MnSe/Ti薄膜电沉积制备及其表征

在钛电极表面上,采用电化学方法在0.1mol/L MnSO4和0.002mol/L SeO2的溶液中沉积硒化锰(MnSe)薄膜。循环伏安实验结果表明在-1.60～-1.70V电位范围易发生Mn和Se共沉积。然后采用XRD、SEM及EDS等研究沉积电位分别在-1.55、-1.60、-1.65和-1.70V时得到薄膜的特性,结果表明上述选定的电位不影响沉积层立方结构优先沿(200)晶面向;不同电位对沉积层形貌及化学计量数有显著影响。控制电位可以沉积得到不同特征的MnSe薄膜。     

氧化锌薄膜的电化学沉积和表征

以铜片为衬底,用硝酸锌水溶液为电解液,采用阴极恒电流还原制备氧化锌薄膜.通过改变电流密度、电解液浓度、温度、离子掺杂等实验条件,系统研究了锌氧化物薄膜材料的电化学沉积过程.用X射线衍射、紫外-可见透射谱、热重-差热等技术对沉积物的结构、组成及光学性质进行了表征,结果表明,电沉积工艺条件显著影响薄膜材料的结构与组成.当电沉积产物中掺杂铜时,薄膜材料的光吸收边从375nm红移到458nm,带隙能从3.3eV降到2.7eV,拓宽了薄膜的吸光范围,这对ZnO薄膜在光学方面的应用具有重要意义.     

电沉积方法制备功能性金属化合物薄膜

本文综述了电沉积方法制备具有超导,电致变色特性的金属氧化物薄膜和具有半导体特性的金属化合物薄膜的基本方法,沉积原理,薄膜性能及存在问题,并对今后的发展进行了展望。     

TiO2薄膜上电沉积四氨基酞菁钴及其表征

为了寻找酞菁在TiO2上成膜新方式,我们用阳极氧化法在TiO2薄膜上成功制备了四氨基酞菁钴薄膜,对酞菁薄膜进行了SEM,XRD,UV-vis表征,并在成膜前后对四氨基酞菁钴分别进行了电化学性能表征.     

电沉积技术制备钼酸钡薄膜及其特性表征

采用恒电流电沉积技术，在不同衬底（金属钼片、镀金的硅片、ITO导电玻璃）上，不同溶液酸碱性的条件下制备出了具有白钨矿结构的钼酸钡薄膜，利用X射线衍射仪（XRD）、扫描电子显微镜（SEM）、原子力显微镜（AFM）对制备的薄膜进行了分析表征。分析了利用电沉积方法制备的钼酸钡薄膜的成膜机制．实验结果表明：在室温环境下，利用电沉积技术，在不同材质的衬底（金属钼片、镀金的硅片和ITO导电玻璃）上，可以制备出具有白钨矿结构钼酸钡薄膜，不同材质的衬底会影响到薄膜晶粒的形状进而影响薄膜的表面形貌和致密性，用镀金的硅片（Au-Si片）作衬底时，制备的钼酸钡薄膜晶粒更加饱满，晶体生长呈四方锥形，晶界清晰。     

太阳电池用CuInS2薄膜电沉积工艺的研究进展

介绍了太阳电池用CuInS2薄膜一步共沉积法和分步电沉积法的工艺特点,重点讨论了一步法共沉积CuInS2薄膜的工艺因素,包括电解液的组成(如主盐浓度、络合剂、添加剂和附加盐等)、电沉积工艺规范(如沉积电位、温度、热处理等)等方面.并详细地分析了这些因素对电沉积CuInS2薄膜性能的影响,据此提出了目前实验室研究中存在的...     

电化学沉积法制备氧化锌薄膜及性能研究

以硝酸锌为原料,CTAB和硝酸钾为电沉积添加剂,以导电石墨板为对电极,采用方波电位沉积的方法在氧化锡铟（ITO）导电玻璃基底上制备出透明的ZnO薄膜,采用X射线衍射、原子力显微镜和光学透过谱等技术对不同沉积条件下薄膜的结晶特性、表面形貌、光学性质等进行了研究,结果表明,应用方波电位法制备氧化锌薄膜的优化条件为：沉积时间6min、Zn（N03）2、浓度0．05mol／L、沉积温度为80℃、退火温度500℃。制备的ZnO薄膜在可见光范围内的平均透光率〉85％,且表面平整度高,晶粒尺寸较小。     

