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相似文献
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1.
SnO_2-Sb薄膜材料的制备及气敏性能   总被引:3,自引:0,他引:3  
利用等离子体化学气相沉积法制备了SnO2-Sb导电薄膜,测试了SnO2-Sb的气敏效应。结果表明,该薄膜对NO2气体有较好的气敏特性。当测试温度升高,其气敏响应时间相差无几,但恢复时间变短,同时气敏灵敏度相对提高,当温度达到200℃以上时,灵敏度基本恒定。同时还可看出,不同阻值的薄膜其气敏灵敏度相差不大。  相似文献   

2.
Fe2O3:SnO2薄膜的气敏透射光学特性   总被引:1,自引:0,他引:1  
梁振斌  郑顺镟 《激光杂志》1997,18(3):23-26,36
用溶胶--凝胶法制备Fe2O3:SnO2薄膜,研究了它的气敏透射光学特性,分析了实验结果,并解析了气敏光学透射机理。  相似文献   

3.
气敏器件用SnO_2薄膜材料   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用溶胶-凝胶法以SnCl2·H2O和ZrOCl2·8H2O为原料,制备出性能优良的纳米SnO2薄膜材料。用X射线衍射仪分析了晶相,TEM分析了微观结构。研究了掺杂、处理温度等对其性能的影响。在此基础上制作了SnO2薄膜气敏器件,并检测了其气敏特性。  相似文献   

4.
本文研究了用溶胶凝胶法制作二维SnO2;TiO2混合薄膜并测量了它在氨气氛中的气敏透射谱,发现对低浓度委组最佳灵敏区显示出对二维薄膜厚度的依从性。利用这些现象可制成对低浓度敏感且有气体选择性的气敏传感器件。  相似文献   

5.
对镀Pt的Fe2O3/SnO2双层气敏薄膜进行了SEM和XPS分析,表明贵金属表面修饰技术对敏感薄膜的改性作用。对制成的元件进行了测量,证实了表面技术对敏感薄膜的灵敏度,选择性及稳定系数等主要性能指标都有一定程度的改善。  相似文献   

6.
以SnCl4·5H2O,FeCl3·6H2O及无水乙醇为主要原料,采用溶胶凝胶法制备了SnO2∶Fe2O3混合薄膜,测量并研究了其在可见光区附近的丙酮气敏反射光谱。  相似文献   

7.
利用溶胶-凝胶法合成出纳米晶SnO2薄膜,该薄膜可以利用化学腐蚀方法光刻腐蚀,因此采用传统硅平面工艺可以制作出纳米晶SnO2薄膜栅FET式气敏元件,实现了制备纳米晶材料的溶胶-凝胶工艺与硅平面工艺的兼容。对器件的测试结果表明,纳米晶SnO2薄膜栅FET式气敏元件可以在常温下工作,元件的漏电流在乙醇气体中减小,掺杂镧以后,漏电流变化幅度增大。  相似文献   

8.
分别用TEM、SEM分析了MOD-SnO_2粉末和薄膜,结果表明,根据热处理条件的不同,晶粒尺寸在几十纳米到微米之间;如果控制旋涂薄膜的厚度小于100nm,并进行陡然升温热处理,则簿膜光滑无裂纹;即使得到的SnO_2膜存在微裂纹,但是由于微裂纹形成的颈部尺寸比薄膜厚度大得多,故其气敏特性仍然应当由膜厚决定。  相似文献   

9.
本文用扫描电于己微镜(SEM)观察了ZnO/SnO2,SnO2/ZnOUPF的断面形貌,所研究的薄膜系采用直流气体放电活化反应蒸发沉积法制备。结果表明:用直流气体放电活化反应蒸发沉积法,通过二次蒸镀的方式所制备的双层超微粒子薄膜(UPF),膜层间具有明巳的扩散现象,由扩散所形成过渡层的形态与复合的方式有关。同时,对其气敏选择性机理进行了一定的探讨。  相似文献   

10.
采用SnCl4和O2为反应源,ArF准分子激光CVD生长SnO2薄膜,利用XRD、UVT、XPS研究了薄膜的组成和结构,实验表明SnO2薄膜属于四方晶系、金红石结构,薄膜的紫外可见光透射率大于90%,吸收边波长为355nm,禁带宽度为3.49eV。最后,对SnO2薄膜的反应机理进行了讨论  相似文献   

11.
反应溅射TiO_2薄膜   总被引:4,自引:0,他引:4  
王明利  范正修 《中国激光》1996,23(11):991-994
报道了反应溅射沉积TiO2薄膜,得到TiO2薄膜的特性如沉积速率、透射率、导电性能、吸收系数等与反应气体的流量、溅射功率有关。通过控制氧气的流量,得到具有良好导电性能和一定吸收的特殊性能的TiO2薄膜。  相似文献   

