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介绍了一种全自动去胶清洗设备的结构技术,主要从工艺槽体溶液均匀性实现等方面阐述槽体结构。经用户使用证明:该系统运行稳定可靠,工艺灵活,清洗工艺先进。适用150~300 mm晶圆片的去胶、腐蚀、清洗等工艺。 相似文献
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《电子科技文摘》2006,(12)
0632240阳离子型改性淀粉絮凝剂的制备及絮凝性能研究[刊,中]/吕荣湖//中国石油大学学报(自然科学版).- 2006.30(4).-118-122(E) 0632241先进封装技术的发展与机遇[刊,中]/高尚通//中国集成电路.-2006,15(10).-47-53(C) 0632242干刻清洗工艺在金属刻蚀去胶腔上的评价及应用[刊,中]/王倩//中国集成电路.-2006,15(10).-43-46 (C)本文以金属刻蚀去胶腔为背景,简述干刻清洗工艺开发和评价过程。针对实际应用中的问题,展开讨论。通过实际案例分析.展示了干刻清洗工艺的应用价值。参4 0632243硅的反应离子刻蚀工艺参数研究[刊,中]/葛益娴//南京师范大学学报(工程技术版).-2006,6(3).-79-82 (L)对硅的反应离子刻蚀(RIE)工艺参数进行了研 相似文献
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简述了集成电路制造中的湿法工艺,重点介绍了栅氧清洗、RCA清洗、去胶、氮化硅去除、氧化硅腐蚀等湿法工艺,并对槽式湿法设备的关键制造技术进行了讲解。 相似文献
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传统激光标刻技术已在实际工业生产中普遍应用,但其系统最优标刻性能控制参数存在寻找及设置较为困难、繁琐等问题。针对该问题,本文设计了一种基于嵌入式网络激光标刻模式的新型激光标刻控制模型,并在该模型下通过相关数据预处理算法分析单一标刻影响因素对激光标刻性能的影响;再通过对实验数据的数理统计分析得出二值图像的标刻性能变化规律,最终得出在该材质及类似组成工件下的激光标刻的最优参数快速选择模型和性能最优值域。研究结果表明,该模型为最优激光标刻性能控制参数的快速选择提供了可靠的方法,为进一步研究激光标刻性能影响参数提供了重要参考。 相似文献
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套刻精度是衡量分步重复投影光刻机的一项重要指标。套刻精度不仅取决于对准系统的对准精度,还受环境、工艺等因素的影响。提出了提高光刻机整机套刻精度的几种软件修正处理方法,通过工艺实验和考核,取得了比较满意的结果,证明了这些方法的可行性。 相似文献
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相位噪声是振荡器的重要性能指标。近年来,研究人员在振荡器相位噪声表征方面已经做了大量的工作,在这些过程中开发出了很多不同类型的振荡器相位噪声模型。但是在这些模型中,都没有分析缓冲器噪声对振荡器相位噪声的影响。而在研究课题中,首先要对缓冲器噪声的功率谱密度函数进行数学建模,并易于将这个模型嵌入到相位噪声的非线性扰动分析模型,这样就得到了含有缓冲器噪声的振荡器相位噪声模型。 相似文献
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空间数据库多源数据融合问题是地理信息系统实际应用中的一项关键技术。在分析了电信数据源的特点之后 ,着重讨论了多源数据融合的几个关键问题。 相似文献
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本文介绍一种新型电动自行车充电器,它具有自动断电功能。当蓄电池充电完成后电量检测电路输出电压控制断电电路,断电电路动作,自动关断充电器输入的交流电源。经测试,设计的充电器的断电电路反应速度快、性能稳定、可靠。该充电器成本低,能节约电能,具有实用价值。 相似文献
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本文介绍电子元器件失效分析的方法及其作用,以具体的案例阐述了元器件失效分析在整机可靠性提高中,在界定元器件缺陷及元器件使用不当中的作用。 相似文献
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计算机网络技术的发展,给人们带来了许多方便,同时也带来了严峻的网络信息安全问题。以ASP和A-DO技术组合开发的线上考试系统为例,分析了系统存在的安全权限问题,并对此提出一种解决方法。 相似文献