论釉的形成过程和某些长石质瓷釉缺陷的根源

一、前言日用瓷的质量常因制造工艺过程所引起的釉面缺陷受到损害。最常见的缺陷是针孔和秃釉(epoxsed body),二者不是归因于制坯或釉的操作不当,就是归因于釉料球磨过细。甚至在适中放大倍数的显微镜下,几乎     

当前高温瓷釉技术的某些新进展

本对近10年来高温瓷釉技术的新进展作了较系统的回顾。叙述了高温瓷釉的基本性能和要求,介绍了国内外有关产品的分析、比较,特别是介绍了前苏联在制釉上的新思路。本最后着重指出,瓷釉的形成是复杂的,而其所产生的变色、气泡、飞釉、失光和炸裂等缺陷也都是千变万化的,很难用1、2条原则或原因说清楚,必须勇于实践、加强基础理论研究、逐步积累,从而最终掌握它。     

长石质日用瓷的烧成温度对胎釉显微结构及其基本性能的影响

本文研究了不同烧成温度对同一坯、釉配方试样的显微结构及其基本性能的影响。试验证明,当烧成温度达到1210℃以后,继续升高温度(但不过烧)胎层中的莫来石含量有所增加,且存在于胎层中的莫来石有一次鳞片状和二次针状的两种形态;釉层中的气泡随着温度升高,由小变大,气泡个数由多变少。气泡小,气泡顶至釉表层距离越大者,其釉面光泽度越好;釉面的白度随着温度升高稍有降低;瓷胎的透光度则随温度升高相应提高;胎、釉的线膨胀系数(20～900℃),随着试样温度升高,都有所降低,但釉的降低比胎更为显著。     

浅谈釉面砖淋釉缺陷及预防措施

随着陶瓷行业的迅速发展,釉面砖产品得到市场的认可,其图案多样、花纹多彩、防渗、防滑、不怕脏等优点深受消费者的青睐,釉面砖耐磨度差的缺点也在今年流行的晶刚釉产品上得到重大改善。釉面砖发展至今,施釉方式主要为效果釉用甩釉的方式;普通仿古砖用喷釉的方式;全抛釉、晶刚釉以及东鹏陶瓷原创新品3D原石都是采用钟罩淋釉。本文主要探讨全抛釉产品钟罩淋釉容易产生的缺陷的解决方法和预防措施。     

淋釉常见缺陷及解决措施

本文通过对釉面砖淋釉时常见的凹釉、针孔、釉屎、砖面白点和淋釉不均等缺陷进行总结,通过分析找出产生缺陷的原因,并根据产生原因提出了相应的解决措施。实施相关的控制措施后,淋釉缺陷明显减少。     

天然硼钙石质低温生料透明釉的研制

以天然矿物硼钙石、钾长石、龙岩高岭、萍乡石英、广西滑石和ZnO、BaCO3为原料,采用普通陶瓷工艺,制备了透明度好,光泽度高且性能稳定的低温无铅无熔块生料透明釉。通过研究烧成温度对釉面性能的影响,得出了釉的最佳烧成温度为1100℃,保温30min。同时,研究了硼钙石含量对釉面性能的影响,发现随着硼钙石含量的增多,釉面析出白色晶体。当加入的硼钙石所对应的B2O3含量为0.1634mol时,此时获得的无铅无熔块生料透明釉透明度最高。     

克服卫生瓷釉面缺陷的点滴体会

结合试验分析了锆乳浊釉乳浊效果差及卫生瓷产品边角遮盖不足问题的产生原因,讨论了各种氧化物对乳浊釉高温粘度和乳浊效果的影响,提出了克服缺陷的措施。     

青瓷釉的缺陷分析和克服措施

青釉缺陷的产生,原因很多,牵涉面很广,几乎每一个工序操作不当都易产生缺陷,其常见的缺陷有以下几种,并逐项列举了缺陷产生的原因和克服办法,供提高配制青釉质量时参考。     

硅灰石质耐热亚光窑变釉的研制

以硅灰石为主要原料制作的亚光窑变釉,其釉面细腻、光泽柔和,烧成温度范围较宽,烧成性能稳定。硅灰石质亚光窑变釉性能优良,符合我国日用陶瓷产品国家标准规定的性能要求和美国FDA关于铅、镉溶出量的限定要求,能够用于日用陶瓷、工艺美术陶瓷产品的生产。     

硅灰石质耐热亚光窑变釉的研制

以硅灰石为主要原料制作的亚光窑变釉,其釉面细腻、光泽柔和,烧成温度范围较宽,烧成性能稳定。硅灰石质亚光窑变釉性能优良,符合我国日用陶瓷产品国家标准规定的性能要求和美国FDA关于铅、镉溶出量的限定要求,能够用于日用陶瓷、工艺美术陶瓷产品的生产。     

仿滑石瓷釉的研制——用于低温釉中彩装饰

根据仿滑石质瓷的特点,本试验探讨了不同熔剂和熔剂比例、工艺条件和烧成制度等因素对釉面效果的影响.最终研制出一种适应滑石瓷在900～1 200 ℃适合釉中彩装饰的Li2O-BaO-SrO-CaO-B2O3-SiO2系统低温熔块釉.     

糊精对装饰陶瓷釉和釉下彩的影响

糊精作为色浆性能的调节剂而应用于装饰陶瓷工业中,若其引入量控制不当,则会影响产品的表面质量。本文就糊精对釉和釉下彩的影响进行了研究,确定了其添加量范围。     

克服卫生瓷釉面缺陷的点滴体会

结合试验分析了锆乳浊釉乳浊效果差及隆重瓷产品边角遮盖不足问题的产生原因,讨论了各种氧化物对乳浊釉高温粘度和乳浊效果的影响,提出了克服缺陷的措施。     

分相艺术釉釉泡缺陷形成机理的探讨

论述了分相窑变釉形成的基本原理,分析了分相艺术釉针孔和釉泡形成的原因,得出了除烧成温度太高或太低、素烧坯不到位、坯体挥发所致之外,还有一种新的可能,那就是SiC的落渣所致的结论。     

克服釉疤缺陷的措施

分析了釉疤产生的原因 ,从原料、成形到烧成按工序提出了解决釉疤缺陷的方法     

鱼盘釉惊缺陷的原因

我厂去年注浆产品12吋鱼盘曾出现大量釉惊缺陷,9月占9.76％,10月占12.0％。经采取措施降到2％以下。下面谈点看法。一、釉惊缺陷的分析与调查 12吋鱼盘釉惊缺陷反映在产品的端部有小裂纹,裂纹宽度小于注浆口的宽度。裂纹的数量1～10道,3道以上占大多数。裂纹     

快速彩烧的釉缺陷

在瓷器制造业出现了一种新的釉缺陷,该缺陷在釉中彩快烧后随即显露出来,且以釉泡形式显露于釉面之上。在此之前的试验揭示了造成此缺陷的原因并非在于彩烧工序本身,而是与釉烧工序紧密关联,故笔者以多种烧成条件进行了釉烧试验,以求找出该缺陷之成因。除改变温度制度和烧成气氛外,亦使用了不同的釉,并对花纸的影响进行了研究。结果表明:在还原烧成条件下玻璃相、坯体以及釉对氮的吸收,连同因釉中石英溶解不充分而导致的方石英残骸的存在为釉泡形成之原因。预烧时延长氧化期以及避免烧成周期过短均可减少缺陷的发生。     

克服釉疤缺陷的措施

分析了釉疤产生的原因,从原料、形成到烧成按工序提出了解决釉疤缺陷的方法。