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Ni-ZrO2纳米复合电镀层的制备及其耐蚀性研究 总被引:10,自引:0,他引:10
采用电镀工艺制备了纯镍电镀层和NiZrO2纳米复合电镀层,对纯镍电镀层和NiZrO2纳米复合电镀层分别在10%HCl和10%H2SO4溶液中的耐蚀性进行了对比研究,用SEM对各种电镀层腐蚀后的表面形貌进行了观察.结果表明,在脉冲条件下所制备纳米复合电镀层的耐蚀性明显优于其它电镀层,其原因是电镀层中复合有适量的纳米ZrO2颗粒以及脉冲电沉积工艺本身所致.
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采用直流电沉积法制备纳米结构的Cu/液体微胶囊复合镀层。借助扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)和X射线衍射(XRD)分析和表征复合镀层的表面形貌和微观结构。结果表明:加入微胶囊使得复合镀层由粗晶结构转变为纳米晶结构,其中镀层中液体微胶囊及铜纳米晶的尺寸分别为2~20μm和10~20nm。此外,通过理论分析证实了铜与液体微胶囊的电沉积过程遵循电化学沉积机理,并提出了相应的电沉积过程模型。 相似文献
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化学沉积 Ni-P-荧光粉复合镀层及其性能研究 总被引:1,自引:1,他引:0
目的以铜合金为基体,采用化学镀技术制备Ni-P-荧光粉复合镀层。方法在化学镀镍液中加入荧光粉微粒,在不同条件下施镀,并对不同工艺参数下获得的镀层的表面形貌、结构和荧光特性进行研究。结果化学沉积Ni-P-荧光粉复合镀层的沉积方式为颗粒堆积,镀液中荧光粉的浓度和镀液的pH值对镀层中荧光粉的含量有影响。荧光粉微粒的加入使得镀层表面色泽变暗,外观较粗糙。对复合镀层进行荧光分析发现,激发光谱在激发波长450~560 nm范围内存在荧光峰,发射光谱在发射波长420~500 nm范围内存在荧光峰。结论采用合理的工艺参数可以获得Ni-P-荧光粉复合镀层,且镀液pH=5.0时,荧光效果最佳。 相似文献
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采用水相分离法制备了以甲基硅油为囊芯、聚乙烯醇为囊壁的疏水性液体微胶囊,并以其作为电沉积组分,研究渐变电流密度下的复合铜镀层电沉积工艺,对所制备的复合铜镀层表面微观形貌和疏水性进行表征,同时考察镀层在酸性腐蚀环境下对基体的保护效果。结果表明,所制备的含液体微胶囊复合铜镀层较纯铜镀层结晶更加致密;H2O在其表面的润湿性下降,接触角从90° 增大至131°;复合镀层在1%(质量分数) H2SO4溶液中的自腐蚀电流密度较纯铜镀层降低3个数量级,自腐蚀电位由-0.63 V正移至-0.27 V,显示出良好的耐蚀性。 相似文献
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采用离子共放电沉积法制备Zn-Bi复合镀层并对其性能进行研究。结果表明,Bi可以有效地抑制电镀过程中Zn晶粒的生长,有利于镀层晶粒的细化,从而使得Zn-Bi复合镀层与纯锌镀层相比具有优异的力学性能。该方法制备的Zn-Bi复合镀层,其显微硬度是纯锌镀层的2倍,同时具有更高的耐磨性。 相似文献
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对微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层用作代铬镀层进行了研究.采用恒电流沉积的方法在钢片上成功制备了微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层.采用单因素实验分别讨论电镀液组成对镀层宏观形貌、微观形貌、复合量、硬度等的影响,获得硬度(HV)为646.11的微米级SiC/Ni-Co-P复合镀层;研究了不同表面处理的微米级SiC... 相似文献
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《中国腐蚀与防护学报》2017,(4)
采用复合电镀在钛合金表面制备了Ni-SiC复合镀层,并利用人工神经网络预测了复合电镀工艺参数对镀层组织结构的影响。结果表明:增加镀液中SiC颗粒含量和搅拌速率均会明显增加复合镀层中SiC的含量,从而增加镀层的硬度;增加阴极电流密度会增加镀层的生长速率,但过高的阴极电流密度导致镀层组织产生裂纹。采用人工神经网络模型对不同复合电镀工艺参数所制备的Ni-SiC复合镀层的厚度和硬度进行了预测,所获得的预测结果与实验结果吻合较好,偏差处于合理范围。 相似文献
