基于稳健设计的注塑成型工艺参数多目标优化

以某医用仪器盒下盖的翘曲变形和体积收缩为研究对象,结合稳健设计、均值分析,分别获得翘曲变形及体积收缩最小的最优工艺参数组合及影响趋势,运用综合加权评分法确定兼顾两目标最优的工艺参数组合为:熔体温度260℃,模具温度90℃,注射时间1 s,保压时间15 s,保压压力为注射压力的98%。结果使得优化后的翘曲变形减小了28.4%,体积收缩率降低了27.9%,对实际生产起到指导作用。     

薄膜厚度对Al掺杂ZnO薄膜性能的影响

采用直流磁控溅射技术,以氧化锌铝陶瓷靶为靶材,在玻璃衬底上制备了ZnO：Al（ZAO）薄膜样品。在其他参数不变的情况下,由不同溅射时间得到了不同厚度的薄膜,研究了薄膜的结构性质、电学和光学性质随薄膜厚度的变化关系。实验结果表明：在薄膜厚度为500 nm时,ZAO薄膜具有最优化的光电性能,电阻率为1.68×10-3Ω.cm,可见光区平均透射率为90.3%。     

溶胶—凝胶陶瓷薄膜制备工艺技术的研究

本文从溶胶制备和薄膜涂覆工艺两方面对溶胶－凝胶法制备陶瓷薄膜中的工艺技术进行了研究,并指出了溶胶－凝胶技术中存在的一些问题。     

退火和老化气氛对铝酸钙玻璃上SiO_2薄膜性能影响

将用IAD法在CAB玻璃基体上沉积的SiO_2薄膜在600℃条件下部分进行退火,然后在不同湿度气氛中进行老化处理.利用分光光度计、纳米硬度计和扫描电镜研究了退火处理及不同老化气氛对SiO_2薄膜的光谱性能、硬度及摩擦性能的影响.实验结果如下:虽然退火和老化方式影响SiO_2薄膜的结构,但不同处理的SiO_2膜层表面摩擦系数均小于CAB玻璃基体,退火处理后的SiO_2薄膜硬度高于不退火处理的SiO_2薄膜硬度;SiO_2薄膜在可见光区内对CAB玻璃能够起到有效的增透作用;退火处理后红外透过率提高.实验结果表明CAB玻璃表面镀SiO_2薄膜在不损害光谱性能的同时可以起到有效地防护作用,显著提高其耐摩性能.     

氧气对磁控溅射HfO2薄膜电学性能的影响

采用射频磁控溅射法在无氧和有氧气氛下制备了HfO2薄膜.通过X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)、傅立叶变换红外光谱(FTIR)、椭圆偏振光谱(SE)以及电容-电压(C-V)测试对薄膜的结构、成分、HfO2/Si界面和HfO2栅介质MOS结构的电学性能等进行了分析表证.结果表明,溅射过程中通入氧气后,薄膜出现了较明显的结晶化;薄膜的氧化程度得到提高,成分更接近理想化学计量比HfO2.在HfO2/Si界面处存在的SiO2界面层,有氧条件下界面层的厚度增大.氧气的通入改善了HfO2栅介质MOS结构的电学性能.     

原料结构对BOPP薄膜拉伸工艺及性能的影响

选取5种具有典型结构的双向拉伸聚丙烯(BOPP)薄膜专用料,研究了该专用料分子结构对BOPP薄膜拉伸工艺及性能的影响。结果表明:共聚组分含量较高的F280B原料具有较宽的拉伸工艺窗口,其薄膜的光学性能较好,但力学性能相对较低;薄膜性能受原料分子链等规度和共聚单体含量等因素的影响。     

磁控溅射Ta-C-N薄膜摩擦学性能研究

采用磁控溅射法在Si基片上沉积非晶态Ta-C-N薄膜。利用纳米压痕仪表征其纳米硬度和弹性模量;摩擦磨损实验检测其摩擦学性能;光学轮廓仪和扫描电镜观察磨痕形貌。结果表明:Ta-C-N薄膜具有较高的纳米硬度9.45 GPa和弹性模量225.71 GPa,同时具有较低的摩擦系数0.238,磨损率5.94×10-6 mm3.N-1.m-1,磨面较为平整光滑,体现了优越的摩擦磨损性能。     

Si-C复合薄膜的制备及电化学性能研究

采用磁控溅射法,通过控制其中石墨薄膜的溅射时间,在铜箔集流体上沉积了三种不同厚度的Si-C复合薄膜。运用原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)对样品表面形貌和结构进行分析。运用恒电流充放电和循环伏安等方法研究了复合薄膜作为锂二次电池负极材料的电化学性能。结果表明,随着石墨溅射时间的增加,复合薄膜循环性能呈上升趋势,对比纯Si薄膜,石墨的复合添加明显改善了薄膜的循环性能。     

