聚焦离子束技术制造金刚石切削刀具的研究

概述了基于聚焦离子束（Focused Ion Beam,FIB）加工技术制备金刚石切削刀具的相关研究进展,并介绍了金刚石刀具在超精密加工领域的研究背景及其制造现状。作为一种先进的微纳制造技术,聚焦离子束已在微尺度金刚石刀具制造研究中发挥了重要作用。针对金刚石刀具的刃口半径、刃形精度等核心参数,国内外相关研究者开展了聚焦离子束制造方法与工艺优化研究,实现了高质量刀具的制造,聚焦离子束加工可获得刃口半径为15～22nm的金刚石刀具制造。从微观切削基础和微纳光学元件制造两个角度,论述了聚焦离子束制造金刚石刀具的应用研究进展,介绍了其在纳米切削机理、微纳尺度光学元件制造中的应用。最后从提高FIB制造效率、应用研究拓展等角度,对该领域未来的发展进行了展望。     

一个可在芯片上准确安放纳米线的装置

美国国家标准和技术研究所（NIST）发明了一种可在半导体芯片上操纵并准确放置单个纳米线的装置。该技术可用于制造高级的测试装置用于借助光学显微镜对纳米线的特性进行调控和常用的光刻操作,其效果优于一些先进的器械,例如聚焦电子束或离子束。     

聚焦离子束系统在微米/纳米加工技术中的应用

聚焦离子束系统是微细加工和分析的主要技术之一,是一个完美的微米/纳米技术研究平台.简述了聚焦离子束系统的组成和主要功能,着重介绍了近年来该技术在离子束刻蚀、反应离子束刻蚀、离子束辅助沉积、离子注入、微区分析、掺杂和成像以及无掩膜曝光等微米/纳米加工领域的应用,并对未来的发展前景进行了简要分析.     

位错三维表征技术

位错的三维表征是准确认识位错特性和行为的基础.综述了基于同步辐射X射线、聚焦离子束-电子通道衬度成像系统和透射电子显微镜的位错三维重构方法,重点介绍了基于透射电子显微镜的原子分辨率位错三维重构、体视学原理位错三维重构和系列倾转位错三维重构方法的技术原理和应用实例,对比讨论了上述技术在分辨率、定量表征和参量信息耦合能力方...     

美透射电子显微镜分辨达0.7埃

美国FEI公司宣布,该公司利用新型200千伏透射电子显微镜(TEM),使图像的分辨率达到低于1埃的新水平。这一纳米级研究技术上的突破,使科学家可以用低于1埃的图像分辨率来研究温度、应力和化学环境微小变化对材料产生的影响。在纳     

离子束改性先进陶瓷薄膜结构与力学性能的研究现状

离子束改性技术在先进陶瓷材料方面的应用效果突出。在阐述离子束改性原理的基础上,综述了该技术在先进陶瓷薄膜材料微观结构与组织,力学性能和摩擦学性能方面的应用。离子束改性是一种高能高效的掺杂改性手段,在辅助制备高质量薄膜、改善薄膜力学和摩擦力学方面有着显著的优势。深入了解离子束与薄膜原子的作用机制,精确调配薄膜的微观结构和组成,降低成膜质量的不确定性,是未来离子束改性先进陶瓷薄膜的研究重点。     

济南大学材料科学与工程学院实验中心

实验中心建筑面积5700m^2，下设透射电子显微镜（日本电子，JEM-2010），原子力显微镜（美国维易科，Nano-Cope IV）、扫描电子显微镜（日本日立，S-2500）、X-射线衍射仪（德国布鲁克，D8）、激光粒度仪（美国贝克曼，S13320）、     

