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气相沉积制备硬质薄膜技术与应用述评 总被引:1,自引:0,他引:1
本文对气相沉积技术的发展与最新趋势给出了述评 ,重点强调了等离子体辅助化学气相沉积 (PCVD)的优势、进展及其在工模具领域的应用 相似文献
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利用射频化学气相沉积法,通过硼的掺杂,在石英玻璃衬底上生长出P型微晶金刚石薄膜,范德堡法的测试表明,我们得到的薄膜最小电阻率为4×10-2Ω.cm,最大空穴迁移率为50cm/V.s;从电阻率与温度关系近似计算出杂质激活能 相似文献
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探索将气相沉积氮化钛技术用于工模具和精密零部件的表面力化学强化和功能优化已有近30年的历史。2000年美国金 属学会将唯一一项工程材料成就奖授予Moen公司,以表彰其卓有成效地将氮化钛基镀膜技术应用于工业和民用领域。这一事实表明,气相沉积表面陶瓷化技术在当今科技界具有领先的技术优势,其在工业界所产生的经济效益和行业引领作用将成为其未来技术评估的重点。 目前氮化钛镀膜技术已在国际刀具领域形成工业化生产。基本公认的事实是,离子镀用于高速钢刀具效果最好,化学气相 相似文献
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微波等离子体化学气相沉积技术制备金刚石薄膜的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
介绍了微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD)制备金刚石薄膜的研究情况,重点论述了该法的制备工艺对金刚石薄膜质量的影响及其制备金刚石薄膜的应用前景。 相似文献
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本文介绍和评述了化学气相沉积法制备人造金刚石薄膜及其进展,重点评述了反应机理,发展历史,沉积方法,补底材料,检测手段,论述了有利于形成立方晶系金刚石材料的沉积条件。 相似文献
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等离子增强化学气相沉积法(PCVD)是在物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)基础上发展起来的一种沉积方法。它兼有 PVD 和 CVD 方法的优点。介绍了 PCVD的原理和所研制的一台 PCVD 设备。分析了用 CVD 法和 PCVD 法制备的硬质膜的性能。所分析的性能有:显微硬度、抗弯强度、粘结牢度、机加工性能。 相似文献
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本文介绍和评述了化学气相沉积法制备人造金刚石薄膜及其进展。重点评述了反应机理、发展历史、沉积方法、补底材料、检测手段。论述了有利于形成立方晶系金刚石材料的沉积条件。 相似文献
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硬质薄膜材料的最新发展及应用 总被引:13,自引:1,他引:13
综述了硬质薄膜材料的最新研究状况。硬质薄膜的设计向着多元化、多层膜的方向发展。本征超硬薄膜材料,如:金刚石、C—BN、B4C、TiB2、BC4N等的硬度可以达到50~80GPa。纳米超晶格薄膜和纳米晶复合膜两类新的超硬薄膜的硬度分别随超晶格的调制周期减小,纳米晶晶粒尺寸减小而增加,它们的硬度都能达到40~70GPa。最高硬度的薄膜材料nc—TiN/a—Si3N4采用PCVD方法制备,加载30mN测得塑性硬度(Plastic hardness)H=110GPa;加载70mN,H=80GPa。本综述对硬质薄膜的应用前景做了展望。 相似文献
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新型微波等离子体化学气相沉积金刚石薄膜装置 总被引:8,自引:2,他引:6
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)是制备金刚石薄膜的一种重要方法。为了获得金刚石薄膜的高速率大面积沉积,在国内首次研制成功了5kW带有石英真空窗的天线耦合水冷却不锈钢反应室式MPCVD装置。初步用该装置成功在硅基片上沉积得到了金刚石薄膜。 相似文献
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置于直流等离子体化学气相沉积(DC-PCVD)装置的阴极或阳极的20、20Cr、GCr15及2Cr13钢,以及单晶硅材料的试样均可沉积获得以Si2N4成为主要成分的非晶态的绝缘薄膜。这种膜有一定制作条件,讨论了阴阳极上试样都能获得这种膜的原因。 相似文献
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介绍了化学气相沉积金刚石薄膜的的主要方法,着重讨论了金刚石的摩擦学性能研究,简要分析了化学气相沉积金刚石薄膜中存在的问题。 相似文献
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光化学气相沉积(光 CVD)是一种继低压化学气相沉积(LPCVD)和等离子体化学气相沉积(PECVD)之后的又一项新的低温成膜工艺。首先介绍了光化学气相沉积的物理基础,然后重点介绍了光化学气相沉积的实验方法,最后简要介绍了光化学气相沉积在薄膜制备中的一些应用。 相似文献
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