多极静电偏转器偏转场分布之解

文章推导了两种多极静电偏转器偏转场分布的统一、简单之解;采用有限差分法,计算了多极静偏器多种不同几何尺寸的富里埃函数系数和光轴电场强度分布等场参量,提出多极静电偏转器和平行板静电偏转器光轴电场强度分布的近似公式;讨论了多极静电偏转器偏转场分布的各种特点。     

多极静电偏转器获得均匀偏转场的方法

本文推导了两种类型的多极静电偏转器在无穷长情况下场分布的普遍解;提供了多极静电偏转器在光轴附近获得均匀偏转场的方法;计算了六种实用的多极静偏器,给出了有关公式和数据,分析了两种多极静偏器之间的联系和区别。     

电子束静电折板偏转系统研究

以SDS-3电子束曝光机为基础,用折板结构静电偏转替代直板结构静电偏转,探讨了电子束曝光机折板静电偏转场的电子轨迹与电位分布应满足的要求。导出了折板静电偏转灵敏度与电位分布之间的关系,给出静电偏转像差方程及像差系数。用矢量描写电子轨迹,以积分式表示像差系数,给出了折板结构方程与参量。像差系数适应计算机辅助运算。结果表明,折板结构静电偏完成的图像像差明显优于原直板结构静电偏。提供了静电折板偏转与直板偏转的相关计算数据及摩尔栅条纹图。     

多极静电偏转器偏转象差的简单计算方法

本文提出两种形式的多极静电偏转器偏转象差的简单计算方法。通过合理选择多极静偏器的调节参数,获得了在16个象差系数中只有9项积分运算的偏转象差系数公式。它们没有光轴电场强度分布的二阶导数,因而计算精度高。     

DY-2001A型纳米级电子束曝光机中静电偏转器的设计

基于纳米曝光要求和JSM-35CF型扫描电镜,设计了一组上下偏转器长度不一致的静电偏转器,使偏转灵敏度大大提高.采用二阶有限元法计算了八极静电偏转器的轴上场分布.高精度的场分布有利于高级像差.为了使系统的总体像差最小,结合具体电子光学系统,用最小二乘法对偏转器的激励强度、转角及其在系统中的位置进行优化,得到直至五级分量的像差.动态校正后,偏转场为80μm×80μm时,束斑分辨率约为3.2 am;偏转场大小为1 mm×1 mm时,束斑分辨率约为29.8 nm.结果表明,应用该组静电偏转器的电子光学系统的分辨率满足纳米曝光的要求.     

电阻盒式静电偏转器场分布和象差的简单计算公式

文章给出电阻盒式静电偏转器场分布和象差的简单计算公式。这种静偏器的场分布与选取合适“调节参数”的多极静偏器的场分布具有相同分布模式。经简化后,十六个象差系数公式只有九项积分运算,且没有光轴电场强度分布的二阶导数。给出光轴电场强度分布的近似公式,从而偏转场分布可以用解析表达式确定,象差系数的计算也更为方便、简单。     

三电极全静电摄像管

磁聚焦静电偏转和静电聚焦静电偏转型摄像管具有图像失真小，分辨率高且均匀，电子束易于垂直上靶，阴影小等优点，所以受到人们的重视，但图案偏转电极的形状复杂，非对称场的计算较困难，本文对静电偏转型聚焦偏转系统的结构作了分析研究，运用分离变量法给出了圆柱坐标中静电聚焦（旋转对称）场和静电偏转（非旋转对称）场的解析解，讨论了静电聚焦静电偏转型聚焦偏转系统设计中有关电子轨迹的计算方法，最后给出了计算实例和Ｉｉ     

具有光电偏转器的CRT

在ＣＲＴ内，沿阴极与屏间的电子束路径，存在着一个偏转系统。该系统至少有一个静电光电偏转器，它有一个对入射光辐射有响应的光电探测器。该探测器对光电偏转器产生电偏转场调节的电荷。光电偏转器具有两或三个电极，以便能够使产生与电荷在或不在同一空间。光电探测器可以是一个光电阴极或光电二极管。     

基于纳米晶材料的高频大范围偏转器研究

在电子束焊接、电子束增材制造等多种应用技术中,偏转器的性能直接影响着电子束的加工效率和质量,其中包括偏转器的偏转范围和高频性能.偏转场分布的均匀性、场强大小和响应速度是影响偏转器性能的关键,而磁偏转器的结构和材料是决定偏转场分布均匀性、场强大小和响应速度的主要因素.本文首先利用磁标位法对多极偏转器的场分布进行了理论分析...     

