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此处所说新材料是指：新的原材料、新结构和加工方法。它们满足国际半导体工艺指南（ITRS）的要求，可增强Si基CMOS工艺。即通过使用新材料提高晶体管工作速度、降低功耗、改善散热状况，提高存储容量或增加RF／模拟功能而保持CMOS的大规模集成。应用新的原材料（并非仅限于Si基材料）旨在提高CMOSIC性能， 相似文献
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