双面抛光机气动加载的建模与仿真

双面抛光机广泛用于硅片、蓝宝石、陶瓷、磁性材料、电子器材的表面超光滑无损伤的平整加工。气动加载系统是双面抛光机实现精密抛光非常关键的部分。抛光压力加载精度的高低直接决定了抛光机性能的好坏。本文利用法国AMESim软件对气动加载系统进行建模,通过仿真得出了一组最佳PID参数,满足了系统要求,并使系统性能得到提高。     

行星式双面抛光均匀性研究

文中通过行星轮式双面抛光的运动分析,得到工件相对于抛光盘的速度表达式;在Preston方程基础上,建立了材料去除函数和抛光均匀性函数;进行计算机仿真,讨论了不同转速比对抛光均匀性的影响;并通过加工实验验证了仿真与实验结果的一致性,为抛光加工工艺参数的确定提供理论依据.     

双面抛光加工运动过程分析及运动仿真

分析了双面抛光机的加工过程,建立了抛光晶片在双面抛光机平稳运动状态下运动的数学模型,采用计算机对双面抛光加工进行运动仿真,并通过改变不同的参数值,得出抛光过程中不同参数对抛光效果的影响。通过比较,获得最合理的抛光运动参数,从而得到最好的抛光效果。     

挤压磨料抛光新工艺及其设备

挤压磨料抛光(又称挤压珩磨抛光或磨料流加工)是零件表面光整加工和去毛刺的一种新工艺。它是把一个或成组的加工零件用夹具夹紧后连同特制的磨料装人缸体内封闭,通过推动磨料使其流过被加工零件表面,磨料在挤压力的作用下在零件表面多次往返推磨,从而实现了对零件的光整加工和去毛刺的目的。这种新工艺国外在七十年代首先应用于航空航天部门,八十年代已普遍推广应用于各机械加工行业。哈尔滨透平工程总公司研制成功的ZMLP系列自动挤压磨料抛光机填补了国内空白,并在哈尔滨汽轮机厂正式应用,效果很好,为我国推广应用挤压磨料抛光新工艺创造了保证条件。一、挤压磨料抛光机的主要优点 1.加工范围广。可以对任何形状的零件内外表面进行光整和去毛刺加工,例如:各种冲模、挤     

新型恒速变向平动双面抛光机设计

常用行星式双面抛光机中工件及载体的内外缘速差会引起抛光垫变形,降低晶片平面度.本文设计了一种圆平动或摆动式新型双面抛光机,其工件平面相对于抛光盘的运动速度大小恒定,方向沿圆周轨迹的切线方向循序渐变,且能把抛光压力均匀压在载体内的工件上,该新型双面抛光机具有恒速变向抛光的优点,有较高的抛光效率和抛光精度,体积小,结构紧凑.     

双面抛光机床抛光盘静动态特性分析

为解决传统抛光方法上下表面平行度无法保证和形成工件规律性同轴圆环痕迹的难题,文中设计了工件旋转和二维运动独立控制的大口径光学元件双面快速抛光机床。采用ABAQUS有限元软件对其关键结构件抛光盘组件的静动态特性进行了仿真分析。结果表明：加载后抛光盘最大等效应力为12.63 MPa,最大形变量为8.26μm,能够满足工作精度和工作强度的要求;通过模态仿真计算出抛光盘组件的固有频率高于79 Hz,工作中不会出现共振情况,所建立的仿真模型为抛光盘组件的研制提供了理论参考。     

电化学抛光模具的特点

电解抛光是利用电化学阳极溶解的原理对金属表面进行抛光的一种效率较高的加工方法。现以国产DMP—12型电化学机械修磨抛光机为例介绍电化学抛光的优越性,供读者参考。(1)不受材料硬度和韧性的限制电化学抛光可加     

抛光工艺技术及其应用

介绍了抛光原理与抛光机控制系统的设计,阐述钢质零件的抛光工艺技术。     

超精密双面抛光机结构的优化设计

针对传统双面抛光机存在的问题,从实现超精密抛光的设备条件出发,对机床传动系统、主轴支撑结构、上抛光盘加载系统、抛光盘修整、床身等进行优化改进设计.提高了超精密双面抛光机床的精度和系统性能,为晶片获得纳米级加工精度的超光滑加工表面创造了有利条件.     