脉冲电沉积制备Fe-Pd合金薄膜

采用脉冲电沉积方法制备了Fe-Pd形状记忆合金薄膜。通过采用配位化学的方法并控制溶液pH值配制得到一系列稳定的Fe2+-Pd2+溶液,实验证实合适的配位剂可以有效减小Fe2+-Pd2+两种金属离子的还原电极电位,使得溶液体系能够长时间稳定并可顺利实现两种金属的共沉积。实验发现电流密度的减小会导致合金镀层中Pd含量的上升,同时提高溶液中Pd2+比例也有助于增加Pd在合金镀层中的含量。不同的阴极材料也会使得合金镀层中Pd含量随之变化同时影响镀层的形貌与质量。     

周期换向脉冲电沉积-硒化法制备铜铟镓硒薄膜

采用周期换向脉冲电沉积法于Mo/玻璃及ITO/玻璃衬底上制备铜铟镓硒薄膜。Mo/玻璃或ITO/玻璃为工作电极,饱和甘汞(SCE)为参比电极,大面积铂片作为阳极构成三电极体系,以氯化铜,三氯化铟,三氯化镓和亚硒酸的水溶液为电解液,制备Cu-In-Ga-Se合金预制膜,随后在硒蒸气中进行硒化处理,得到了黄铜矿结构的CuInGaSe2(CIGS)薄膜.分别用SEM,XRD和UV-吸收分析了合金预制膜和CuInGaSe2薄膜的表面形貌、相组成及紫外-可见吸收特性。结果表明,周期换向脉冲电沉积法可以制备表面平整、均匀致密的Cu-In-Ga-Se合金薄膜;利用脉冲电压的占空比可以提高预制膜中的In元素的比例,且随着In含量的增加,CIGS薄膜的结晶性变好;适当延长硒化退火的时间,可以使薄膜晶粒大小均匀,减小内应力,使薄膜的光吸收率提高,以利于制备更高效率的CIGS薄膜太阳电池.     

电沉积制备CIS薄膜太阳能电池材料

电沉积法制备CIS薄膜因具有可实现大面积制备,成本低,制备效率高以及污染小等优点而得到了重点研究,是最有应用前途的薄膜太阳能电池材料之一.概述了电沉积制备CIS薄膜太阳能电池材料的原理、制备工艺,同时介绍了CuInSe2薄膜太阳能电池材料的发展概况.     

CdxTe薄膜的共蒸发法制备及其表征

采用CdTe和Te双源共蒸发的方法, 调控CdTe和Te源的蒸发速率, 首次制备出一系列不同x组分的Cd_xTe二元化合物薄膜, 并在N₂气气氛下进行185℃退火处理。通过XRD、SEM、紫外-可见吸收光谱分析及暗电导率-温度关系对Cd_xTe薄膜的结构、形貌、光学和电学性质进行表征。紫外-可见吸收光谱分析表明, 不同x组分的Cd_xTe薄膜, 其禁带宽度可在0.99~1.46 eV之间变化, 随着x值从0.8减小到0.2, 吸收边向长波方向移动, 而且透过率也显著下降。XRD结果表明, x值小于0.6时, 刚沉积的Cd_xTe薄膜为非晶相; 随着x的值逐渐靠近1, 刚沉积的薄膜明显结晶, 沿CdTe(111)方向择优生长, 退火处理促使薄膜从非晶转变为多晶。Cd_xTe薄膜的导电类型为p型, 其暗电导率随温度的上升而增大, 当温度继续升高至临界点时, 薄膜暗电导率-温度关系出现反常。这些结果表明, Cd_xTe薄膜将有望用于CdTe薄膜太阳电池以拓展电池的长波光谱响应。     

溶胶-凝胶法制备MgxZn1-xO薄膜及性能研究

采用溶胶-凝胶法在石英玻璃片衬底上制备了Mg2+掺杂的ZnO(MgxZn1-xO)薄膜,研究了Mg2+掺杂对ZnO薄膜结构和紫外透过率的影响;在氧化物薄膜上真空蒸镀了Al叉指电极,制得紫外原型探测器件,测试了I-Ⅴ特性.结果表明,Mg2+掺杂后,MgxZn1-xO薄膜为纤锌矿结构,随着x值增加,晶格常数c逐渐减少,α逐渐增大,Mg2+掺杂抑制了(002)晶面的生长;紫外透过光谱表明,Mg2+掺杂后吸收边发生蓝移,可提高ZnO薄膜的禁带宽度;I-Ⅴ特性曲线表明,正向偏压下探测器的暗电流和光照电流随外加偏压呈线性增长,但光照电流与暗电流的差别较大.     

