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介绍了一种盲孔电镀铜工艺,镀液组成和工艺条件为:CuSO4·5H2O 200 g/L,H2SO475 g/L,Cl 55 mg/L,抑制剂(乙二醇聚氧乙烯聚氧丙烯单丁醚)30 mL/L,整平剂(含氮杂环化合物)3 mL/L,加速剂(N,N二甲基二硫代羰基丙烷磺酸钠)2 mL/L,温度23°C,电流密度1.4 A/dm2,阴极摇摆16回/min,空气搅拌。研究了抑制剂、加速剂和整平剂对FR-4基材盲孔填孔效果的影响。结果表明,抑制剂和加速剂用量对盲孔填孔效果的影响较大,整平剂的影响较小。镀液中加入适宜含量的上述3种添加剂时,填孔效果良好,填孔率大于95%,所得铜镀层的延展性和可靠性满足印制电路板的应用要求。 相似文献
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提出深孔、盲孔零件如电池壳等电镀镍工艺及镀液配方,研制成功BH-光亮剂和BH-深镀剂。同时对镀液和镀层性能进行了测试。 相似文献
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硫酸盐镀镍体系的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
硫酸盐镀镍是目前国内应用最广的镀镍体系。本文阐述了硫酸盐镀镍的机理,介绍了镀暗镍、光亮镀镍、珍珠镍、黑镍以及镍基合金的工艺配方及添加剂的发展历程。 相似文献
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电镀镍添加剂的技术进步和新一代镀镍光亮剂 总被引:8,自引:0,他引:8
回顾了电镀镍添加剂的技术进步过程,是市场需要推动了这种进步。对新一代镀镍光亮剂的特点做了介绍,对产生这些特点的机理做了探讨。是否有较大的极化不能做为评价光亮剂的指标,多种中间体的协同效应和影响结晶过程特别是低电流区的电子供给是新一代光亮剂的特征。 相似文献
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铝合金及钢铁件化学镀镍的应用配方探讨 总被引:1,自引:1,他引:1
针对生产实践,提出了一种铝合金及钢铁件化学镀镍配方。研究了该配方中各成分(包括主盐、还原剂、加速剂、络合剂、稳定剂等)对镀液性能的影响。对镀速和镀层厚度进行了测定,并与电镀进行了效果比较。实践表明,镀液中的各成分都会影响到镀层效果,评价镀液性能必须综合考虑各项因素。 相似文献
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镀镍液中有机添加剂的分析 总被引:3,自引:0,他引:3
1、前言在镀镍溶液中常添加一些有机化合物做为光亮剂和稳定剂。这些添加剂含量都比较少、且范围狭窄,目前尚无较好的分析方法,一般只能凭经验进行控制调整,或者从霍尔槽样板观察。文献中虽对糖精的测定有所叙述,但定量方法中有的只能测定磺酸盐与糖精的总量,而不能同时分别测定; 相似文献
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无铅无镉化学镀镍复合添加剂的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
在前期确定的基本化学镀镍配方的基础上,通过正交试验优选出一组无铅无镉复合添加剂:20mg/L硫酸铜、3mg/L硝酸银、4mg/L碘酸钾、10mg/L硫酸铈和4mg/L唑类添加剂M。研究了该无铅无镉复合添加剂对化学镀镍液的稳定性、镀速、镀层孔隙率及外观的影响。结果表明,该添加剂使镀液的稳定性由23s升高至10h,v=15μm/h,孔隙率=0,w(镀层中磷)=10.1%;所得镀层外观光亮、细致。与某公司商品含铅镉添加剂相比,该复合添加剂对镀液、镀层性能的改善作用更为优异。 相似文献
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在添加复合添加剂(CeCl3+KI)的条件下进行化学镀镍.用扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、动电位极化测量和电化学阻抗谱,研究了复合添加剂对镀层的影响.结果表明:复合添加剂可使镀层更加致密和均匀,腐蚀电流密度减小,电荷转移阻力增大,镀层的耐蚀性提高. 相似文献
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开发了一种由含钼化合物、碘化钾以及邻苯二甲酸酐衍生物组成的复合添加剂BH,讨论了它对化学镀镍液稳定性、镀速以及镀层磷含量、硬度、孔隙率和微观形貌的影响。对测试化学镀镍液稳定性的PdCl2试验标准进行了改进:温度由80°C提高到90°C,PdCl2的浓度由0.1g/L增加到1.0g/L。研究结果显示,新标准检验的镀液稳定性差异能较好地反映实际生产中的镀液稳定性差异;当复合添加剂BH的添加量为2.0mL/L时,化学镀镍层微观形貌得到较大的改善。经过新的PdCl2试验标准检验,该镀液可达到900s不发生浑浊,镀速为24μm/h,镀层孔隙率0.57个/cm2,磷含量7.3%,硬度520HV。 相似文献
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通过正交试验确定了最佳镀镍复合添加剂配方:吡啶衍生物(NPB)15 mg/L,糖精钠(BSI)1 000 mg/L,苯亚磺酸钠(BSS)120 mg/L,2–乙基己烷磺酸钠(EHS)500 mg/L,烯丙基磺酸钠(SAS)1 500 mg/L和丙炔磺酸钠(PS)45 mg/L。研究了各组分对镀层光亮度和镀液分散能力的影响,结果表明,各组分对镀层亮度的影响大小顺序为NPB>BSS>EHS>SAS>PS>BSI;对镀液分散能力影响的大小顺序为BSS>NPB>EHS>BSI>PS>SAS。与某市售镀镍添加剂相比,该复合添加剂在镀层亮度、镀液分散能力、微观形貌和降低孔隙率等方面都有所提高。 相似文献