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《表面工程资讯》2012,(6):45-45
答:复合电镀层粗略地分为下面几种:(1)微粒在电镀液中尽可能均一分散,以形成的镀层中大体均一的微粒均匀共析而形成的镀层:(2)较大粒子使用的场合让微粒静静地在电镀施镀面上沉积,被析出金属埋入的方法固定而形成的镀层;(3)纤维状的材料在电镀液中分散的场合,和它们在电镀施镀上缠住纤维析出金属固定而形成的镀层。上述这些根据不同的形式可以形成各种各样的复合镀层。而镍基复合镀层是目前用得最多的一种复合电镀层。另外一种比较常用的分类法,是按照复合镀层的用途,将它们分为防护装饰性复合镀层、功能性复合镀层以及用作结合材料的复合镀层三大类。与普通电镀层的分类是一样的。 相似文献
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《表面工程资讯》2014,(1):57-60
正高耐蚀纳米镍加无裂纹微硬铬复合镀层电镀液及电镀工艺申请号:CN201310465300.2;申请日:2013.09.30公开(公告)号:CN103451695A公开(公告)日:2013.12.18申请(专利权)人:烟台星辉航空液压机械有限公司。该发明涉及高耐蚀纳米镍加无裂纹微硬铬复合电镀层生产工艺,属于电镀液及电镀层领域。复合电镀层生产工艺特征在于,将经过预处理的镀件首先置入电镀纳米晶体镍打底电镀液A并通入阶梯方波正负脉冲大功率电镀电源进行电镀,得到纳米晶体镍打底镀层;而后将镀有纳米晶体镍打底镀层的镀件置入电镀无裂纹硬铬镀层电镀液B并通入阶梯方波正负脉冲大功率电镀电源进行电镀,在纳米晶体镍打底镀层之上电镀一层无裂纹光亮微硬铬镀层,最终得高耐蚀纳米镍加无裂纹微硬铬复合镀层。该发明电流效率高,沉积速度快,深镀能力好,耐腐蚀效果好,摩擦系数与镀硬铬相当或略低。 相似文献
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金刚石线锯的复合电镀制备方法是通过金属电沉积的方式将金刚石磨料掺杂到金属镀层中,在锯丝表面形成复合镀层,最终制造出一种线性超硬工具的过程.本课题综述了金刚石线锯的复合电镀工艺的原理特点以及制备时的材料选取和制备工艺过程,并对其工艺方面做出总结和展望. 相似文献
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电沉积方式对Cu-nanoAl_2O_3复合镀层组织结构和显微硬度的影响 总被引:2,自引:1,他引:1
用直流和单脉冲电镀法制备了Cu-nanoAl2O3复合镀层。通过扫描电镜观察了镀层的表面形貌,用X射线衍射仪分析了镀层的微观晶体结构,分别研究了影响直流和单脉冲纳米复合镀层显微硬度的各种因素。结果表明,与直流电镀方法相比,脉冲电镀方法使镀层晶粒尺寸变小,在T=24℃,Al2O3、粒子添加量25g/L、搅拌速度240r/min、阴极平均电流密度4A/dm2条件下,直流电沉积Cu-nanoAl2O3复合镀层硬度最大,在直流电镀工艺条件基础上选择频率为200Hz、工作比为0.3的单脉冲工艺条件制备的复合镀层硬度最大。 相似文献
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电镀镍-纳米金刚石复合镀层研究 总被引:4,自引:0,他引:4
本文采用电镀的方法获得了镍-纳米金刚石复合镀层,用间接法分析了镀层中纳米金刚石的含量,用TEM对纳米金刚石在镀层中的形态、分布情况及镀层结构进行了分析,并通过优化施镀温度、时间、电流密度及金刚石悬浮量等工艺参数,使镀层的性能获得改变。试验结果表明:镀液温度为60℃,电流密度为2A/dm^2的共沉积条件下,镀层的硬度、耐磨性高,镀层中纳米金刚石的沉积量也较高,纳米金刚石能够均匀分布在镀层中,特别是复合镀层耐磨性的改变具有重要的实际意义。 相似文献
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一种制备纳米复合镀层的新方法 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了一种制备纳米复合镀层的新方法--在直流电镀过程中对电镀液施加强磁场以代替机械搅拌来制备Ni/Al2O3纳米复合镀层,考察了镀层的结构,并对镀层性能进行了研究.结果表明,在强磁场下可以制得纳米复合镀层;与未加磁场的纯镍镀层相比,施加磁场后镀层的晶体结构发生了择优取向;当磁场强度为8T时,复合镀层的磨损率仅为纯镍镀层的25%,其耐蚀性与Q235钢相比提高56.3%,与纯镍镀层相比提高46.8%.强磁场对电镀液起到较好的搅拌作用,通过影响镀层中纳米微粒的含量,使镀层结构发生变化,进而影响镀层的性能. 相似文献