纳米测量仪器和纳米加工技术

纳米科技是当今国际上的一个热点。文章对纳米科技作了简要介绍, 纳米测量和加工是纳米科技中的一个不可缺少的重要组成部分。叙述了发展纳米测量和纳米加工技术的两个主要途径：一是发展传统技术，主要是电子显微术以及最近发展起来的聚焦离子束（FIB）- 电子束数控加工中心；二是创造新的测量仪器，建立新原理和新方法，介绍了国内外电子显微镜和扫描探针显微镜这两类纳米测量分析仪器的发展、应用和生产现状。指出我国电子显微仪器和扫描探针显微镜的开发和生产面临困境，应尽快建立和加强自己的电子显微仪器和扫描探针显微镜等纳米测量和纳米加工设备制造产业，并列入国家科技发展规划。     

美发明新型离子束聚焦系统

美国科学家发明了一种能同时聚焦离子束(通常为带正电荷的阳离子)和电子束的新系统，将离子束技术的运用范围和效率又向前推进了一步。聚焦的离子束在半导体行业有着重要作用，可用来切割纳米级结构，对光刻技术中的屏蔽板进行修补，分离和分析集成电路的各个元件，激活由特殊原子组成的材料，使其具有导电性等等。     

美国在未来产业的行动及标准化研究

2021年1月,美国新一任总统拜登就任后,出台了针对经济贸易、科学技术的新行政命令,以及对华策略的政策法案。其中,包括人工智能（AI）,量子信息科学（QIS）,先进通信（5G）,先进制造,生物技术等新兴技术范畴的未来产业是拜登政府的重点发展方向。美国通过促进制造业和供应链的发展,提振未来产业,视中国为主要竞争对手,并通过巩固盟友加强产业合作,推动未来产业标准化的发展。同时,通过不断加强政府领导力、高度重视人才与资金、以及在国际标准舞台抢占话语权,促进美国未来产业标准化发展。本文聚焦美国拜登总统上台后在未来产业布局中的重点行动举措,总结其在标准化领域的特点及影响,从而为我国未来产业领域的标准化发展提供思路。     

聚焦离子束在二维多孔Si/Al2O3/SiC薄膜透射电镜截面微观结构表征中的应用

二维多孔Si/Al₂O₃/SiC薄膜材料的透射电镜截面微观结构表征中，存在薄膜易脱落、脆性大、耐磨性差，以及选区制备难度大、制样效率低、成功率低等问题。采用聚焦离子束技术，成功地进行了二维多孔Si/Al₂O₃/SiC薄膜的透射电镜截面微观形貌的表征。结果表明，聚焦离子束技术是一种可以有效减少二维多孔薄膜样品制备过程中的损伤，进行高质量进行透射电镜截面微观结构表征的方法。     

FIB／SEM双束系统在微纳加工与表征中的应用

简要回顾了聚焦离子束／扫描电子显微镜双束系统在国家纳米科学中心的应用。围绕透射电镜样品制备、扫描电子显微镜与扫描离子显微镜、纳米材料的二维与三维表征等材料表征,以及离子束直接刻蚀加工如光子晶体阵列器件原型加下、材料沉积加工如用于电学性能测试的四电极制作、指定点加工如原子力显微镜针尖修饰、三维加工、电子束曝光及其与聚焦离子束联合加工等纳米结构加工两方面,以一些具体实例分类进行了介绍。针对限制其应用的一些不利因素,如加工效率低、面积小、精度不足、加工损伤等问题,一些新技术如新型离子源Plasma、He^＋／Ne^＋离子等与现有Ga^＋聚焦离子束系统配合将成为未来发展方向。     

聚焦离子束(FIB)刻蚀在光电子器件方面的应用

聚焦离子束无掩模微细加工技术逐渐引起人们的兴趣，它包括聚焦离子束无掩模刻蚀、注入、往积、光刻等。聚焦离子束刻蚀能在半导体激光器材料上加工得到具有光学精度的表面。首先论述聚焦离子束刻蚀的特点，然后概括说明目前它在光电子器件方面的若干应用。     

