窄禁带半导体的自由载流子吸收

从理论和实验上研究了77K和300K温度下,本征型半导体InSb,Hg_(1-x)Cd_xTe,Hg_(1-x)Mn_xTe和高掺杂Hg_(1-x)Cd_xTe在2.5～50μm波段范围内的自由载流子吸收,结果表明:对于所研究的三种本征型样品,均是极性光学声子散射起主要作用,对于InSb还应考虑声学声子和电离杂质散射。对有缺陷的Hg_(1-x)Mn_xTe样品,理论计算的自由载流子吸收系数与实验值不一致,表明存在附加的散射机制,对高掺杂Hg_(1-x)Cd_xTe的研究证实了这一假设。还讨论了非弹性电子-声子散射机制的起因,估算了特性参数。     

器件质量级微晶硅薄膜光稳定性研究

利用射频等离子体增强化学气相沉积（RFPECVD）技术,通过改变SiH4浓度制备了一系列不同晶化率（Xc）的本征Si薄膜材料。通过测量其Raman谱和光、暗电导率（σph、σd）研究了工艺变化对材料结构的影响及材料光电特性同微观结构的关系,然后对样品进行老化实验,测量其光照前后的吸收系数α及量子效率、迁移率和寿命的乘积nμτ。分析其光照前后光电性能的变化规律结果表明,相变域附近的微晶硅（μc-Si：H）薄膜材料适合制备μc-Si2H太阳电池;结合退火实验的结果发现,μc-Si：H材料中的非晶成分是导致微晶材料光电特性衰退的主要原因。     

光调制吸收测量HgCdTe载流子寿命及其干涉效应

用光调制红外吸收技术测量了Hg_(1-x)Cd_xTe(0.23相似文献   

微晶硅中的STAEBLER WRONSKI效应

本文研究了用辉光放电热分解硅烷方法淀积的微晶-Si:H薄膜的Steabler Wronski(SW)效应。用改变高频功率的方法,获得从非晶到具有不同晶粒大小的微晶薄膜。晶粒尺度用小角散射方法,由Guinier公式算出。样品采用蒸铝条状共面电极结构。测量电导所加电场约为270V/cm,保证良好的欧姆接触。样品在干氮保护下,经180℃,40分钟退     

p型微晶硅薄膜的沉积及其在微晶硅薄膜太阳电池中的应用

采用等离子体化学气相沉积(PECVD)方法制备了硼掺杂微晶硅薄膜和微晶硅薄膜太阳电池.研究了乙硼烷含量、p型膜厚度及沉积温度对硼掺杂薄膜生长特性和高沉积速率的电池性能的影响.通过对p型微晶硅薄膜沉积参数的优化,在本征层沉积速率为0.78nm/s的高沉积速率下,制备了效率为5.5%的单结微晶硅薄膜太阳电池.另外,对P型微晶硅薄膜的载流子疏输运机理进行了讨论.     

光陷阱在晶硅太阳电池中的应用

为了提高太阳能电池的转换效率和降低成本，采用光陷阱是一种很有效的方法，如多孔硅可使入射光的反射率减小到5％左右。对实验室和国外几种实用性很强的光陷阱结构，如金字塔绒面、多孔硅、压花法、溶胶-凝胶等及其制作方法进行了综述。     

p型微晶硅薄膜的沉积及其在微晶硅薄膜太阳电池中的应用

采用等离子体化学气相沉积（PECVD）方法制备了硼掺杂微晶硅薄膜和微晶硅薄膜太阳电池.研究了乙硼烷含量、p型膜厚度及沉积温度对硼掺杂薄膜生长特性和高沉积速率的电池性能的影响.通过对p型微晶硅薄膜沉积参数的优化,在本征层沉积速率为0.78nm/s的高沉积速率下,制备了效率为5.5%的单结微晶硅薄膜太阳电池.另外,对p型微晶硅薄膜的载流子疏输运机理进行了讨论.     

AlGaAs/GaAs多量子阱光激发载流子弛豫过程的研究

当激发光子能量大于多量子阱中势垒层的能带隙时,自由载流子同时可以在势垒层以及势阱层产生,对这些载流子的弛豫过程的研究不论对其基本的物理过程的认识,还是对新的光电子器件的研制和应用都有着重要的意义。 本文首先采用飞秒(10~(-15)秒)饱和吸收光谱技术研究了Al_(0.3)Ga_(0.7)As(100?)/GaAs(60?)11层量子阱样品受激载流子的初始弛豫过程。飞秒激光脉冲是由对碰脉冲锁模环形染料激光器(CPM)产生的,脉冲的时间宽度为 58fs,脉冲的重复频率为     

HgCdTe自由载流子光电导过程中的热电子效应

用连续运行的可调谐CO_2激光器研究和观察N型Hg_0.78Cd_0.22Te在100K时的自由载流子吸收和光电导,发现光激发引起热电子温度和迁移率的增加。实验结果指出电离杂质散射是造成迁移率变化的主要原因,有可能发展成一种新型的远红外探测器。     

微晶硅材料及其在太阳能电池中的应用

微晶硅（μc—Si：H）是国际公认的新一代硅基薄膜太阳能电池材料。综述了微晶硅的基本特性,器件质量级材料的表征参量,材料的生长技术,微晶硅在太阳电池中的应用及其发展前景。     

