软膜紫外光固化纳米压印中Amonil光刻胶的刻蚀参数优化(英文)

报道了反应离子刻蚀转移图形过程中对Amonil光刻胶的刻蚀参数优化的结果.利用软膜紫外光固化纳米压印技术,首先制备了线宽/间距均为200 nm的纳米光栅结构.然后采用反应离子刻蚀的方法去除残留的Amonil光刻胶.研究了不同的气体组成、射频功率、压强和气体流量对刻蚀形貌、表面粗糙度以及刻蚀速度的影响.在优化的工艺条件下,获得了理想的具有垂直侧壁形貌和较小表面粗糙度的纳米光栅阵列.结果表明,选择优化的刻蚀工艺参数,既能有效地改善图形转移的性能,同时也能提高所制备结构的光学应用特性.     

纳米热压印聚合物材料的研究进展

纳米压印是一种可以制造微纳结构的并行技术,具有成本低、生产效率高和设备简易的特点。文中从纳米热压印聚合物材料的角度对纳米热压印工艺进行了一个整体的描述。根据纳米热压印工艺的特点,阐述了聚合物的结构和性能对压印图案的影响。提出了成膜性能、热机械性能、流变性能、界面性能和抗刻蚀性能等热压印聚合物材料的性能指标。最后对纳米压印聚合物材料的发展趋势进行了分析与展望。     

纳米压印中聚合物界面行为的分子动力学

在纳米压印中,模具和聚合物之间的相互作用能对压()特征的图型转移质量有着重要影响,文中利用分子动力学分别选择聚二甲基硅氧烷(PDMS),聚乙烯(PE),聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)研究了他们和模具壁面之间在不同距离时,壁面和聚合物之间相互作用能的变化关系,并考虑聚合物填充过程中压强对模具壁面和聚合物之间相互作用的影响,...     

纳米压印的模拟方法研究进展

本文分别从模型构造和模拟方法上介绍了黏弹性牛顿流体模型、分子动力学模型、质点动力学模型和气泡挤压模型等四种模拟方法。并基于有限元分析方法借助于ANSYS Workbench软件对纳米压印过程中二维的胶体流动变形过程进行模拟分析。胶体在进行流动变形时,采用Mooney-Rivlin模型表征胶体的机械性能,并使用非线性超弹性材料模型进行建模求解。     

气囊气缸式真空紫外纳米压印设备研制

本文介绍了紫外纳米压印技术原理,以及工艺中模板与基片的平行度对压印质量的影响.研制了气囊气缸式真空紫外纳米压印设备,其通过气囊气缸使模板与基片平行,从而可在大面积基片上确保压力均匀.研制了相应的光学系统,着重讨论了如何实现紫外纳米压印以及光学系统的设计和调整.制备了石英玻璃模板,实现了在商用紫外固化聚合物OG154上的紫外纳米压印,转移复制了具有100rim特征的5cmx5cm面积的纳米结构图形.     

纳米压印光刻技术及其发展现状

纳米压印光刻技术的研究始于普林斯顿大学纳米结构实验室Stephen Y．Chou教授,是将一具有纳米图案的模版以机械力（高温、高压）在涂有高分子材料的硅基板上等比例压印复制纳米图案,其加工分辨力只与模版图案的尺寸有关,而不受光学光刻的最短曝光波长的物理限制。目前NIL技术已经可以制作线宽在5nm以下的图案。由于省去了光学光刻掩模版和使用光学成像设备的成本,因此NIL技术具有低成本、高产出的经济优势。此外,NIL技术可应用的范围相当广泛,涵盖纳米电子元件、生物或化学的硅片实验室、微流道装置（微混合器、微反应器）、超高存储密度磁盘、微光学元件等领域。     

低压压印制备硅点阵结构的工艺研究

高密度、图形规则的硅点阵结构由于其独特的光电性能具有广泛的应用前景.本文介绍了一种以低压压印结合反应离子刻蚀制备硅点阵的方法,即利用PDMS模板通过压印复制获得PMMA掩模结构,用反应离子刻蚀在硅片表面制得高度有序的硅纳米点阵结构.实验和有限元模拟结果表明,低压压印因为毛细作用下光刻胶在模板内的充分填充可以获得良好的图形复制精度和较小的残余胶厚度,因此适于大面积高密度光刻胶结构的均匀复制.     