双面精磨与双面抛光新工艺

本文介绍了光学冷加工中的一种新工艺——双面精磨与双面抛光,对套环式自由控制双面精磨和抛光工艺的工作原理、零件运动原理、工作装置、加工方法及应注意的问题分别作了阐述。该工艺克服了过去采用单面精磨加工和单面抛光所存在的一些缺点,现已用于生产。实践证明,效果良好,精磨加工比原来提高工效8-10倍;双面抛光比原来提高工效3-5倍,成品率达95％以上。     

小钢珠抛光新工艺

以自行车钢珠为例,其抛光的目的是去掉脱碳层,降低表面粗糙度值达 Ra0.2μ m。目前多数企业仍采用倾斜滚筒抛光工艺,其特点是设备结构简单,操作方便,但生产率低,一般抛光时间需 20～ 30h,产品质量也不高,劳动条件较差。　　为此,我院开发了行星抛光新工艺。行星抛光机传动示意图如图 1所示,电机通过皮带传动使转塔旋转,转塔支撑在中心轴上,行星传动为齿轮传动,中心轮固定在中心轴上,转塔旋转时中心轮通过惰轮使行星轮一边绕中心轴公转,一边绕行星轴自转,行星滚筒和行星轮均固定在行星轴上,因此,行 星滚筒也同时作公转和…     

锻造铝合金抛光新工艺

对LD10锻件的光亮转化膜进行了研究,选出最佳工艺配方及参数。产品外观可达光亮的精饰效果。     

超精密双面抛光机控制系统的研究

介绍了超精密双面抛光机的控制系统,对其实现方法进行了研究,分析了控制系统的组成,提出并建立了基于微机统一控制系统的解决方案.采用Windows软件平台,图形化界面功能指示、高精度光栅传感器、压力传感器、数字阀组成电气联合控制系统,应用新型电气直接数字控制技术实现该机的自动加工.     

锋利型双面槽数控刀片抛光支撑面刀尖磨损研究

通过研究锋利型双面槽数控刀片在抛光时支撑面的尖角磨损现象,分析了抛光刀片的受力并得到其运动模型,得出尖角磨损的一个重要原因是抛光刀片高频率、周期性的相对限位槽运动,设计了两种抛光夹具进行抛光测试验证,探索抛光夹具限位槽间隙、径向位置以及定位销孔间隙对刀片支撑面刀尖磨损的影响规律。实验得出：限位槽间隙对锋利型双面槽刀片支撑面刀尖磨损产生正相关的影响,而当限位槽间隙达到0.6mm后,其正相关的影响减缓;同一限位槽间隙的不同径向位置抛光时对刀尖磨损无明显影响;定位销孔间隙对刀尖磨损有明显的影响,定位销孔间隙越大,刀尖磨损越严重。本研究可指导其他锋利型产品的抛光夹具设计,抛光夹具的限位槽双边间隙设计在0.2～0.4mm为宜,定位销孔略大于支撑盘定位销即可。     

硅晶片抛光加工工艺的实验研究

双面抛光已成为硅晶片的主要后续加方法,但由于需要严格的加工条件,很难获得理想的超光滑表面.设计了硅片双面抛光加工工艺新路线,并在新研制的双面抛光机上对硅晶片进行抛光加工,实验研究了不同加工参数对桂晶片表面粗糙度和材料去除率的影响.采用扫描探针显微镜和激光数字波面干涉仪分别对加工后的硅晶片进行测量,实验结果表明:在优化实验条件下硅晶片可以获得表面粗糙度0.533nm的超光滑表面.     

铝及铝合金无铬电化学抛光新工艺

本文对铝及铝合金的电化学抛光进行了研究，研制出一种组合添加剂（ＡＰＨ）代替铬酸，抛光效果达到和超过含铬电化学抛光，消除了铬的污染。     

蛇纹石抛光工艺的研究

以试验为基础研究了蛇纹石的抛光工艺,并对各种抛光条件对表面光泽度的影响进行了探讨。结果表明,选用合适的抛光剂、抛光时间、预加工光泽度、冷却方式及抛光工具材料,光泽度可达９０以上。此抛光工艺简单、经济、高效。     

影响大米抛光机抛光效果的因素分析

随着我国经济的快速发展，人民生活水平的不断提高，大米深加工工艺在国内应运而生。因而，从事粮机行业的科研、制造单位纷纷瞄准大米抛光机市场，先后引进国外先进的大米抛光技术，研究设计出各种各样的大米抛光机。目前大米抛光机在国内应用已十分广泛，而如何降低增碎。提高米粒完整率和表面光亮度则是更加值得关注的问题，在这里就影响大米抛光机抛光效果的因素作进一步分析，供大家参考。