对静电花偏转系统摄象管的分析

为了研究静电偏转摄象管的电子束系统的特性,提出用分离变量法来计算具有扭向的多折箭型花偏转系统的偏转场。该场尽管是三维场,只要用 HITAC-M2000H 型计算机,一分钟内就能算完2000个点的场值,准确度可达10~(-3),并能给出偏转场的分布。此外,可在磁聚焦静电偏转(MS)系统中分析电子束的偏转象差。我们发现,只需用非均匀磁场就可实现 MS 束系统的良好性能,从而可见偏转象差和着靶误差强烈地依从于花偏转系统的扭向。     

Numerical computation of the deflection fields in magnetic yokes with wedged coil-sections and in electrostatic deflectors with planar electrodes

The computational methods of deflection fields in magnetic yokes with wedged coil-sections and electrostatic deflectors with planar electrodes are discussed. The magnetic yokes with wedged coil-sections can be combined into various shapes of magnetic deflectors, which may offer a variety of choices for adjusting the deflection field distributions to reduce the deflection aberrations more effectively. An advantage of the planar electrostatic deflectors is the simplicity in structure, which might allow the deflectors to be used in the deflection array of multi-electron beam lithography systems. Based on the methods described in this paper two computer programs have been developed. As examples, the deflection field distribution of some typical deflectors have been computed.     

带铁心任意形状偏转器磁场的计算

本文将文献[1]的分析方法推广到带铁心的偏转器,绕组形状可以是任意的,如子午绕组、非子午绕组、鞍形、环形或扇形等。对铁心与绕组之间有一定间隙的情况,提出了计算偏转场的一种新的表示式,并用高斯-切比雪夫积分式对积分方程离散求解。最后用COTY GE-14'彩显管偏转器的解剖数据验证。     

均匀静电场偏转系统的几何象差的计算

本文从电子在理想均匀静电场中的运动方程出发,推导出了三级几何象差的公式。所得结果不但可用来估算点束或成形束的畸变、象散、和场曲彗差量,而且可用来选择偏转器的初始尺寸和确定对中偏差所造成的影响。本文还指出了前人工作中存在的一些错误。     

平行板偏转系统的几何象差和优化设计

本文从理想均匀静电场偏转系统三级几何象差的公式出发,导出了由两对互相垂直的偏转板组成的平行平板偏转系统的三级几何象差公式。这些公式不但可用来快速估算偏转象差,还可用来作为校验数字计算程序的理论模型。从水平和垂直方向偏转象散和场曲的影响应相同这一要求出发,提出了一种优化设计方法。在给定偏转区总长度和两对偏转板之间的距离后,可以计算出每对偏转板的最佳长度。文中给出了设计数表,并比较了平行平板偏转系统和八极偏转系统的优缺点。     

电子束聚焦和偏转系统中动态修正的计算

在电子束聚焦和偏转系统中动态修正方法(即用场曲校正透镜和消象散器来消除偏转场曲和象散)可以相当显著地减小系统的总象差和提高系统的电子光学性能。本文讨论了动态修正的计算问题:包括场曲校正透镜和消象散器的工作原理;校正透镜和消象散器电磁场分布的计算;完全消除场曲和象散在校正透镜和消象散器上所加信号强度的计算;以及校正透镜和消象散器对畸变的影响。通过文章给出动态修正计算的实例可见动态修正对提高系统的电子光学性能起着很大的作用。     

电子束聚焦偏转系统中透镜和偏转器不对中装配误差效应的数值计算

本文讨论了透镜和偏转器在电子束系统中不对中装配造成的电子光学性质影响的数值计算问题,包括推导出不对中的透镜和偏转器在系统中的电磁场表示式,电子轨迹方程及象差积分式等。根据这些公式所编制的计算机程序已用来计算了若干个实例,从中可见不对中误差效应的数值计算对于设计和装配电子束聚焦偏转系统起到指导性的作用。     

不同几何结构电光偏转器比较研究

为了发展性能优良的电光偏转器,采用傍轴近似分析了级联棱镜电光偏转器的折射率梯度等效表达式,总结出了不同几何结构电光偏转器的偏转角和偏转轨迹公式,在此基础上比较研究了4种不同几何结构电光偏转器的偏转特性和偏转轨迹,比较分析了梯形、喇叭形和抛物线形几何结构电光偏转器的偏转灵敏度,为较大角度电光偏转系统的设计提供了有意义的参考。     

Analysis of electrostatic small-angle deflection

Electron beam aberrations resulting from deflection by two sets of similar, mutally perpendicular electrostatic deflectors have been studied. The analysis is applicable to the cases where the beam can be treated as a collection of noninteracting individual electrons deflected through a small angle by spatially smooth fields. The analysis shows that, with the types of electrostatic deflectors commonly used, anastigmatism cannot be achieved unless external corrections are employed.     

带屏蔽筒鞍形偏转线圈场参数的确定

本文讨论了用边界元法计算、分析带屏蔽简鞍形偏转线圈的场分布,分析了法伊(D.M.Fye,1979)模型应用的局限性。本文用马克劳林级数展开格林函数,给出了偏转线圈的场参数B0,B2,B4的解析表达式。文末用实例对计算结果与实测数据进行了比较。