工艺条件对涂层微观结构、沉积速率和基体对涂层生长的影响；给出了涂层厚度与涂层工艺条件之间的经验关系式。讨论了ＴｉＣ／石墨、ＴｉＣ／ＭＯ、ＴｉＣ／３１６ＬＳＳ涂层材料的电子束热冲击损伤机理和热疲劳损伤机理，并对ＴｉＣ／石墨、ＴｉＣ／Ｍｏ、ＴｉＣ／３１６ＬＳＳ用做现行Ｔｏｋａｍａｋ第一壁材料的可行性进行了分析。     

THINDOWN IN RADIOBIOLOGY：E．COLI B／r，Bs－1，B．SUBTILUS SPORES，AND V－79 CHINESE HAMSTER CELLS

ＴＨＩＮＤＯＷＮＩＮＲＡＤＩＯＢＩＯＬＯＧＹ：Ｅ．ＣＯＬＩＢ／ｒ，Ｂｓ－１，Ｂ．ＳＵＢＴＩＬＵＳＳＰＯＲＥＳ，ＡＮＤＶ－７９ＣＨＩＮＥＳＥＨＡＭＳＴＥＲＣＥＬＬＳＺｈａｎｇＣｈｕｎｘｉａｎｇ（张纯祥）（ＤｅｐａｒｔｍｅｎｔｏｆＰｈｙｓｉｃｓＺｈｏｎｇ...     

蜂花粉对受照大鼠抗辐射效应的研究

研究了口服蜂花粉对受照大鼠外周血白细胞（ＰＷＢＣ）数，血清超氧化物歧化酶总活力（Ｔ－ＳＯＤ），血清过氧化脂质（ＬＰＯ）终产物丙二醛（ＭＤＡ）和过氧化值（ＰＯＶ）的影响。结果表明“蜂花粉具有良好的抗辐射损伤的功能，即服食花粉组的ＰＷＢＣ数和Ｔ－ＳＯＤ明显高于对照的正常组和单放组。花粉线的ＭＤＡ和ＰＯＶ显著低于对照的正常组和单放组。提示蜂花粉的抗放射要理可能是由于蜂花粉能提高机体的造血重建力，提高体内     

复合膜对316L不锈钢氚渗透性能的影响

利用物理气相沉积（ＰＶＤ）方法在３１６Ｌ不锈钢表面分别镀制微米量级厚的ＴｉＮ＋ＴｉＣ＋ＴｉＮ、ＴｉＮ＋Ｔｉｃ＋ＳｉＯ２复合膜。扫描电镜观察表明：膜致密,与基体结合牢固,抗氧化,抗热冲击。二次离子质谱（ＳＩＭＳ）和红外光谱（ＩＲ）分析结果证实：ＴｉＣ和ＳｉＯ２的膜在３００℃以上的氢中退火可形成抗氚爱阻挡层。测量了不同温度下氚在带膜３１６Ｌ中的渗透率。在２００～６００℃范围内,镀有ＴｉＮ＋ＴｉＣ＋Ｓｉ     

DHDECMP-TBP-煤油协同萃取Am(Ⅲ)和Gd(Ⅲ)机理的研究

研究了ＴＢＰ－煤油,ＤＨＤＥＣＭＰ－煤油,ＤＨＤＥＣＭＰ－ＴＢＰ－煤油从０．０５ｍｏｌ／Ｌ ＮＨＯ３－５．０ｍｏｌ／ＬＮａＮＯ３,介质中萃取Ａｍ＾３＋,Ｇｄ＾３＋的机理,其萃合物分别为;Ａｍ（ＮＯ３）３．３ＴＢＰ,Ｇｄ（ＮＯ３）３．３ＴＢＰ,Ａｍ（ＮＯ３）３．３ＣＭＰ,Ｇｄ（ＮＯ３）３,３ＣＭＰ,Ａｍ９ＮＯ３０３．３ＣＭＰ．ＴＢＰ和Ｇｄ（ＮＯ３）３．２ＣＭＰ．ＴＢＰ,并测得了各反应的平衡常数Ｋ和热     

APDC—CCl4对As（Ⅲ）和As（Ⅴ）的萃取行为研究

研究了吡咯烷二硫代甲酸铵－氯仿（ＡＰＤＣ－ＣＣｌ４）对Ａｓ（Ⅲ）和Ａｓ（Ⅴ）的萃取。实验发现：在低ｐＨ值条件下，Ａｓ（Ⅲ）可被ＡＰＤＣ－ＣＣｌ４定量萃取，而Ａｓ（Ⅴ）可用Ｎａ２Ｓ２Ｏ３还原为Ａｓ（Ⅲ）后萃取。ＣＣｌ４中的Ａｓ－ＡＰＤＣ螯合物可被微碱性的水反萃。ＡＰＤＣ－ＣＣｌ４对Ａｓ（Ⅲ）、Ａｓ（Ⅴ）萃取行为的差异可用于水质监测中Ａｓ（Ⅲ）与Ａｓ（Ⅴ）的分离。     

铀和锆在镉中的分布

对Ｕ－１０Ｚｒ合金在４７５、５００℃下Ｕ、Ｚｒ在液态Ｃｄ中的分布状态进行了研究。用ＪＣＸＡ－７３３电子显微分析仪测定了金属Ｃｄ中Ｕ、Ｚｒ的浓度，采用元素特征Ｘ射线面扫描法分析了Ｕ、Ｚｒ在金属Ｃｄ中的分布状态。结果表明：Ｕ、Ｚｒ在金属Ｃｄ中分布是均匀的；溶解了Ｕ－１０Ｚｒ合金的金属Ｃｄ中存在少量微小的颗粒（析出物），此类析出物中含有金属Ｃｄ原料中已存在的杂质元素Ｋ。     

