真空处理炉炉温均匀性探讨

对影响真空热处理炉膛温度均匀性的各种因素进行了扼要的讨论与分析，并对保证炉膛温度均匀性的可行措施做了说明，所得结论得到了实践的证实。     

BGO晶体的热释光效应及光损伤后晶体的恢复

本文介绍 BGO 晶体的热释光效应,BGO 大单晶光损伤后恢复的实验。BGO 晶体热释光曲线的次峰位温度约在200℃,光伤后的 BGO 大单晶一般通过200～250℃保温5～7h 的热处理就能使晶体完全恢复。     

GaAs研磨片化学腐蚀均匀性的分析

采用不同的化学腐蚀方法,探讨了不同体系成份、温度、腐蚀过程的吸收热对晶片均匀性的影响,提出了氨水系列,进行晶片化学腐蚀,晶片厚度均匀性１１．４７％,为下步工艺提供平整度较好的晶片。     

大口径镀膜机均匀性的研究

对于大口径镀膜机的均匀性特性进行了研究,得到了一组厚度分布曲线,并对曲线进行了分析;利用这些实验结果,运用新理论设计出了具有实用性的修正挡板,均匀性可稳定的达到3‰.     

CsI(Tl)晶体发光均匀性的研究

本文对Tl分布、几何形状以及表面条件对大尺寸锥形CsI（Tl）晶体的闪烁发光均匀性的影响进行了研究,提出了改善大尺寸锥形CsI（Tl）晶体的发光均匀性的措施.     

KDP晶体光学均匀性检测实验研究

本文阐述了正交偏振干涉测量技术的基本原理和实验方法.Fizeau干涉仪的输出激光束经过线偏振镜后变为线偏振光,调整偏振方向让光束的偏振态分别平行于KDP晶体的o轴和e轴,得到两幅干涉图.通过这两幅干涉图的差值得到晶体的折射率分布不均匀性.该检测技术借助可改变输出激光偏振态的大口径干涉仪精确地测量晶体在切割方向上.光折射率和e光折射率的偏差.本文所采取的方法是在大口径干涉仪的小端口放入可改变偏振方向的线偏光镜.本文通过对一批330mm×330mm的大口径KDP晶体的折射率均匀性测量验证了该方法.     

PbF_2:Gd晶体的发光强度与发光均匀性研究

以Ｘ射线荧光光谱分析为手段,测试了用Ｂｒｉｄｇｍａｎ方法生长的ＰｂＦ２：Ｇｄ晶体中Ｇｄ离子沿生长方向的分布．发现该晶体在Ｘ射线激发下的发光强度与Ｇｄ在ＰｂＦ２晶体中的含量变化均从结晶开始端至结晶结束端逐渐降低,表明ＰｂＦ２：Ｇｄ晶体的发光是不均匀的,这种不均匀性源于Ｇｄ离子在ＰｂＦ２晶体中的分布不均匀性．通过在ＰｂＦ２：Ｇｄ晶体中掺入一定量的碱金属离子,可以比较有效地改善Ｇｄ离子在ＰｂＦ２晶体中的不均匀分布,使晶体的发光均匀性和透光率得到明显提高,其中以Ｎａ离子的均匀化效果为最好．推测Ｎａ离子的作用是消除了ＰｂＦ２：Ｇｄ晶体中因Ｇｄ离子的掺杂而造成的间隙Ｆ离子,从而使晶体中的缺陷浓度大大降低．     

坩埚下降法生长钨酸镉单晶的光学均匀性

采用垂直坩埚下降法生长出大尺寸CdWO₄单晶, 通过DSC/TG、XRD、电子探针、透射光谱和X射线激发发射光谱对单晶进行了测试表征, 分析了单晶生长过程中熔体挥发情况和单晶化学成分变化, 研究了所生长单晶的光学均匀性的变化规律. 结果表明, CdWO₄单晶生长过程存在比较严重的熔体挥发, 且熔体中CdO比WO₃更加易于挥发; CdWO₄单晶的化学组成存在不同程度缺Cd的特征, 初期生长晶体的n(Cd)/n(W)比相对高, 后期生长晶体的n(Cd)/n(W)比持续减小, 相应地单晶在380~550nm区域的光透过率略有降低, X射线激发发光强度有所降低, 且发光波长出现略微红移的趋势. 通过提高多晶料纯度、减少熔体挥发和氧气氛退火处理, 可以改善坩埚下降法生长CdWO₄单晶的光学均匀性.     