介电薄膜热处理工艺研究

介电材料是一类重要的电子信息功能材料,随着电子元器件片式化、集成化的发展,介电材料纳米薄膜化已成为必然趋势。尤其是自20世纪80年代中期以来,由于薄膜制备技术的发展,在较低的衬底温度下,沉积高质量底外延或择优取向的介电薄膜成为可能,从而使介电薄膜工艺技术与半导体工艺技术的兼容成为可能。本次研究主要采用溶胶凝胶(Sol-gel)制备PbSrTiO_3(PST)介电薄膜样品,并对热处理工艺做出了科学性研究。热处理温度过低,薄膜不能充分晶化;热处理温度过高,由于PST薄膜中易挥发元素的Pb存在,容易引起Pb的挥发,从而大大影响薄膜的介电性能。因此,确定热处理温度对于PST薄膜成膜质量以及介电性能来说至关重要。     

电镀参数对薄膜电路镀镍层性能的影响

选用不同的电流密度、温度及整流器输出波形进行了薄膜电路镀镍实验,以此来研究电镀参数对薄膜电路镀镍速率、镀镍层表面形貌、粗糙度、微带线厚宽比等性能带来的影响。结果表明,随着电流密度的增大,薄膜电路的镀镍速率会逐渐增大;镀层表面缺陷会先减少后增多,镀层粗糙度也会先减小后增大,微带线厚宽比会先增大后减小;随着镀液温度的升高,薄膜电路的镀镍速率会逐渐增大,镀层表面缺陷会先减少后增多,镀层粗糙度会先减小后增大,微带线厚宽比会先增大后减小;选用不同的整流器输出波形镀镍时,在高低自由波及脉冲波形条件下,薄膜电路分别具有最高与最低的镀镍速率;高低自由波条件下制备得到的镀镍层缺陷较多,状态较差,单相全波整流波形与脉冲波形条件下镀层表面缺陷较少,形貌较好;高低自由波及单相全波整流波形分别具有最大及最小的镀层粗糙度;高低自由波及单相全波整流波形条件下,薄膜电路微带线分别具有最小及最大的厚宽比。     

制备过程对掺铝氧化锌薄膜性质的影响

文章采用溶胶-凝胶法在玻璃基底上制备得到了高透光率,高导电性的掺铝氧化锌薄膜（AZO）,利用原子力显微镜、扫描电镜、X射多次退火的制备过程不仅可以得到可见光区透光率大于85%,电阻率为7.2×10-5Ω·m的透明导电薄膜,而且因省略了热处理过程而简化了制备工艺,缩短了制膜时间。线衍射仪和紫外可见分光光度计等研究了三种不同的制备过程对AZO性质的影响。结果表明,制备过程的不同导致了薄膜的表面形貌、结构和导电性质方面的差别,其中分层多次退火过程有利于晶粒长大,形成结晶度高且具有单一（002）取向的AZO薄膜,同时改善薄膜的导电性能。分层     

Sputtered AZO Thin Films for TCO and Back Reflector Applications in Improving the Efficiency of Thin Film a-Si:H Solar Cells

We report the properties of Al doped ZnO (AZO) thin films on glass substrates and its effect on the efficiency of amorphous silicon (a-Si:H) solar cells as the back reflector. Oriented AZO thin films were grown using DC magnetron sputtering by varying Ar gas flow rates. The influence of Ar flow rate on the structural, electrical and optical properties of AZO thin films suitable for transparent conducting oxide (TCO) and back reflector applications was investigated. The (a-Si:H) solar cells, with and without AZO back reflector, were fabricated on FTO coated glass substrates using the PECVD technique. The solar cells were tested using a Sun simulator under AM 1.5 condition. Enhancement in current density from 12.46 to 14.24 mA/cm² with the AZO back reflector was observed, thereby increasing the efficiency of the solar cell from 6.38 to 7.82 %, respectively.     

双向拉伸聚酯薄膜生产线干燥工序对薄膜生产及性能的影响

原料干燥工序对薄膜生产的稳定性、厚度均匀性及性能有重要影响,原料干燥不充分会影响原料的加工性能及最终产品质量.通过对双向拉伸聚酯薄膜生产过程中原料干燥参数进行系统的调整控制,并分析对比不同干燥时间、温度对原料加工性能及薄膜性能的影响,确定最佳参数,保证薄膜产品质量.     