光折变LiNbO_3晶体中的有效载流子密度

基于双光束耦合的原理及实验结果，计算了纯ＬｉＮｂＯ３和Ｆｅ：ＬｉＮｂＯ３晶体中的有效载流子密度，对结果进行了讨论，指出光折变ＬｉＮｂＯ３中氧空位色心也是载流子施主之一，且被激发的Ｆｅ２＋仅占晶体中Ｆｅ２＋浓度的一小部分。     

微晶硅/晶体硅/微晶硅异质结太阳能电池窗口层的模拟计算与优化

采用Afors-het太阳能电池异质结模拟软件,模拟了不同工作温度下,微晶硅窗口层对μc-si(p)/c-si(n)/μc-si(p+)异质结太阳能电池性能的影响,结果表明:随着微晶硅窗口层帯隙的增加,转化效率先增加后下降、开路电压不断增加;掺杂浓度的增加,电池性能整体呈现先上升后小幅下降的趋势;厚度的增加,电池的性能整体上呈现下降的趋势。随着工作温度的增加,微晶硅窗口层对应的最佳厚度和掺杂浓度值都有明显的减小趋势;但其对应的最佳帯隙有明显的增加的趋势。该实验结果为在不同温度下工作的电池提供了商业化生产的实验参数。     

基于高迁移率微晶硅的薄膜晶体管

近年来,微晶硅(μc-Si:H)被认为是一种制作 TFT 的有前景的材料.采用PECVD法,在低于200℃时制作了微晶硅TFTs,其制作条件类似于非晶态 TFTs.微晶硅 TFTs 器件的迁移率超过了 30 cm2/Vs,而阈值电压是 2.5 V.在长沟道器件(50～200 μm)中观测到了这种高迁移率.但对于短沟道器件(2 μm),迁移率就降低到了7 cm2/Vs.此外,该 TFTs 的阈值电压随着沟道长度的减少而增大.文章采用了一种简单模型解释了迁移率、阈值电压随着沟道长度的缩短而分别减少、增加的原因在于源漏接触电阻的影响.     

微晶硅材料及其薄膜晶体管的研究

本文在微晶硅材料性能研究的基础上制备了微晶硅薄膜晶体管(TFT).发现微晶硅的柱状生长模式会导致其结构和电学性能的不均匀性.由于材料的柱状生长模式使得其晶化百分比、晶粒尺寸和暗电导受到薄膜厚度的调制.平行于衬底和垂直于衬底方向的电导率随着材料沉积条件的变化呈现出不同的变化规律,后者始终保持在 10-6 s/an～10-5 s/cm 量级.确定了用于 TFT 有源层的微晶硅薄膜沉积条件中的硅烷浓度应高于 2%,晶化百分比应为40%～50%左右.制备的微晶硅 TFT 器件具有良好的稳定性,开态电流的衰退和阈值电压的漂移分别为 25%和1 Ⅴ,进而还发现了一种新颖的自恢复现象.     

微波偏压砷化铟光电导体中的自由载流子屏蔽

微波偏压砷化铟光电导体在室温下工作。最佳噪声等效功率NEP为1.2×10~(-10)瓦/赫~(1/2),直流偏压提高了30倍。为了评价在禁带宽度窄的半导体中自由载流子屏蔽的作用,同先前用高电阻率的锗得到的结果进行了比较。这样可以把微波系统与光电导体的作用分开。结果表明,由于自由载流子的屏蔽而降低一个数量级,这同以前发表的结果是一致的。     

微晶硅材料高速生长及其在太阳能电池中的应用

高气压耗尽RF-PECVD在高速生长优质微晶硅材料和太阳能电池方面具有巨大的优势.采用这种沉积方法,本征微晶硅材料的生长速度提高到0.32 nm/s,晶化率达58.2%.把这种高速生长的微晶硅材料用作太阳电池的本征吸收层,在没有优化工艺参数和没有采用ZnO增反电极时,电池的转换效率达到4.8%.     

用红外吸收的光调制技术测量Hg_(1-x)Cd_xTe的载流子寿命

用红外吸收的光调制技术在90-330K温度范围内测量了组分0.24     

微晶硅薄膜微结构对稳定性的影响

实验研究了不同晶化率的微晶硅（μc-Si）薄膜的光衰退现象,提出了制备高稳定性硅薄膜太阳电池材料选取方案。研究结果表明,μc-Si中的非晶硅（a-Si）组分是导致光衰退的主要原因,晶化率越高,材料越稳定;过渡区靠近μc-Si材料区域的μc-Si材料,由于具有更好的稳定性和光敏特性,适于制备μc-Si太阳能电池;过渡区附...     

半导体介质波导中光生载流子的浓度分布

本文采用数值方法求解半导体矩形介质波导中光生载流子的非线性连续方程，获得了光生载流子在波导中的三维空间稳态分布，为严格分析光控矩形介质波导毫米波传播特性打下了基础。     

HgSe：Fe的红外光谱和自由载流子散射

测量了掺Fe浓度为1.5×10~(18)～7×10~(19)cm~(-3)的HgSe:Fe样品在中红外波段内的室温透过率和反射率,由此看出Fe浓度大于或小于4×10~(18)cm~(-3)时吸收系数,迁移率和吸收截面的性质明显不同,用Fe的空间有序化模型解释了实验结果。