提高时效炉炉内温场均匀性的探索

淬火后的半制品 ,在室温下或者在（１００～２００）℃下停留一段时间后发生组织结构与性能变化的过程叫时效。在室温下叫自然时效 ,在（１００～２００）℃下叫人工时效 ,人工时效又可分 :不完全时效（时效后硬度、强度未到达最大值） ,完全时效（时效后硬度、强度到达最大值） ,过时效（完全时效后继续时效 ,硬度、强度反而下降）。为使时效后硬度、强度到达一个工艺值 ,在人工时效时 ,一般都采用温度可以在（５～２００）℃自动调节并有一定容积的炉子内进行 ,这个炉子 ,我们称之为时效炉。铝制件经过５３５℃正负５℃淬火后 ,放到时效炉…     

微量杂质在BGO Bridgman生长和性质上的行为

在 Bridgman 生长的 BGO 闪烁单晶中,含量为 10~(-4)～10~(-6)wt%的 Fe、Pb、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Al 等微量杂质主要来源于原料和工艺过程中的局外污染。铂从坩埚上被侵蚀进入 BGO 熔体,其含量<2×10~(-5)wt%。用 AAS 和 ICP 分析测定了 Bridgman 生长中微量杂质的有效分凝系数。过渡金属杂质,特别是 Fe,使 BGO 染色并引起辐照损伤,形成300～700nm 范围的强吸收谱,致使 BGO 单晶的能量分辨率、相对荧光输出下降约10—20%。在辐照损伤下形成的 Fe、Pb 杂质色心,受热时形成晶体的热发光。     

热处理对NiTi形状记忆合金的相变的影响

对含Ti 50.8%的NiTi形状记忆合金在300℃、400℃、500℃保温不同时间进行时效处理,然后通过差示扫描量热仪DSC对其相变温度点进行测定,发现经时效处理调节后,Af最大可下降20~30℃左右,而Ms变化不大。通过不同时效温度和保温时间的DSC曲线比较,得出热处理对其相变温度点的影响规律,即在300~500℃时效处理时,保温时间越短,Af降低越明显,在相同保温时间时,保温温度越低,Af降低越明显。     

BA—MMA—GMTS三元共聚大分子表面处理剂的合成及其对高岭土／PVC复合电缆料的改性

采用溶液聚合法合成了BA-MMA-GMTS三元共聚物大分子表面处理剂，应用该大分子表面处理剂对纳米级煅烧高岭土进行表面处理，FTIR表明共聚物包覆了高岭土，TEM观察到处理后高岭土在有机溶剂中的分散良好。DMTA测试显示，用其处理的纳米级高岭土填充制备PVC电缆料的取和Tg转变温区明显降低和拓宽。SEM对该PVC电缆料低温冲击断裂面的观察显示是韧性断裂。检测结果表明用大分子表面处理剂包覆的纳米级煅烧高岭土填充制备的PVC电缆料低温冲击韧性、力学性能和电举性能均最佳。     

Improvement of Heater Surface Flatness and Uniformity of TiN Film Deposition

The deposition rate and the thickness uniformity of chemical vapor deposition (CVD) titanium nitride films depend on wafer temperatures. The heater surface conditions, such as flatness, roughness, and surface imperfections, can greatly affect heat transfer efficiency from the heater surface to the wafer, and the process performance. Because heater surface imperfections or “hot spots” that caused poor uniformity had to be eliminated, the origin of “hot spots” was identified by a detailed study of heater surface profiles. A better visualization of “hot spots” could be obtained by comparing wafer-chucking patterns with deposition patterns. Thus, the time needed to locate “hot spots” could be shortened. The manufacturing process was revised to prevent “hot spots” and improve heater performance.     

DD8单晶镍基高温合金热处理制度研究

研究了热处理工艺对ＤＤ８单晶高温合金组织及性能的影响，结果表明，经过１１００℃／８ｈＡ．Ｃ．＋１２４０℃／４ｈＡ．Ｃ．＋１０９０℃／２ｈＡ．Ｃ．＋８５０℃／２４ｈＡ．Ｃ的４级处理明显改善了ＤＤ８单晶合金元素的枝晶偏析，合金中γ相获最佳含量并形成适当尺寸配合，合金获得理想的综合性能。     

Effect of Ru on microstructural evolution during heat treatment in single crystal superalloys

Abstract

The effect of Ru addition on the as cast microstructure, structural evolution during heat treatment and long term aging was employed in single crystal superalloys with different contents of Ru addition (0, 1·5 and 3·0 wt-%). The results show that NiAl based β phase can occur in the interdendritic region in 3Ru alloy. With increasing Ru content in the alloys, the incipient melting temperature of alloy decreases gradually, while the liquidus and solidus changed slightly. After solution treatment and the same aging treatment, the γ′ phase size decreased with increasing Ru addition. An remarkable inverse partition of alloying elements, i.e. more matrix forming elements Re and Mo distribute to the γ′ phase and more Ni element distribute to the matrix, was observed in the alloys with more Ru content after aging treatment. Ru addition can accelerate the rafting of γ′ phase and suppress the precipitation of topologically close packed (TCP) phases effectively.     

热处理对硅锰合金球铁组织与性能的影响

研究了Ｓｉ、Ｍｎ合金化球墨铸铁在不同热处理状态下的组织以及硬度、韧性和冲击磨损性能。试验结果表明，这种复相球墨铸铁材质是一种优良的抗磨材料。