热处理工艺对Sol-gel法制备BST薄膜性能的影响

以醋酸锶、醋酸钡和钛酸四丁酯为前驱体原料,采用溶胶-凝胶(Sol-gel)法,利用旋转涂覆工艺,采用不同的热处理工艺制备了组分为Ba/Sr=0.65/0.35的Ba0.65Sr0.35TiO3薄膜.采用XRD、SEM和阻抗分析仪分析薄膜的结晶、表面形貌和介电性能.研究了不同热处理工艺对BST薄膜晶化行为、结构和性能的影响.结果表明,最佳热分解温度和时间为400 ℃和30 min,最佳升温速率为0.5～1 ℃;经650 ℃热处理后,BST薄膜已基本形成ABO3型钙钛矿结构,随着热处理温度的提高,薄膜的结晶程度提高,且沿(110)晶面择优取向.经750 ℃热处理的BST薄膜表面光滑致密无裂纹,颗粒均匀分布,晶粒发育较好,且介电性能最佳.     

BaTiO3薄膜的Sol-gel法制备及其介电特性研究

以钛酸四丁酯和乙酸钡为主要原料,以乙二醇独甲醚为溶剂,采用溶胶凝胶法成功地配制出了BaTiO3溶胶,溶胶清晰稳定,保存时间长.并用XRD分析了沉积在Si(100)低阻硅片上的薄膜的结构,发现薄膜在600℃时结晶状态已良好.文中同时对薄膜的介电性质进行研究,并讨论了退火温度对薄膜介电性质的影响.     

溶胶──凝胶陶瓷薄膜制备工艺技术的研究

从溶胶制备和薄膜涂覆工艺两方面对溶胶──凝胶法制备陶瓷薄膜中的工艺技术进行了研究,并指出了溶胶──凝胶技术中存在的一些问题。     

二氧化钛薄膜的制备及性能研究

二氧化钛具有无毒、光催化性能强,热稳定和化学结构稳定,耐腐蚀性能良好等特点,可作为半导体催化材料和耐腐蚀材料。二氧化钛薄膜可以采用物理的方法和化学的方法制备,薄膜态材料在未来将有着潜在的应用。本文结合近年来二氧化钛薄膜的研究进展,介绍了二氧化钛薄膜的制备方法和应用领域,并对未来二氧化钛薄膜的研究进行了展望。     

TiO2光催化薄膜的制备及其性能

在稀硫酸溶液中的阳极氧化钛箔,采用混合增长模型技术控制氧化膜的生长,制备了TiO2光催化薄膜,TiO2薄膜通过苯酚的光催化降解实验检验,具有较高的催化活性及很好的催化稳定性,实验结果表明：阳极氧化法固定TiO2薄膜切实地,不仅解决了TiO2微粒光催化过程催化剂微料与水难分离的问题,而且阳极氧化制膜所需时间短（几秒到几分）、工艺简单,十分有利于工业化制备。     

Polymer Functionalization and Thin Film Deposition by Remote Cold Nitrogen Plasma Process

Modification of polymer surfaces by cold plasma processes is attracting a growing interest. Especially, the use of plasma gases such as N₂, O₂ or air, which are cheap and environmentally safe, is very attractive from an industrial point of view. The lifetime of atomic oxygen being very short, it is very difficult to operate with air or oxygen plasma when wide plasma volume is required. However, it is possible to obtain cold remote nitrogen plasma reaching volume of several m³ due to the long lifetime of atomic nitrogen because of a re-dissociation mechanism. Moreover, the temperature being close to the ambient makes this plasma very attractive for functionalization and/or coating of polymer surfaces. Several applications of this plasma process are presented in this paper. The incorporation of new chemical functions during the treatment of polymers leads to an increase of their adhesion properties. Several industrial applications (painting, sticking, bonding, foaming and thermo-covering) are presented. The ability of this remote plasma to decompose, to polymerize, or to react with a volatile chemical component is described through three examples involving polymer substrates: (i) the deposition of metallic films; (ii) the synthesis of a nitride film combining hardness and elastic behavior; (iii) the synthesis of an organosilicon film showing interesting barrier properties. Adhesion aspects are investigated for all these examples.     

TiO2光催化薄膜的制备及其性能

在稀硫酸溶液中的阳极氧化钛箔,采用混合增长模型技术控制氧化膜的生长,制备了TiO2光催化薄膜.TiO2薄膜通过苯酚的光催化降解实验检验,具有较高的催化活性及很好的催化稳定性.实验结果表明阳极氧化法固定TiO2薄膜切实可行,不仅解决了TiO2微粒光催化过程催化剂微粒与水难分离的问题,而且阳极氧化制膜所需时间短(几秒到几分)、工艺简单,十分有利于工业化制备.