汕头金兰推出紫外光压印转移生产线

汕头市金兰包装机械厂是专业生产印刷包装机械的股份制企业，紫外光压印转移生产线是由其自行研制开发的高新技术产品，是印刷品美化外观和防伪的独特新工艺设备。该装备工艺先进，技术领先，得到英国皇家包装学院高级教授并兼职欧洲包装技术协会副会长Alec Alden先生的高度赞誉：     

卷对卷纳米压印脱模过程的有限元模拟

本文提出卷对卷纳米压印脱模的两种形式并分析了脱模过程中的阻力.选取垂直于光栅形微结构的截面作为研究对象,忽略脱模过程中旋转角度的影响,将模板上微结构当作竖直平移脱离胶层的方式来处理,利用ANSYS有限元软件模拟了卷对卷脱模过程中不同位置的变形和等效应力分布.结果显示脱模过程中出现两处应力集中,且应力集中处的最大应力在脱模刚发生时出现波动,随后逐渐增大.     

压印成型条件对微透镜结构影响的模拟

利用Polyflow模拟热压印中微结构的充模过程,并以微透镜为例研究了在热压印中高分子材料在微结构充模时,压印温度、压力、速度、孔的大小、基片厚度等物理量变化对微透镜成型结构的影响规律。模拟结果表明,微透镜在成型初期,不同位置的曲率半径不同;随着压印过程的进行,各个位置的曲率半径逐渐减小最终趋于一致;压印速度越快,压印成型时间越短;多孔压印比单孔压印所需的时间要长;同时减小孔间距,孔周围流体速度增加,将影响微透镜成型的均匀性;增加基片厚度对曲率的减小影响甚微,靠增加基片厚度缩短成型时间的效果不太明显。     

Direct Imprinting of Quasi-3D Nanophotonic Structures into Colloidal Quantum-Dot Devices

Three-dimensional (3D) subwavelength nanostructures have emerged and triggered tremendous excitement because of their advantages over the two-dimensional (2D) counterparts in fields of plasmonics, photonic crystals, and metamaterials. However, the fabrication and integration of 3D nanophotonic structures with colloidal quantum dots (CQDs) faces several technological obstacles, as conventional lithographic and etching techniques may affect the surface chemistry of colloidal nanomaterials. Here, the direct fabrication of functional quasi-3D nanophotonic structures into CQD films is demonstrated by one-step imprinting with well-controlled precision in both vertical and lateral directions. To showcase the potential of this technique, diffraction gratings, bilayer wire-grid polarizers, and resonant metal mesh long-pass filters are imprinted on CQD films without degrading the optical and electrical properties of CQD. Furthermore, a dual-diode CQD detector into an unprecedented mid-wave infrared two-channel polarization detector is functionalized by embedding an imprinted bilayer wire-grid polarizer within the CQDs. The results show that this approach offers a feasible pathway to combine quasi-3D nanostructures with colloidal materials-based optoelectronics and access a new level of light manipulation.     

基于同步辐射光刻的多层微纳结构制造

高分子材料,如甲基丙烯酸甲酯（polymethyl methacrylate,PMMA）,由于其价格相对低廉和容易加工,在集成电路和MEMS研究中受到广泛的关注．本文提出了一种基于PMMA基板的多层同步辐射光刻技术,用于制作微驱动器等有移动部件的设备．设计的多层结构包括140个单元的叉指平行电容器,每个电容器的间隔是2μm,最小尺寸是4μm,厚度是200μm,故深宽比达到50：1．该制造方法具有高深宽比、高产出率及成本低等优点．