12.
TiO2薄膜的光触媒作用   总被引:4,自引:0,他引:4  
王尔镇 《光电技术》1998,39(4):1-7,10
本文介绍了TiO2薄膜的光触媒机理和特性以及TiO2薄膜的制造和应用。TiO2作为光触媒应用于照明光源和灯具等处,它可以净化空气杀菌、去除表面的污垢,减少了照明系统的污染,提高照明效率。  相似文献   

13.
采用非醇盐溶胶-凝胶工艺制得纳米微晶SnO2多孔薄膜,该法易于实现SnO2与多种添加剂的均匀掺杂。通过调整薄膜的微观结构使薄膜对C2H5OH和CO在最佳工作温度的灵敏度比调整前分别提高了3倍和14倍。  相似文献   

14.
利用C2H2/H2/SiH4混合单体等离子体聚合沉积在HDPE板表面制备薄膜,发现薄膜与HDPE粘接良好,H2使薄膜与基体附着性能提高但其沉积速率下降,而引入SiH4则使薄膜的耐磨性能有较大的提高。IR和XPS光谱表明:薄膜中含有较多的-OH,O-C,C-Si和Si-O基团,随着SiH4/H2的增加薄膜中的C/Si比可达1.222,说明产物的结构介于无机材料和有机物之间。  相似文献   

15.
Cr2O3二维薄膜的气敏光学特性研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
羊旺  陈凯  郑顺镟  郭斯淦 《激光杂志》1999,20(6):14-15,17
本文介绍了用溶胶凝胶法制轩Cr2O3二维薄膜的方法,并研究了其在乙醇蒸气中和氨蒸气的气敏透射光谱,发现其光学透过率随乙醇蒸气和氨蒸气浓度增加而显著地单调上升,敏感波段扩展到整个可见光区域。其气敏光学特性的灵敏度、单调性及可重复性均可满足光纤传感技术的要求,有望成为制造气敏光结传感器的新材料。本文变讨论了Cr2O3的气敏光学机理。  相似文献   

16.
纳米微晶SnO2薄膜的制备和光学性能的研究   总被引:5,自引:0,他引:5  
林殷茵  刘秦 《压电与声光》1998,20(4):263-266
以无机盐为原料制备得到纳米微晶SnO2薄膜。由透射比曲线计算发现,随热处理温度的升高,薄膜的折射率、消光系数均增大。研究表明,掺Ti的SnO2薄膜吸收边的跃迁属间接跃迁,随晶粒尺寸的减小,间接带宽增大。  相似文献   

17.
用于LCD的氧化铝阻挡层的射频反应溅射沉积及其特性   总被引:6,自引:0,他引:6  
用金属铝靶射频反应溅射制备了Al2O3薄膜,用作LCD基片玻璃的钠离子阻挡层。报道了射频溅射参数对薄膜沉积速率和折射率的影响。测试结果表明,所沉积的Al2O3薄膜满足LCD器件阻挡层的要求。  相似文献   

18.
薄膜亚微米CMOS/SOS工艺的开发及其器件的研制   总被引:2,自引:0,他引:2  
张兴  石涌泉 《电子学报》1995,23(8):24-28
本文较为详细地介绍了薄膜亚微米CMOS/SOS工艺技术的开发过程,薄膜亚微米CMOS/SOS工艺主要包括双固相外延,双层胶光刻形成亚微米细线条硅栅、H2-O2合成氧化薄栅氧化层以及快速退火等新的工艺技术,利用这套工艺成功地研制出了高性能薄膜来微米CMOS/SOS器件和门延迟时间仅为177ps的19级CMOS/SOS环形振荡器,与厚膜器件相比,薄膜全耗尺器件和电路的性能得到了明显的提高。  相似文献   

19.
Au掺杂TiO2/SiO2薄膜的光学非线性特性研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用溶胶-凝胶方法制备了Au掺杂的TiO2/SiO2复合薄膜(厚度约为1.0μm)。X-ray衍射分析表明,Au的颗粒镶嵌在TiO2/SiO2复合薄膜的玻璃网络中。谢乐公式计算给出Au的颗粒大小约为10nm。采用Z-Scan测量技术得此薄膜的光学非线性折射率为1.09×10-7esu。  相似文献   

20.
低压MOCVD法制备TiO2薄膜的研究   总被引:4,自引:0,他引:4  
以四异丙醇钛为原料,氧气作反应气体,高纯氮气作载气,采用低压MOCVD法在单晶Si基片上制备出了TiO2薄膜,研究了基片温度和氧气流量对TiO2薄膜沉积速率的影响,以及基片温度和退火温度对TiO2薄膜的结构的影响。采用X射线衍射和喇曼光谱对TiO2薄膜的结构进行分析,实验表明:基片温度在110℃~250℃时制备的TiO2薄膜是非晶态的,在350℃~500℃时制备的TiO2薄膜为锐钛矿和非晶态混杂结  相似文献   

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