CoFe合金薄膜的制备及原子力表征

室温下采用射频磁控溅射技术在涤纶纺粘非织造布表面沉积钴铁(CoFe)合金薄膜.通过原子力显微镜(AFM)观察了CoFe合金薄膜在无纺织布表面沉积的微观结构,并较为系统地分析了溅射时间、溅射压强及溅射功率对CoFe合金薄膜微观结构的影响.结果表明,磁控溅射的工艺参数配置对CoFe合金薄膜表面形貌的影响很大,溅射时间的长短、溅射功率的大小对成膜的均匀性有很大影响,在一定的溅射压强(0.5Pa)时合金颗粒将会因团聚而急速增大.     

Growth and Characterization of YBCO Thin Films by Sequential Deposition and Annealing

A novel thin film growth procedure, sequential deposition and annealing (SDA), which contains the advantages of both in situ and ex situ procedures, was proposed. Y₁Ba₂Cu₃O_{7 – x} (YBCO) high temperature superconducting thin films were grown and characterized by the SDA procedure. Purely c-axis-oriented YBCO thin films with no foreign phases and other oriented grains were successfully prepared. The superconducting transition properties of SDA-grown YBCO thin films were measured by measurement of inductance and resistance. The inductance measurements gave a T _c ^onset of 85 K and a T _c of 5 K. The resistance measurements gave a T _c ^onset of 90 K and a T _c of 5 K. Atomic force microscopy studies showed that SDA-grown YBCO thin films had micrometer-size grains surrounded by many nanometer-size grains. The nanometer-size grains in SDA-grown YBCO thin films are responsible for degradation of superconducting transition properties.     

ZnO薄膜气相法制备

ZnO薄膜具有压电、光电、压敏、气敏、发光等多种特性,应用十分广泛。介绍了ZnO薄膜气相法制备原理中的各类主要方法,包括脉冲激光沉积、磁控溅射、分子束外延、金属有机化合物化学气相沉积、单源化学气相沉积和等离子体增强化学气相沉积等技术;分析了这些方法的优缺点;展望了ZnO薄膜今后的研究方向。     

氮掺杂氟化非晶碳薄膜光学性质的研究

用射频等离子体增强化学气相沉积(RF-PECVD)法制备氮掺杂氟化非晶碳(a-C:F:N)薄膜.用紫外-可见分光光谱仪、椭偏仪、傅立叶变换红外光谱仪对薄膜进行了检测.结果表明:随源气体中氮气含量的增加,光学带隙先减小后升高,折射率变化情况与之相反.在其它条件相同的情况下,升高沉积温度使得薄膜的光学带隙和折射率降低.光学带隙的大小与sp2键含量密切相关,sp2键浓度越大,薄膜的光学带隙越小.     

氟化非晶碳(a-C:F)薄膜的研究

氟化非晶碳(a-C：F)薄膜是一种电、光学新材料。介绍了它的制备方法,对其制备工艺作了较全面的探讨;分析了该膜制备方法和工艺参数对薄膜组分及化学键结构的影响;研完了该膜的电学、光学、热学、力学等物理性质及其在相关方面的应用,并对该膜的物理性质与制备工艺参数的关联作了详细的论述;指出介电常数和热稳定性的矛盾是阻碍该膜实用化的主要原因。     

TiO2薄膜的液相沉积法制备及其性能表征

采用液相沉积法（LPD）制备了透明TiO2薄膜,并研究了所制薄膜的形貌、结构和在紫外光照射下亲水性能的变化．结果表明,用此法制得的TiO₂薄膜较为均匀致密,热处理前后的薄膜具有相似的亲水性能,在紫外光照射下亲水性能都有提高．热处理后的薄膜在紫外光照射一定时间后可与水完全润湿．     

Cu2O薄膜的制备方法

氧化亚铜（Cu2O）薄膜在太阳能电池及其它光电器件上有重要应用,它具有无毒、制备成本低、材料广泛易得等优点。制备Cu2O薄膜的方法主要有热蒸发、溅射、化学气相沉积和电化学沉积等,本文对Cu2O薄膜的制备方法进行了综述与展望。