心肌显像剂99mTcN-BMPBDA的制备及动物体内分布研究

为了寻找新的具有亲心肌性质的＾９９ｍＴｃＮ药物,合成了一种新的Ｎ２Ｓ２配体：Ｎ,Ｎ＇－二（２－巯基丙基）－１,２－苯二胺（ＢＭＰＢＤＡ）。以ＳｎＣｌ２为还原剂,Ｈ２ＮＮＨ－（Ｃ＝Ｓ）－ＳＣＨ３为Ｎ＾３－给予体,通过交换反应制备了放化纯大于９０％的＾９９ｍＴｃＮ－ＢＭＰＢＤＡ。探讨了ｐＨ值对＾９９ｍＴｃＮ－ＢＭＰＢＤＡ放化纯的影响,并对其小鼠生物分布进行了研究。结果表明,＾９９ｍＴｃＮ－ＢＭＰＢＤＡ     

用正电子湮没方法研究氦离子等离子体辅助分子束外延InP(InGaAsP)/InP结构

用氦离子等离子体辅助分子束外延方法生长了ＩｎＰ（ＩｎＧａＡｓＰ）／ＩｎＰ结构。结果发现,ＰＡＢＭＥ外延层具有很高的电阻率和很快的光反应特征。用慢正电子湮没方法研究了这一外延层。测量结果说明这些特性与等离子体造成的缺陷及缺陷随温度变化有直接关系。     

DHDECMP-TBP/煤油对U(Ⅵ)的萃取

ＤＨＤＥＣＭＰ－ＴＢＰ／煤油体系从１．０ｍｏｌ／Ｌ ＨＮＯ３－ＵＯ２（ＮＯ３）２介质中萃取Ｕ（Ⅵ）,除了存在ＴＢＰ和ＤＨＤＥＣＭＰ的单独萃取反应外,还存在着ＤＨＤＥＣＭＰ－ＴＢＰ的协同萃取反应。形成的萃合物分别为ＵＯ２（ＮＯ３）２．２ＴＢＰ、ＵＯ２（ＮＯ３）２．２ＤＨＥＣＭＰ和ＵＯ２（ＮＯ３）２．ＤＨＤＥＣＭＰ．ＴＢＰ。实验测定了ＴＢＰ／煤油、ＤＨＤＥＣＭＰ／煤油和ＤＨＤＥＣＭＰ－ＴＢＰ／煤国同萃     

MEVVA型金属离子源

本文报道金属蒸发真空孤放电（ＭＥＶＶＡ）型金属离子源的研究结果。阴极材料分别使用了Ａｌ、Ｔｉ、Ｆｅ和Ｃｕ。阴极触发脉冲１２ｋＶ，脉冲宽度９０μｓ，脉冲重复率１－５次／ｓ。引出束流脉冲宽度３００μｓ。当引出电压为２８ｋＶ时，可引出Ａｌ、Ｔｉ、Ｆｅ和Ｃｕ离子流强度分别为２３０ｍＡ、２５０ｍＡ、２８０ｍＡ和３００ｍＡ     

萃取分离—化学光谱法测定UF4中18种微量杂质元素

应用化学光谱法分析测定了ＵＦ４中的１８种微量杂质元素Ｌｉ、Ｎａ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｋ、Ｃａ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｖ、Ｐ、Ｎｉ、Ｂａ、Ｗ。测定的１８种杂质的质量分数范围为３．２８×１０－１０－１．３１×１０－６；精密度＜２０％；回收率９６．１％－１１１％。     

BODY SURFACE EXPOSURE DISTRIBUTION OF EXAMINEES RECEIVED UPPER G．I．T．X－RAY EXAMINATION

ＢＯＤＹ　ＳＵＲＦＡＣＥ　ＥＸＰＯＳＵＲＥ　ＤＩＳＴＲＩＢＵＴＩＯＮ　ＯＦ　ＥＸＡＭＩＮＥＥＳ　ＲＥＣＥＩＶＥＤ　ＵＰＰＥＲ　Ｇ．Ｉ．Ｔ．Ｘ－ＲＡＹ　ＥＸＡＭＩＮＡＴＩＯＮＦｅｎｇＤｉｎｇｈｕａ（冯定华）ａｎｄＣｈｅｎｇＱｉｊｕｎ（程祺钧）（Ｆａｃｕ...     

9Cr18钢上离子束辅助沉积TiCxNy膜的研究

用离子束辅助沉积技术９Ｃｒ１８钢基体上形成了ＴｉＣｘＮｙ膜，ＴＥＭ观察膜呈多晶结构，具有（１１１），（２００）和（２２０）择优取向。ＡＥＳ和ＸＰＳ分析进一步证实，ＴｉＣｘＮｙ膜呈含氧配置。膜的硬度与Ｎ含量有关，Ｎ的含量过高时硬度下降。在本实验条件下以离子注量为３×１０＾１７／ｃｍ６２时硬度最高，干摩擦表明膜的抗氧化性能优良，它的存在能有效抑制基体在摩擦过程中氧化皮的形成，显改善基体的磨损特性，并