离子束辅助沉积碲化铅薄膜的AFM研究

利用原子力显微镜（AFM）研究了离子束辅助沉积碲化铅（Pblle）薄膜的微观结构和表面形貌。结果表明,传统热蒸发方法制备的碲化铅薄膜呈现出明显的柱状结构,离子束轰击可以显著改变薄膜的微观结构,导致柱状结构的逐渐消失和晶粒的长大。     

安捷伦科技有限公司

安捷伦科技致力于为您提供最先进的、适用于多种学科,且可以进行交互平台操作的测量技术和仪器,特别是高精度、模块化的扫描探针显微镜（SPM）和原子力显微镜（AFM）,用于高精度表征纳米力学表征的纳米压痕仪或纳米力学试验机（UTM）,以及最新推出的功能强大、体积小巧的低电压场发射扫描电子显微镜（FE-SEM）。     

碳纳米管镀铜薄膜的抗菌性研究

本文用离子束辅助沉积（mAD）方法在碳纳米管薄膜表面制备铜薄膜。用琼脂平板法测试了抗菌率，测试菌种为革兰氏阴性大肠杆菌（E．coil）和革兰氏阳性金黄色葡萄球菌（S．aureus）；用扫描电子显微镜（SEM）观测了镀铜碳纳米管薄膜的微观形貌；用能量散射X射线谱（EDX）分析了镀铜碳纳米管薄膜表面元素的原子百分比；用X射线光电子能谱（XPS）分析了镀铜碳纳米管薄膜的表面元素的价态。研究结果表明，镀铜膜碳纳米管薄膜具有优良的抗菌性能，且比在热解碳上镀铜膜样品的抗菌性强。     

液态金属离子源静电透镜离子枪的实验研究

液态金属离子源（LMIS）的亚微米聚焦离子束（FIB）在现代分析技术和微细加工等领域有很多应用。介绍一种计算机控制的快速、灵活、准确的束斑测量方法；并报导用这种方法对采用Orloff—Swanson静电透镜离子枪的FIB性能的研究结果，包括源尖对中对束斑的影响、各电极电位对束斑的影响及束斑与束流的关系等。通过仔细的源尖位置调节，在束能13keV，束流1．0nA时，FIB束斑在亚微米范围。     

聚焦离子束（FIB）及其应用

简单介绍了聚焦离子束（FIB）的历史和工作原理,以及将离子束和电子束合为一体的双束系统。具体讨论了双束系统上的主要功能,如离子束镜筒、气体注入系统（GIS）、超高分辨率的扫描电镜镜简及将离子束和电子束合为一体的独特优势。例举了双束系统的一系列应用,如制作纳米图形用的多种加工方法,气体注入系统在制作纳米图形中的应用,透射电镜及原子探针的样品制备,三维形貌表征,三维能谱成分表征,三维EBSD晶体位相表征和电路修补。详细介绍了这些相关应用的发展现状及特点,比较了各种应用的优缺点。文章还介绍了在中国科研领域双束系统的应用状况及中国科研工作者利用双束系统获得的重要成果。     

应用高能离子束注入法制备超硬表面聚合物材料———为纪念仪表材料学会成立20周年而作

关于高分子材料的表面处理,方法不少。主要包括：等离子体法、电晕放电法、放射线处理法和离子束注入法等。其中,离子束注入法较为引人注目。该法就是将所添加的粒子在高真空中（１×１０－４Ｐａ）离子化,然后将之加速到几十ｋｅＶ到几ＭｅＶ。再通过辐照固体基材以达到表面改性的目的。这是在用离子束进行表面改性技术中能量利用率最高的方法。离子束对材料的改性早已应用于国防领域的空间技术、核聚变、反应堆、生物技术、光电技术、半导体及微电子技术等方面。而对高分子材料的改性则起始于１９８３年,美国贝尔研究所的ＴＶｅｎｋａ…     

Scios^TM扫描电子显微镜

生产单位：FEI COMPANY 型号：Scios^TM 功能特点：超高分辨率成像和高吞吐量的2D和3D的分析性能。