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DMF中脉冲电沉积Nd—Co合金膜 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了室温下在含有少量水的NdCl3-CoCl2DMF溶液中Nd-Co功能合金膜的电沉积。应用脉冲电镀制备出不同质量的合金膜。试验结果表明:D 0.45mol/LNdCl3+0.05mol/LCoCl2+适量乙二胺的DMF电镀液中,控制脉电流密度为100-150A/m^2,可得到有金属光泽的灰色稀土合金膜。 相似文献
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张湘义 《理化检验(物理分册)》1995,31(2):28-29,44
对Fe73.5Cu1Mo3Si13.5B9微晶软磁合金的结构及其对合金磁性的影响了研究,结果表明,在最佳磁性能下,晶相点阵常数a=0.2843nm,相当于Fe(Si)固溶体中含Si%(mol/mol):18-20,体积百分数V=74.8%,晶粒尺寸D=14.6nm;残余非晶层厚度δ=1.23nm;当T退火≥560℃时明显有Fe-B化合物析出。Fe73.5Cu1Mo3Si13.5B9合金的磁性不仅与 相似文献
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